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Holographic laser fabrication of 3D artificial compound μ-eyes 被引量:2
1
作者 Lei Wang Wei Gong +3 位作者 Xiao-Wen Cao Yan-Hao Yu Saulius Juodkazis Qi-Dai Chen 《Light(Advanced Manufacturing)》 2023年第4期1-9,共9页
The demand for fast optical image acquisition without movable optical elements(e.g.,for self-driving car technology)can be met using bioinspired 3D compound eyes.3D laser processing strategies enable designable 3D str... The demand for fast optical image acquisition without movable optical elements(e.g.,for self-driving car technology)can be met using bioinspired 3D compound eyes.3D laser processing strategies enable designable 3D structuring but suffer from low fabrication efficiency,which significantly limits their applications in producing complex 3D optical devices.Herein,we demonstrate a versatile yet simple wet-etching-assisted holographic laser fabrication method for the development of 3D compound eyes.Artificial compoundμ-eyes can be readily fabricated by programming a 3D spot array for the parallel ablation of a curved fused silica surface,followed by controllable etching in a hydrofluoric(HF)acid solution.A 3D-concave-lens array made on a curved surface over an area of 100μm cross-section with each lenslet of 10μm radius was fabricated with high fidelity and excellent imaging/focusing quality.The resultant 3D-concave-lens can serve as a hard template for the mass production of soft compound eyes through soft lithography.Additionally,using a generative adversarial network(GAN)-based deep learning algorithm,image restoration was conducted for each lenslet,which retained a large field of view and significantly improved image quality.This method provides a simple solution to the requirements of compoundμ-eyes required by Industry 4.0. 展开更多
关键词 holographic laser fabrication Wet etching compound eye MICRO-OPTICS Fast imaging Imaging restoration
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宽波段全息-离子束刻蚀光栅的设计及工艺 被引量:9
2
作者 吴娜 谭鑫 +1 位作者 于海利 张方程 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期1978-1983,共6页
设计和制作了一种在同一基底上具有多闪耀角的宽波段全息-离子束刻蚀光栅。提出了组合形成宽波段全息-离子束刻蚀光栅的分区设计方法,优化了3种闪耀角混合的宽波段全息光栅设计参数,并利用反应离子束刻蚀装置对该光刻胶掩模进行刻蚀图... 设计和制作了一种在同一基底上具有多闪耀角的宽波段全息-离子束刻蚀光栅。提出了组合形成宽波段全息-离子束刻蚀光栅的分区设计方法,优化了3种闪耀角混合的宽波段全息光栅设计参数,并利用反应离子束刻蚀装置对该光刻胶掩模进行刻蚀图形转移,采用分段、分步离子束刻蚀技术开展了获得不同闪耀角的离子束刻蚀实验。最后在同一光栅基底上分区制作了位相相同,并具有9,18,29°3个不同闪耀角,口径为60mm×60mm,使用波段为200~900nm的宽波段全息光栅。衍射效率测试结果显示其在使用波段的最低衍射效率超过30%,最高衍射效率超过50%,实验结果与理论计算结果基本符合。与其它方式制作的宽波段光栅相比,采用宽波段全息-离子束刻蚀光栅不但工艺成熟,易于控制光栅槽形,而且光栅有效面积尺寸较大,便于批量复制。 展开更多
关键词 全息光栅 宽波段光栅 离子束刻蚀 刻蚀模拟
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用于1m Seya-Namioka单色仪的1200lp/mm Laminar光栅 被引量:8
3
作者 徐向东 刘正坤 +3 位作者 邱克强 刘颖 洪义麟 付绍军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期1-8,共8页
针对国家同步辐射实验室燃烧与火焰实验站中1mSeya-Namioka单色仪对光栅的需求,采用全息离子束刻蚀工艺制作了1 200lp/mm Laminar光栅。首先,通过光刻胶灰化技术调节光刻胶光栅掩模占空比,在理论设计的误差允许范围内,对此光栅掩模进行... 针对国家同步辐射实验室燃烧与火焰实验站中1mSeya-Namioka单色仪对光栅的需求,采用全息离子束刻蚀工艺制作了1 200lp/mm Laminar光栅。首先,通过光刻胶灰化技术调节光刻胶光栅掩模占空比,在理论设计的误差允许范围内,对此光栅掩模进行扫描离子束刻蚀;然后,将光栅图形转移到光栅基底中去除残余光刻胶;最后,采用离子束溅射法镀制厚约40nm的金反射膜,采用热蒸发法镀制厚约60nm的铝反射膜。用原子力显微镜分析光栅微结构,结果显示光栅槽深为40nm,占空比为0.45。同步辐射在线波长扫描测试结果表明,镀铝光栅效率明显高于镀金光栅,获得的实验结果与理论计算结果基本符合。镀金光栅已替代进口光栅在线使用3年,其寿命大大超过复制光栅,基本满足了燃烧实验站的实验研究需求。 展开更多
关键词 单色仪 衍射光栅 全息光刻 离子束刻蚀 真空紫外
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同步辐射Laminar光栅的研制 被引量:5
4
作者 徐向东 洪义麟 +3 位作者 霍同林 周洪军 陶晓明 傅绍军 《光学技术》 CAS CSCD 2001年第5期459-461,468,共4页
采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺 ,在熔石英基片上成功地刻蚀出 2 0 0l/mm、线空比 4:6、槽深 70nm、刻划面积 60× 2 0mm2 的浅槽矩形Laminar光栅。对改进光栅线条粗糙度和线空比的方法进行了系统的研究。这一新... 采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺 ,在熔石英基片上成功地刻蚀出 2 0 0l/mm、线空比 4:6、槽深 70nm、刻划面积 60× 2 0mm2 的浅槽矩形Laminar光栅。对改进光栅线条粗糙度和线空比的方法进行了系统的研究。这一新工艺相对简单 。 展开更多
关键词 Laminar光栅 全息光刻 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 同步辐射
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闪耀全息光栅离子束刻蚀工艺模拟及实验验证 被引量:10
5
作者 吴娜 谭鑫 +1 位作者 巴音贺希格 唐玉国 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期1904-1912,共9页
依据特征曲线法推导了非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程,结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序,并通过实验数据分析并优化了非晶体材料刻蚀速率与离子束入射角的关系方程,最后利用离子束刻蚀实验对所开发的离子束刻蚀模拟程... 依据特征曲线法推导了非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程,结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序,并通过实验数据分析并优化了非晶体材料刻蚀速率与离子束入射角的关系方程,最后利用离子束刻蚀实验对所开发的离子束刻蚀模拟程序进行了实验验证。调节掩模与基底材料的刻蚀速率比为2∶1至1∶2,制作了线密度为1 200l/mm,闪耀角为~8.6°,非闪耀角为34°~98°的4种闪耀光栅,与刻蚀模拟程序的结果进行对比,模拟误差<5%;控制离子束刻蚀时间为6~14min,制作了线密度为1 200l/mm,闪耀角为~8.6°,顶角平台横向尺寸为0~211nm的6种光栅,与刻蚀模拟程序的模拟结果进行对比,模拟误差<1%。比较实验及离子束刻蚀模拟结果表明,离子束刻蚀模拟程序获得的模拟刻蚀轮廓曲线与实际刻蚀轮廓曲线的误差<5%;模拟刻蚀截止点与实际刻蚀截止点误差<1%。实验表明,提出的模拟方程可以准确地描述不同工艺过程和工艺参数对最终刻蚀结果的影响,进而可预知和控制离子束刻蚀过程。 展开更多
关键词 闪耀光栅 全息光栅 衍射效率 刻蚀模拟 离子束刻蚀
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高效平面全息衍射光栅的获取方法 被引量:21
6
作者 赵博 齐向东 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2001年第2期109-114,共6页
从全息衍射光栅的制作原理出发 ,介绍了全息光栅的主要制作方法 ,并与刻划光栅对比分析了全息衍射光栅的诸多优点。通过利用光栅设计的耦合波理论对全息衍射光栅槽型、槽深及槽间距等进行了优化设计 ,同时利用离子束刻蚀技术获得了高效... 从全息衍射光栅的制作原理出发 ,介绍了全息光栅的主要制作方法 ,并与刻划光栅对比分析了全息衍射光栅的诸多优点。通过利用光栅设计的耦合波理论对全息衍射光栅槽型、槽深及槽间距等进行了优化设计 ,同时利用离子束刻蚀技术获得了高效率全息光栅。 展开更多
关键词 全息光栅 离子刻蚀 衍射效率
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用于强激光系统的光栅偏振器 被引量:5
7
作者 刘全 吴建宏 郭培亮 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期2962-2968,共7页
针对强激光系统中常用的1 053nm激光器进行了偏振光栅结构的优化设计。利用严格耦合波理论分析了光栅偏振器的衍射特性及消光比,分析显示偏振光栅周期为600nm,占宽比为0.535~0.55,槽形深度为1 395nm^1 420nm时,可保证其在1 053nm波长下... 针对强激光系统中常用的1 053nm激光器进行了偏振光栅结构的优化设计。利用严格耦合波理论分析了光栅偏振器的衍射特性及消光比,分析显示偏振光栅周期为600nm,占宽比为0.535~0.55,槽形深度为1 395nm^1 420nm时,可保证其在1 053nm波长下,透射率高于95%,消光比大于1 500。基于分析结果,利用全息光刻技术制作了高质量光刻胶光栅掩模,并采用倾斜转动的离子束刻蚀结合反应离子束刻蚀的方法对该光刻胶光栅掩模进行图形转移,制作了底部占宽比为0.54,槽形深度为1 400nm的光栅偏振器。实验测量显示其透射率为92.9%,消光比达到160。与其他制作光栅偏振器方法相比,采用单光刻胶光栅掩模结合倾斜转动的离子束刻蚀工艺,不但简化了制作工艺,而且具有激光损伤阈值高、成本低的优点。由于该技术可制作大面积光栅,特别利于在强激光系统中应用。 展开更多
关键词 高功率激光系统 光栅偏振器 严格耦合波理论 全息光刻 离子束刻蚀
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掺杂LiNbO_3晶体的生长缺陷与其体全息存储性能的研究 被引量:3
8
作者 刘金伟 刘国庆 +1 位作者 江竹青 陶世荃 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期865-869,共5页
本文叙述了利用侵蚀法研究掺杂L iNbO3的晶体缺陷,并讨论了晶体缺陷的形成机理以及其与体全息存储性能的关系。通过实验发现了常温下侵蚀铌酸锂晶体的规律,并利用侵蚀法观测到铌酸锂晶体样品表面呈三角锥状的位错侵蚀坑。测量了晶体样... 本文叙述了利用侵蚀法研究掺杂L iNbO3的晶体缺陷,并讨论了晶体缺陷的形成机理以及其与体全息存储性能的关系。通过实验发现了常温下侵蚀铌酸锂晶体的规律,并利用侵蚀法观测到铌酸锂晶体样品表面呈三角锥状的位错侵蚀坑。测量了晶体样品的散射噪声,从中找出了晶体缺陷与存储图像质量关系。并发现掺Zn的Fe:L iNbO3晶体其晶体缺陷减少,晶体体全息存储性能有了明显提高。 展开更多
关键词 铌酸锂晶体 位错缺陷 侵蚀观测法 散射噪声 体全息存储
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光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作 被引量:5
9
作者 徐向东 周洪军 +3 位作者 洪义麟 霍同林 陶晓明 傅绍军 《微细加工技术》 2000年第3期35-38,共4页
在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上 ,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息 离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中 ,并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了 1 2 0 0 1 /mm ,闪耀波长为 1 30nm的锯齿槽形光栅。测试结果表明光刻胶灰化... 在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上 ,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息 离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中 ,并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了 1 2 0 0 1 /mm ,闪耀波长为 1 30nm的锯齿槽形光栅。测试结果表明光刻胶灰化处理对制作大面积优质的光刻胶光栅非常有效和实用。 展开更多
关键词 全息光刻 离子束刻蚀 光刻胶灰化工艺
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基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理
10
作者 李文昊 巴音贺希格 齐向东 《微细加工技术》 EI 2007年第1期11-14,共4页
根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响。实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀。结... 根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响。实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀。结果表明,利用表面张力作用可使熔融状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑,粗糙度降低,并且成功地在K9玻璃基底上得到了槽形较好的全息光栅。 展开更多
关键词 全息光栅 光刻胶热熔法 离子束刻蚀 原子力显微镜
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离子束刻蚀光栅掩模图形转移分析
11
作者 吴娜 《长春工业大学学报》 CAS 2014年第6期628-632,共5页
依据特征曲线法推导出非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程;结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序。模拟程序获得的模拟刻蚀参数可以用于类矩形光栅的刻蚀工艺参数设计,准确地描述不同工艺过程、工艺参数对最终刻蚀结果的影响,... 依据特征曲线法推导出非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程;结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序。模拟程序获得的模拟刻蚀参数可以用于类矩形光栅的刻蚀工艺参数设计,准确地描述不同工艺过程、工艺参数对最终刻蚀结果的影响,进而实现离子束刻蚀过程的可控性和可预知性。 展开更多
关键词 衍射效率 刻蚀模拟 全息光栅
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锯齿槽闪耀光栅制作误差对衍射效率的影响 被引量:2
12
作者 葛建平 沈为民 +1 位作者 刘全 陈明辉 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第6期1557-1561,共5页
与矩形槽和正弦槽光栅相比,锯齿槽光栅具有高的衍射效率,可采用全息离子束刻蚀和单点金刚石车削两种方法制造。首先,介绍了这两种方法的制造误差。然后,分析了这些制造误差对用于可见近红外和长波红外成像光谱仪的光栅衍射效率的影响,... 与矩形槽和正弦槽光栅相比,锯齿槽光栅具有高的衍射效率,可采用全息离子束刻蚀和单点金刚石车削两种方法制造。首先,介绍了这两种方法的制造误差。然后,分析了这些制造误差对用于可见近红外和长波红外成像光谱仪的光栅衍射效率的影响,指出闪耀角误差、槽顶角误差和刻刀圆弧半径是影响锯齿槽光栅衍射效率的关键因素。为制作高质量成像光谱仪用光栅奠定了理论基础和指导。 展开更多
关键词 锯齿槽光栅 全息离子束刻蚀 单点金刚石车削 误差 衍射效率
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用于飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模研制 被引量:6
13
作者 刘全 黄爽爽 +2 位作者 鲁金超 陈新华 吴建宏 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期844-850,共7页
利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2%以内,同时±1级的衍射效率大于35%... 利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2%以内,同时±1级的衍射效率大于35%。在此基础上,利用全息光刻-离子束刻蚀技术,制作了用于520 nm波长飞秒激光的周期为1067 nm、有效面积大于40 mm×30 mm的相位掩模。实际制作的相位掩模是梯形槽形,槽深是0.665μm,分析了梯形槽形中梯形角对衍射效率的影响。实验测量表明,该相位掩模的零级衍射效率小于2%,±1级衍射效率大于40%,满足飞秒激光制作光纤光栅的需要。 展开更多
关键词 全息光刻 相位掩模 严格耦合波理论 离子束刻蚀 衍射效率
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新型全息记录软片DC─TAC的光化学刻蚀特性 被引量:1
14
作者 周兰 余立法 +2 位作者 朱建华 郭履容 汪国平 《光电工程》 CAS CSCD 1994年第4期48-51,47,共5页
报导一种新型全息记录材料(DC─TAC)的光化学刻蚀特性,给出了刻蚀深度对曝光量以及对显影时间的依赖关系,还讨论了刻蚀过程中图形传递的失真度问题。指出了DC─TAC作为微光学元件光刻材料的重要应用前景。
关键词 全息胶片 蚀刻 光刻材料 微光学元件
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光栅干法刻蚀与湿法刻蚀的研究 被引量:2
15
作者 罗飚 陈永诗 +2 位作者 沈坤 阳洪涛 谈春雷 《光学与光电技术》 2003年第1期54-56,共3页
在光栅的制作中有两种方法:其中一个是湿法,另外一个是干法。本文分别就湿法和干法的实验结果,进行比较。用于法刻蚀方法做出了比较好的一级光栅,证明了干法刻蚀优于湿法刻蚀。
关键词 分布式布拉格反馈 干法腐蚀 反应离子刻蚀 全息光刻
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全息离子束摆动刻蚀凸面闪耀光栅制备技术
16
作者 仲健魁 黄元申 +2 位作者 倪争技 徐邦联 张大伟 《光学仪器》 2021年第3期86-94,共9页
高衍射效率的凸面闪耀光栅是高光谱分辨率成像光谱仪的核心分光元件,其制作方法包括机械刻划法、电子束直写法、X射线光刻法、全息离子束刻蚀法等,其中全息离子束刻蚀法因为具备良好的各向异性,不受尺寸与曲面形状限制,杂散光低,完全没... 高衍射效率的凸面闪耀光栅是高光谱分辨率成像光谱仪的核心分光元件,其制作方法包括机械刻划法、电子束直写法、X射线光刻法、全息离子束刻蚀法等,其中全息离子束刻蚀法因为具备良好的各向异性,不受尺寸与曲面形状限制,杂散光低,完全没有鬼线,制造时间短等优点成为现今光栅制造领域常用方法之一。传统全息离子束刻蚀凸面光栅时基底的弯曲会导致槽形闪耀角的不一致性,并且在制作小闪耀角凸面光栅时基底表面会有部分区域无法被刻蚀和槽形曲面不连续的现象,而摆动刻蚀凸面闪耀光栅可以克服上述缺点。对全息离子束刻蚀方法制作凸面闪耀光栅多方面进行了综述。 展开更多
关键词 凸面光栅 全息离子束刻蚀 闪耀角
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全息光刻-反应离子束刻蚀制作硅光栅
17
作者 郑衍畅 王铭 +3 位作者 胡华奎 王雅楠 杨春来 王海 《安徽工程大学学报》 CAS 2019年第6期28-32,45,共6页
全息光刻-反应离子束刻蚀是一种非常重要的制作光栅的方法,而如何解决全息曝光中的驻波问题,提高光栅的制作质量,实现该方法向硅材料等高反射率基底的推广应用是一项急需解决的问题。研究开发了一套完整可行的全息光刻-反应离子束刻蚀... 全息光刻-反应离子束刻蚀是一种非常重要的制作光栅的方法,而如何解决全息曝光中的驻波问题,提高光栅的制作质量,实现该方法向硅材料等高反射率基底的推广应用是一项急需解决的问题。研究开发了一套完整可行的全息光刻-反应离子束刻蚀制作硅光栅的方法,成功制得1μm周期的高质量硅光栅,光栅侧壁陡直且光滑。理论分析得到,全息曝光驻波效应的强弱跟基底的反射率成正相关,通过涂布减反膜将基底反射率降低到了2%以下,成功解决了驻波问题。探究并优化了感应耦合等离子体刻蚀减反膜的工艺参数,得到了陡直且光滑的光栅掩膜。并与热压增大掩膜占宽比的技术相结合,实现了对掩膜占宽比的双向调控,既可调大,也可调小,得到了占宽比分别为0.29和0.44的硅光栅。该方法工艺可控性好,制作质量高,通用性强,不仅适用于硅材料,也可扩展到其他高反射率材料,不仅适用于一维光栅,也可扩展到二维光栅。 展开更多
关键词 硅光栅 全息光刻 反应离子束刻蚀 驻波 感应耦合等离子体刻蚀
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全息离子束刻蚀衍射光栅 被引量:26
18
作者 徐向东 洪义麟 +1 位作者 傅绍军 王占山 《物理》 CAS 北大核心 2004年第5期340-344,共5页
全息离子束刻蚀衍射光栅集中了机械刻划光栅的高效率和全息光栅的无鬼线、低杂散光、高信噪比的优点 .全息离子束刻蚀已作为常规工艺手段应用于真空紫外及软X射线衍射光栅的制作 .文章对全息离子束刻蚀衍射光栅的制作方法、主要类型。
关键词 衍射光栅 全息光刻 离子束刻蚀 全息光学 全息光栅 光栅制作
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角分辨光电子能谱光束线1200line/mm光栅研制 被引量:4
19
作者 徐向东 刘正坤 +3 位作者 邱克强 刘颖 洪义麟 付绍军 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期58-62,共5页
国家同步辐射实验室新建了覆盖5~40eV的低能区高分辨率角分辨光电子能谱光束线。其球面光栅单色仪包含了三块光栅,即300,600和1200line/mm球面层式(Laminar)光栅。采用全息离子束刻蚀工艺,在硅光栅基片上成功地刻蚀出1200line/mm、占空... 国家同步辐射实验室新建了覆盖5~40eV的低能区高分辨率角分辨光电子能谱光束线。其球面光栅单色仪包含了三块光栅,即300,600和1200line/mm球面层式(Laminar)光栅。采用全息离子束刻蚀工艺,在硅光栅基片上成功地刻蚀出1200line/mm、占空比0.35、槽深35nm、有效刻划面积大于120mm×20mm的Laminar光栅。在角分辨光电子能谱光束线完成调试的同时,进行了初步的光谱标定及性能测试。波长的刻度和光谱测试直接采用波荡器辐射作为光源,用已知气体的吸收峰做标准来进行标定。测量结果表明:1200line/mm光栅测量Ar的吸收谱,在29.2eV附近可得到2.6meV的能量分辨,分辨本领约为11000,满足了光束线设计要求。 展开更多
关键词 衍射光栅 全息光刻 离子束刻蚀 角分辨光电子能谱
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Ar^+离子束刻蚀制作凸面闪耀光栅 被引量:10
20
作者 汪海宾 刘全 吴建宏 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期49-53,共5页
凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小,制作工艺难度大,其衍射效率与理论值有较大差距,一直制约其应用。针对上述问题与难点进行了分析,通过光刻胶光栅掩模制作和Ar+离子束刻蚀等... 凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小,制作工艺难度大,其衍射效率与理论值有较大差距,一直制约其应用。针对上述问题与难点进行了分析,通过光刻胶光栅掩模制作和Ar+离子束刻蚀等工艺制作了凸面闪耀光栅。针对离子束大掠入射刻蚀凸球面时槽形闪耀角不易一致的难题,利用转动扫描刻蚀实现了球面上的闪耀光栅刻蚀,最终制作出了约4.3°闪耀角的凸面闪耀光栅,在400~800nm波段范围内,其+1级衍射光效率均值达40%以上。 展开更多
关键词 衍射光栅 凸面闪耀光栅 全息光刻 Ar^+离子束刻蚀 衍射效率
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