高密度可录光盘存储材料:金属卟啉配合物

金属卟啉配合物在 4 0 0— 6 5 0nm波段具有优良的光学性质 ,是一类新型高密度可录光盘存储介质材料。本文在总结近年来最新研究成果的基础上 ,阐述了金属卟啉配合物的结构特点、合成方法和作为高密度可录光盘存储介质的作用机理 ,讨论了影响卟啉配合物性质和光存储性能的主要因素 。

磁存储的研究现状及发展方向

磁性存储是最常用的大容量存储技术,其记录密度越来越高,发展也越来越快。通过对信息记录、读出和存储3个过程的分析,对硬磁盘记录、垂直磁记录和磁光记录的优缺点作了对比,指出了采用垂直记录模式、非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密度记录的方向,光辅助磁记录是很有希望的记录技术。还指出量子磁盘技术是未来极高密度记录的方向。

CoCrPt/Cr Ti玻璃盘基硬盘记录介质的制备与性能

采用射频磁控溅射方法制备了CoCrPt/CrTi玻璃盘基高密度硬盘薄膜记录介质 ,讨论并分析了溅射气体的气压、基片温度、底层和磁性层组分对高密度硬盘记录介质性能的影响 ,给出了介质的底层、磁记录层的最佳组分和溅射中最佳工艺参数范围 .其最佳组分、结构与工艺参数为 :Co68Cr17Pt15/Cr85Ti15双层膜结构 ,氩气压为 0 .5 6～ 0 .6 0Pa ,在 5 5 0℃纯N2 保护下保温 1h后在炉内自然冷却至室温 .实验结果表明采用优化工艺条件 ,并经过退火处理后可以得到适于巨磁电阻磁头读写的高密度硬盘记录介质 .

硬磁盘与近场记录光盘浮动性能比较分析

本文分析了硬磁盘以及近场记录光盘记录密度与浮动间距之间的关系 ,在分析对比的基础上 ,得出了在同等浮动间距的情况下 ,近场记录光盘面记录密度比硬磁盘高大约 2 8倍 ;在同等面记录密度的情况下 ,对硬磁盘浮动性能的要求比近场记录光盘高近 10倍的结论 .

硬盘磁记录介质的现状与发展

讨论了现有介质、新介质的材料与结构,以及其工艺技术的现状。并展望了高密度硬盘磁记录介质的未来。指出高密度、高信噪比S/N的硬盘介质要求有高的矫顽力和小的磁记录畴。

用ASPI控制硬盘实现高速数据记录

分析了目前一些高速硬盘记录系统结构的优缺点;主张采用经济通用的高速数据采集卡、小型计算机系统接口(small computer system interface, SCSI)适配卡和SCSI硬盘构建的高速硬盘记录系统;指出在软件中用高级SCSI编程接口(advanced SCSI programming interface,ASPI)直接控制SCSI硬盘,以地址顺序递增的方式记录数据,可使数据的记录速度明显提高;最后给出了系统测试结果,其持续记录达到40 MB/s.

可擦重写相变光盘的研究进展

文章综述了可擦重写相变光盘的研究进展 ,简单介绍了其记录原理、记录性能和记录材料 。

玻璃盘基对高密度硬盘介质静态磁性参数测量的影响和消除方法

高密度硬盘介质静态磁性参数的精确测量对研制高密度硬盘至关重要。本文从测量系统和材料两方面对玻璃基噪声的影响机理做了较详尽的分析;并介绍了消除玻璃基噪声影响的四种方法,这四种方法在测量同一硬盘介质静态磁性参数时相对偏差小于5%,因此这四种方法都是切实可行的。

深亚微米光记录测试仪

详细描述了进行亚微米、深亚微米光记录和探测的测试仪器,其探测功率可达30mW,最小的探测时间为20ns,探测的最小光点200nm左右,带有CCD观察的系统可方便地定位及进行图像处理,整个测量过程均在计算机控制下进行,操作非常方便.它是对高密度光盘材料记录性能进行测量,以及对深亚微米,乃至纳米记录材料进行研究的有效工具.

基于JPEG2000的高清硬盘录像机系统软件设计

设计了一个基于Mac平台和高清硬件实时编解码卡的高清硬盘录像机系统,该系统采用JPEG2000帧内压缩技术,音视频质量优异,性能稳定可靠,非常适合于高清视频采集及播出等应用。

高密度硬盘介质基本磁特性参数高精度测量

分析了影响VSM精确测量高密度硬盘介质磁基本特性参数的几个因素———仪器定标、检测线圈安装位置、锁相放大的时间常数、外加磁场的扫描周期、盘基衬底噪声和退磁场等 ,在综合考虑并消除诸因素的影响后 ,使自制高密度硬盘盘片介质的磁基本特性参数获得了较高精度 ,通过本VSM测试系统 ,得到磁记录介质的平滑磁滞回线 ,通过多次测量 ,由磁滞回线计算的磁基本特性参数相对误差小于 1 % .

磁盘存储技术

文章根据磁盘驱动器容量与速度性能的最新成就以及近年来它们的增长速率展望了90年代磁盘存储技术的发展趋向,并推测了2000年可能达到的水平.

发展中的硬盘磁记录介质

讨论了现有介质、新介质的材料与结构及其工艺技术的现状，并展望了高密度硬盘磁记录介质的未来。指出高密度、高信噪比（ S/N）的硬盘介质要求有高的矫顽力和小的磁记录畴。

迎接GMR磁头时代

本文列举一些新磁盘驱动器产品实例、介绍巨磁变阻头GMR Head技术并展望未来。

超高密度磁存储的展望

磁性存储是最常用的海量存储技术，其记录密度越来越高，发展也越来越快。本文通过对信息记录、读出和存储三个过程的分析，对比了硬磁盘记录、垂直磁记录和磁光记录的优缺点，指出了采用垂直记录模式、非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密记录的方向，光辅助磁记录是很有希望的记录技术。同时，还指出量子磁盘技术是未来极高密记录的方向。

光聚物全息光盘记录方法和光路的优化

提出了适用于光聚物厚膜盘状高密度全息存储的角度空间复用相结合的存储方法。研究了光路设置对记录容量和密度的影响 ,分析和计算表明 :对全息光盘光聚物全息存储介质来说 ,新方法可以获得比空间角度复用存储方法高近一个数量级的存储容量和密度 ,当使用平面波做参考光、介质内参物光入射角度在 32°时是获得最大存储容量和密度的最佳设置 ;对 5 0 0 μm厚的光聚物介质 ,存储密度可达到 42bit/ μm2 ,用CD ROM同样大小的全息光盘 ,在其相同的有效记录面积上 ,其总容量可以达到 40 0Gbit,表明新方法是实用化光聚物盘状全息存储比较理想的方法。