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Study on stability of hydrogenated amorphous silicon films 被引量:2
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作者 朱秀红 陈光华 +5 位作者 张文理 丁毅 马占洁 胡跃辉 何斌 荣延栋 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第11期2348-2351,共4页
Hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) films with high and same order of magnitude photosensitivity (-10^5) but different stability were prepared by using microwave electron cyclotron resonance chemical vapour d... Hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) films with high and same order of magnitude photosensitivity (-10^5) but different stability were prepared by using microwave electron cyclotron resonance chemical vapour deposition system under the different deposition conditions. It was proposed that there was no direct correlation between the photosensitivity and the hydrogen content (CH) as well as H-Si bonding configurations, but for the stability, they were the critical factors. The experimental results indicated that higher substrate temperature, hydrogen dilution ratio and lower deposition rate played an important role in improving the microstructure of a-Si:H films. We used hydrogen elimination model to explain our experimental results. 展开更多
关键词 hydrogenated amorphous silicon (a-si:h films PhOTOSENSITIVITY STABILITY microstructure hydrogen elimination hE) model
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气体流量对氢化非晶氧化硅(a-SiO_x∶H)钝化性能影响 被引量:1
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作者 何玉平 袁贤 +1 位作者 刘宁 黄海宾 《南昌工程学院学报》 CAS 2018年第4期53-56,90,共5页
本征钝化层是非晶硅/晶体硅异质结太阳电池的核心技术之一,以n型直拉单晶硅片(n-Cz-Si)为衬底采用热丝化学气相沉积法(HWCVD)沉积氢化非晶氧化硅(a-SiO_x∶H),研究气体流量对其钝化性能的影响。结果表明,CO_2,H_2,SiH_4流量均能显著的影... 本征钝化层是非晶硅/晶体硅异质结太阳电池的核心技术之一,以n型直拉单晶硅片(n-Cz-Si)为衬底采用热丝化学气相沉积法(HWCVD)沉积氢化非晶氧化硅(a-SiO_x∶H),研究气体流量对其钝化性能的影响。结果表明,CO_2,H_2,SiH_4流量均能显著的影响a-SiO_x∶H钝化性能,最优钝化效果CO_2,H_2,SiH_4流量分别为0.3 sccm,16sccm,10 sccm,双面沉积a-SiO_x∶H后硅片的少子寿命达到了466 s(注入浓度取1×10 cm^(-3))。 展开更多
关键词 气体流量 氢化非晶氧化硅(a-siOx∶h) hWCVD 少子寿命 椭偏
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基于沉积温度优化和后退火工艺改善a-Si∶H/c-Si界面钝化质量的研究
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作者 王楠 梁芮 周玉琴 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2019年第7期1287-1292,1313,共7页
a-Si∶H薄膜作为钝化层,在提高硅异质结太阳能电池效率方面发挥关键作用,工业化生产中通常采用PECVD法制备制备a-Si∶H薄膜。在本文中,首先对关键工艺参数如沉积温度进行了优化,并在160℃下获得了最佳的钝化效果。接着,通过傅里叶变换... a-Si∶H薄膜作为钝化层,在提高硅异质结太阳能电池效率方面发挥关键作用,工业化生产中通常采用PECVD法制备制备a-Si∶H薄膜。在本文中,首先对关键工艺参数如沉积温度进行了优化,并在160℃下获得了最佳的钝化效果。接着,通过傅里叶变换红外光谱法对a-Si∶H薄膜的微结构进行表征,以探索其钝化机理:低温下制备的a-Si∶H薄膜氢浓度高并有微空洞,从而影响钝化效果;高温下制备的a-Si∶H薄膜消除了微空洞而明显改善钝化质量。但是,过高的沉积温度又会导致a-Si∶H薄膜中微空位的产生从而影响钝化效果。此外,对比了两种典型后退火工艺对钝化效果的影响:一种是基于200℃退火10min,一种是基于450℃退火30s,并对相关钝化机理进行了研究。结果表明,第二种退火方式明显改善样品的钝化效果,主要原因是该退火消除了低温沉积样品中的微空洞和高温沉积样品中的微空位。最后,通过透射电镜研究了退火后的a-Si∶H/c-Si界面微结构,并未观察到影响钝化效果的外延生长。 展开更多
关键词 氢化非晶硅 a-sih/c-Si界面钝化 后退火处理 钝化机理
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基板支撑梢对TFT栅界面SiN_x和a-Si成膜特性的影响 被引量:6
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作者 王守坤 孙亮 +3 位作者 郝昭慧 朱夏明 袁剑峰 林承武 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2012年第5期613-617,共5页
采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制得氮化硅和氢化非晶硅薄膜,对PECVD设备中基板支撑梢区域的膜质进行了研究。结果显示基板支撑梢对氮化硅薄膜的影响是:基板支撑梢区域的膜厚(沉积速率)高于非基板支撑梢区域,氢含量及[SiH/NH]... 采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制得氮化硅和氢化非晶硅薄膜,对PECVD设备中基板支撑梢区域的膜质进行了研究。结果显示基板支撑梢对氮化硅薄膜的影响是:基板支撑梢区域的膜厚(沉积速率)高于非基板支撑梢区域,氢含量及[SiH/NH]值高于非基板支撑梢;对氢化非晶硅薄膜的影响是:基板支撑梢区域的膜厚(沉积速率)小于非基板支撑梢区域,氢含量高于非基板支撑梢。并对成膜影响的机理进行了分析讨论。 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相沉积法 基撑梢 氮化硅膜 氢化非晶硅膜 傅里叶红外分析
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High Responsivity and Ultra-Low Detection Limits in Nonlinear a-Si:H p-i-n Photodiodes Enabled by Photogating
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作者 Andreas BABLICH Maurice MÜLLER +2 位作者 Rainer BORNEMANN Andreas NACHTIGAL Peter HARING BOLÍVAR 《Photonic Sensors》 SCIE EI CSCD 2023年第4期27-38,共12页
Photodetectors operating at the wavelength in the visible spectrum are key components in high-performance optoelectronic systems.In this work,massive nonlinearities in amorphous silicon p-i-n photodiodes enabled by th... Photodetectors operating at the wavelength in the visible spectrum are key components in high-performance optoelectronic systems.In this work,massive nonlinearities in amorphous silicon p-i-n photodiodes enabled by the photogating are presented,resulting in responsivities up to 744 mA/W at blue wavelengths.The detectors exhibit significant responsivity gains at optical modulation frequencies exceeding MHz and a more than 60-fold enhanced spectral response compared to the non-gated state.The detection limits down to 10.4 nW/mm^(2) and mean signal-to-noise ratio enhancements of 8.5dB are demonstrated by illuminating the sensor with an additional 6.6μW/mm^(2) red wavelength.Electro-optical simulations verify photocarrier modulation due to defect-induced field screening to be the origin of such high responsivity gains.The experimental results validate the theory and enable the development of commercially viable and complementary metal oxide semiconductor(CMOS)compatible high responsivity photodetectors operating in the visible range for low-light level imaging and detection. 展开更多
关键词 Photogating amorphous silicon a-si:h NONLINEARITY PhOTODETECTOR responsivity gain
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RF-PECVD制备微晶硅薄膜的X射线衍射研究 被引量:3
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作者 蔡宏琨 张德贤 +4 位作者 何青 赵飞 陶科 席强 孙云 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期545-549,共5页
采用X射线衍射(XRD)技术连续扫描法和薄膜衍射法对RF-PECVD制备的微晶硅薄膜结构进行了研究。改变硅烷浓度和反应功率,控制薄膜的生长速率,已达到制备不同材料的目的。根据硅基薄膜的电学特性和XRD测试,随着反应功率的增加,硅基薄膜的... 采用X射线衍射(XRD)技术连续扫描法和薄膜衍射法对RF-PECVD制备的微晶硅薄膜结构进行了研究。改变硅烷浓度和反应功率,控制薄膜的生长速率,已达到制备不同材料的目的。根据硅基薄膜的电学特性和XRD测试,随着反应功率的增加,硅基薄膜的生长速率不断提高,微晶硅薄膜的晶化程度不断增大。 展开更多
关键词 X射线衍射(XRD) 氢化非晶硅(a-si:h)薄膜 氢化微晶硅(μc-Si:h)薄膜 晶粒尺寸
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基于不同单光子能量拉曼谱的氢化硅薄膜微观特性研究 被引量:1
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作者 王权 胡然 +2 位作者 蒋力耘 丁建宁 何宇亮 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期1528-1531,共4页
用等离子体增强化学汽相沉积法(PECVD)在玻璃和单晶硅(c-Si)衬底上分别制备了氢化纳米硅(nc-Si:H)和非晶硅(a-Si:H)薄膜,用紫外、可见和近红外3种不同波长的激光线对不同形态的Si薄膜进行拉曼散射实验研究。研究发现,这些Si薄膜在不同... 用等离子体增强化学汽相沉积法(PECVD)在玻璃和单晶硅(c-Si)衬底上分别制备了氢化纳米硅(nc-Si:H)和非晶硅(a-Si:H)薄膜,用紫外、可见和近红外3种不同波长的激光线对不同形态的Si薄膜进行拉曼散射实验研究。研究发现,这些Si薄膜在不同的单光子能量的激光线激发下的拉曼谱线形也不同。进而通过对Si薄膜材料中光吸收系数、折射率、消光系数和穿透深度等的理论分析以及薄膜内部原子数密度及键能密度的计算,对实验结果进行了详细的解释。研究表明,在对Si薄膜微观特性的拉曼光谱研究中,应根据薄膜的具体厚度选择最合适的激发波长,才能对精细微结构获得更为深层次的认识。 展开更多
关键词 非晶硅(a-si:h)薄膜 纳米硅(nc-Si:h)薄膜 拉曼散射 单光子能量 波长 穿透深度 应力
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