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InGaP/InGaAs/GaAs DHBT structural materials grown by GSMBE 被引量:2
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作者 AI Likun XU Anhuai SUN Hao ZHU Fuying QI Ming 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z2期20-23,共4页
Heterojunction bipolar transistor (HBT) is of great interest for the application to microwave power and analog circuits. As known, decreasing bandgap energy of the base layer in HBT can result in a smaller turn-on vol... Heterojunction bipolar transistor (HBT) is of great interest for the application to microwave power and analog circuits. As known, decreasing bandgap energy of the base layer in HBT can result in a smaller turn-on voltage. Using InGaAs as a base material in GaAs HBT is a possible approach to achieve the aim. In this work, a novel InGaP/InGaAs/GaAs double heterojunction bipolar transistor (DHBT) structure with an InGaAs base was designed and grown by gas source molecular beam epitaxy (GSMBE). High-quality InGaAs/GaAs hetero epi-layers and a good doping figure were obtained through optimizing the layer structure and the growth condition. The DHBT devices of a 120 μm×120 μm emitter area were fabricated by normal process and the good DC performance was obtained. A breakdown voltage of 10 V and an offset voltage of just 0.4 V were achieved. These results indicate that the InGaP/InGaAs/GaAs DHBT is suitable for low power-dissipation and high power applications. 展开更多
关键词 double heterojunction bipolar transistor (DHBT) gas source molecular beam epitaxy (GSMBE) gallium arsenic (GaAs) indium gallium arsenic (ingaas)
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多通道拉曼光谱仪的主控系统设计
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作者 胡翰文 薛萌 郭汉明 《软件导刊》 2023年第11期155-160,共6页
根据532 nm、633 nm、785 nm和1064 nm 4种波长激光照射到物质上的拉曼光谱采集需求,设计了四通道拉曼光谱仪的主控系统。该系统采用Hamamatsu公司的S11511-1106型面阵CCD和G14237-512WA型线阵铟镓砷图像传感器作为光电转换器;将STM32F... 根据532 nm、633 nm、785 nm和1064 nm 4种波长激光照射到物质上的拉曼光谱采集需求,设计了四通道拉曼光谱仪的主控系统。该系统采用Hamamatsu公司的S11511-1106型面阵CCD和G14237-512WA型线阵铟镓砷图像传感器作为光电转换器;将STM32F407作为控制芯片,实现四通道图像传感器、四通道激光器和四通道电机的控制;利用FPGA实现图像传感器的驱动、A/D模数转换以及光谱数据采集;通过串口将数据传输到电脑端上位机显示。经实验测试,上位机端光谱信号显示准确,可以实现光谱的单次或连续采集;影响光谱成像的电压误差稳定在1.5%以内,纹波系数控制在2%以内。该系统实现了四通道光谱数据采集和传输,可以拓展到其他像元器件设计中,具有一定应用价值。 展开更多
关键词 STM32 FPGA CCD 铟镓砷图像传感器 多通道光谱仪
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极谱法测定砷化镓半导体中的铟
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作者 何为 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第1期108-111,共4页
提出了用微分脉冲极谱法测定砷化镓半导体中铟含量的方法。讨论了测定方法的准确度、灵敏度及干扰情况。测定结果表明,用微分脉冲极谱法测定砷化镓中的铟可测定至5×10-5mol/L,在砷化镓样品量小于0.1g时,其相对标... 提出了用微分脉冲极谱法测定砷化镓半导体中铟含量的方法。讨论了测定方法的准确度、灵敏度及干扰情况。测定结果表明,用微分脉冲极谱法测定砷化镓中的铟可测定至5×10-5mol/L,在砷化镓样品量小于0.1g时,其相对标准偏差小于3%。 展开更多
关键词 砷化镓 极谱分析
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半导体工业废水中除砷的研究 被引量:7
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作者 韩利军 崔育倩 +2 位作者 骆德馨 余季金 马玉新 《青岛大学学报(工程技术版)》 CAS 2004年第1期87-92,共6页
砷、镓、铟等有毒重金属元素作为半导体工业的主要原料,在加工使用过程中部分被当作废弃物而排放到工业废水中,如果这些废水不经处理就直接排放到环境当中去就会污染自然环境,给动植物以及人类造成危害。利用氢氧化钙和硫酸铁作为混凝... 砷、镓、铟等有毒重金属元素作为半导体工业的主要原料,在加工使用过程中部分被当作废弃物而排放到工业废水中,如果这些废水不经处理就直接排放到环境当中去就会污染自然环境,给动植物以及人类造成危害。利用氢氧化钙和硫酸铁作为混凝剂对原始废水进行混凝沉淀,用膨润土、活性炭和有机剂作为吸附剂对沉淀后的上清液进行吸附沉淀等方法,对半导体工业废水中的砷作了有效去除的研究,并得到了相关方法的除污效率,在进行最佳化组合以后,得到了经济且有效的去除方法和药剂组合。 展开更多
关键词 半导体 工业废水 吸附 混凝沉淀 废水处理
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In_(0.5)Ga_(0.5)P/GaAs二维空穴气p沟异质结场效应管
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作者 徐红钢 陈效建 +1 位作者 高建峰 郝西萍 《固体电子学研究与进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期276-280,共5页
提出了一种新颖的 Ga As基 p沟异质结场效应管 (p HFET)概念 ,器件采用了 In0 .5Ga0 .5P/ Ga As异质系统及二维空穴气 (2 DHG)原理以改善 Ga As的空穴输运特性。据此原理研制的器件可在室温下工作 ,其实验结果为 :室温下 ,饱和电流 Idss... 提出了一种新颖的 Ga As基 p沟异质结场效应管 (p HFET)概念 ,器件采用了 In0 .5Ga0 .5P/ Ga As异质系统及二维空穴气 (2 DHG)原理以改善 Ga As的空穴输运特性。据此原理研制的器件可在室温下工作 ,其实验结果为 :室温下 ,饱和电流 Idss=6 1m A/ mm,跨导 gm=4 1m S/ mm;77K下 ,饱和电流 Idss=94 m A/ mm,跨导 gm=6 1m S/ mm。预计该器件在微波和数字电路中极佳的电流密度及高频增益 ,因而具有良好的应用潜力。 展开更多
关键词 铟镓磷/砷化镓 二维空穴气 p沟异质结场效应晶体管
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窄条宽化学气相沉积选区生长InP系材料波长调制的研究
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作者 张瑞英 董杰 +4 位作者 周帆 李国华 边静 冯志伟 王圩 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期832-836,共5页
采用窄条宽选区生长化学气相沉积(NSAG-MOCVD)技术在掩膜宽度0~40μm范围内,获得波长漂移达177.5nm的高质量的InGaAsP材料,经推导,获得各个生长区域的组份、应变和In,Ga的气相浓度增加因子的比值随掩膜条宽的变化关系,并且认为该比值... 采用窄条宽选区生长化学气相沉积(NSAG-MOCVD)技术在掩膜宽度0~40μm范围内,获得波长漂移达177.5nm的高质量的InGaAsP材料,经推导,获得各个生长区域的组份、应变和In,Ga的气相浓度增加因子的比值随掩膜条宽的变化关系,并且认为该比值在阈值掩膜宽度范围内,与Ⅲ族分压比相关,大于阈值掩膜宽度范围内,与Ⅲ族源无关。此外,对材料富In现象作了合理解释。 展开更多
关键词 窄条宽选区生长 化学气相沉积 ingaasP 波长调制 NSAG-MOCVD
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