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Passivation of carbon dimer defects in amorphous SiO_2/4H–SiC(0001) interface:A first-principles study 被引量:3
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作者 Yi-Jie Zhang Zhi-Peng Yin +1 位作者 Yan Su De-Jun Wang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第4期376-383,共8页
An amorphous SiO2/4 H–Si C(0001) interface model with carbon dimer defects is established based on density functional theory of the first-principle plane wave pseudopotential method.The structures of carbon dimer d... An amorphous SiO2/4 H–Si C(0001) interface model with carbon dimer defects is established based on density functional theory of the first-principle plane wave pseudopotential method.The structures of carbon dimer defects after passivation by H2 and NO molecules are established,and the interface states before and after passivation are calculated by the Heyd–Scuseria–Ernzerhof(HSE06) hybrid functional scheme.Calculation results indicate that H2 can be adsorbed on the O2–C = C–O2 defect and the carbon–carbon double bond is converted into a single bond.However,H2 cannot be adsorbed on the O2–(C = C)′ –O2 defect.The NO molecules can be bonded by N and C atoms to transform the carbon–carbon double bonds,thereby passivating the two defects.This study shows that the mechanism for the passivation of Si O2/4 H–SiC(0001) interface carbon dimer defects is to convert the carbon–carbon double bonds into carbon dimers.Moreover,some intermediate structures that can be introduced into the interface state in the band gap should be avoided. 展开更多
关键词 4H-SIC interface defect density of states firstprinciple
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Passivation and dissociation of P_(b)-type defects at a-SiO_(2)/Si interface
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作者 Xue-Hua Liu Wei-Feng Xie +1 位作者 Yang Liu Xu Zuo 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第9期49-55,共7页
It is well known that in the process of thermal oxidation of silicon,there are P_(b)-type defects at amorphous silicon dioxide/silicon(a-SiO_(2)/Si)interface due to strain.These defects have a very important impact on... It is well known that in the process of thermal oxidation of silicon,there are P_(b)-type defects at amorphous silicon dioxide/silicon(a-SiO_(2)/Si)interface due to strain.These defects have a very important impact on the performance and reliability of semiconductor devices.In the process of passivation,hydrogen is usually used to inactivate P_(b)-type defects by the reaction P_(b)+H_(2)→P_(b)H+H.At the same time,P_(b)H centers dissociate according to the chemical reaction P_(b)H→P_(b)+H.Therefore,it is of great significance to study the balance of the passivation and dissociation.In this work,the reaction mechanisms of passivation and dissociation of the P_(b)-type defects are investigated by first-principles calculations.The reaction rates of the passivation and dissociation are calculated by the climbing image-nudged elastic band(CI-NEB)method and harmonic transition state theory(HTST).By coupling the rate equations of the passivation and dissociation reactions,the equilibrium density ratio of the saturated interfacial dangling bonds and interfacial defects(P_(b),P_(b)0,and P_(b)1)at different temperatures is calculated. 展开更多
关键词 first-principles calculation a-SiO_(2)/Si interface P_(b)-type defects equilibrium density
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Improvement in IBC-silicon solar cell performance by insertion of highly doped crystalline layer at heterojunction interfaces 被引量:3
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作者 Hadi Bashiri Mohammad Azim Karami Shahramm Mohammadnejad 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第10期508-514,共7页
By inserting a thin highly doped crystalline silicon layer between the base region and amorphous silicon layer in an interdigitated back-contact (IBC) silicon solar cell, a new passivation layer is investigated. The... By inserting a thin highly doped crystalline silicon layer between the base region and amorphous silicon layer in an interdigitated back-contact (IBC) silicon solar cell, a new passivation layer is investigated. The passivation layer performance is characterized by numerical simulations. Moreover, the dependence of the output parameters of the solar cell on the additional layer parameters (doping concentration and thickness) is studied. By optimizing the additional passivation layer in terms of doping concentration and thickness, the power conversion efficiency could be improved by a factor of 2.5%, open circuit voltage is increased by 30 mV and the fill factor of the solar cell by 7.4%. The performance enhancement is achieved due to the decrease of recombination rate, a decrease in solar cell resistivity and improvement of field effect passivation at heterojunction interface. The above-mentioned results are compared with reported results of the same conventional interdigitated back-contact silicon solar cell structure. Furthermore, the effect of a-Si:H/c-Si interface defect density on IBC silicon solar cell parameters with a new passivation layer is studied. The additional passivation layer also reduces the sensitivity of output parameter of solar cell to interface defect density. 展开更多
关键词 IBC silicon solar cells interface layer recombination interface defect density
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Required CIGS and CIGS/Mo Interface Properties for High-Efficiency Cu(In, Ga)Se<SUB>2</SUB>Based Solar Cells
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作者 Soumaïla Ouédraogo Marcel Bawindsom Kébré +3 位作者 Ariel Teyou Ngoupo Daouda Oubda François Zougmoré Jean-Marie Ndjaka 《Advances in Materials Physics and Chemistry》 2020年第7期151-166,共16页
In this work, we have modeled and simulated the electrical performance of CIGS thin-film solar cell using one-dimensional simulation software (SCAPS-1D). Starting from a baseline model that reproduced the experimental... In this work, we have modeled and simulated the electrical performance of CIGS thin-film solar cell using one-dimensional simulation software (SCAPS-1D). Starting from a baseline model that reproduced the experimental results, the properties of the absorber layer and the CIGS/Mo interface have been explored, and the requirements for high-efficiency CIGS solar cell were proposed. Simulation results show that the band-gap, acceptor density, defect density are crucial parameters that affect the performance of the solar cell. The best conversion efficiency is obtained when the absorber band-gap is around 1.2 eV, the acceptor density at 10<sup>16</sup> cm<sup><span style="white-space:nowrap;">&#8722;</span>3</sup> and the defect density less than 10<sup>14</sup> cm<sup><span style="white-space:nowrap;">&#8722;</span>3</sup>. In addition, CIGS/Mo interface has been investigated. It appears that a thin MoSe<sub>2</sub> layer reduces recombination at this interface. An improvement of 1.5 to 2.5 mA/cm<sup>2</sup> in the current density (<em>J<sub>sc</sub></em>) depending on the absorber thickness is obtained. 展开更多
关键词 Cu(In Ga)Se2 Band-Gap Acceptor density defect density Mo/CIGS-interface
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拉伸应变下SiC/SiO_(2)近界面碳缺陷的结构和电学特性演变
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作者 马玉洁 刘涵 +3 位作者 张圆 崔鹏飞 苏艳 王德君 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第3期206-212,共7页
SiC/SiO_(2)界面拉伸应变对SiC MOSFET器件的电学性质和可靠性变化有重要影响。通过第一性原理密度泛函计算,建立了4H-SiC/SiO_(2)的界面结构,研究了不同拉伸应变对近界面碳碳双键(C=C)和碳氧双键(C=O)缺陷的结构和电子特性的影响。计... SiC/SiO_(2)界面拉伸应变对SiC MOSFET器件的电学性质和可靠性变化有重要影响。通过第一性原理密度泛函计算,建立了4H-SiC/SiO_(2)的界面结构,研究了不同拉伸应变对近界面碳碳双键(C=C)和碳氧双键(C=O)缺陷的结构和电子特性的影响。计算结果表明,在较小应变下C=C和C=O缺陷模型所受应力随应变线性增加,缺陷形成能减小,说明此时拉伸应变使这两种缺陷更容易形成。应变超过20%后,两种缺陷结构附近出现电子离域化,部分化学键断裂,缺陷结构遭到破坏。根据电荷态密度计算得出,拉伸应变的增加会使界面结构的带隙减小及缺陷能级位置改变,从而引起阈值电压漂移,这是拉伸应变引起SiC MOSFET性能不稳定的主要原因。 展开更多
关键词 碳化硅 近界面缺陷 拉伸应变 态密度 第一性原理
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基于CuS空穴传输材料的钙钛矿电池的性能研究
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作者 黄孝坤 杨爱军 +2 位作者 黎健生 江琳沁 邱羽 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第3期485-492,共8页
为进一步降低钙钛矿太阳能电池(PSCs)制备成本,提高其稳定性,需要可低温制备、稳定和高效的无机空穴传输层。本文利用太阳能电池模拟软件SCAPS-1D对基于CuS空穴传输层的钙钛矿电池进行电学仿真,探讨了吸光层的厚度和缺陷态密度、界面层... 为进一步降低钙钛矿太阳能电池(PSCs)制备成本,提高其稳定性,需要可低温制备、稳定和高效的无机空穴传输层。本文利用太阳能电池模拟软件SCAPS-1D对基于CuS空穴传输层的钙钛矿电池进行电学仿真,探讨了吸光层的厚度和缺陷态密度、界面层缺陷态密度以及空穴传输层电子亲和能对太阳能电池性能的影响。从模拟结果可知,当钙钛矿薄膜的厚度为400 nm,吸光层和界面的缺陷态密度小于10-16 cm^(-3),且CuS的电子亲和能为3.3 eV时,电池性能较佳。优化后的电池性能如下:开路电压(V oc)为1.07 V,短路电流(J sc)为22.72 mA/cm^(2),填充因子(FF)为0.85,光电转换效率(PCE)为20.64%。本研究为基于CuS的高效钙钛矿太阳能电池的实验制备提供了理论上的指导。 展开更多
关键词 钙钛矿太阳能电池 CUS 空穴传输层 数值模拟 界面 缺陷态密度
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SiO_2/4H-SiC(0001)界面过渡区的ADXPS研究 被引量:2
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作者 王德君 赵亮 +3 位作者 朱巧智 马继开 陈素华 王海波 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期944-949,共6页
采用角依赖X射线光电子谱技术(ADXPS)对高温氧化SiO2/4H—SiC(0001)界面过渡区的组成、成分分布等进行了研究.通过控制1%浓度HF酸刻蚀氧化膜的时间,制备出超薄膜(1~1.5nm)样品,同时借助标准物对照分析,提高了谱峰分解的... 采用角依赖X射线光电子谱技术(ADXPS)对高温氧化SiO2/4H—SiC(0001)界面过渡区的组成、成分分布等进行了研究.通过控制1%浓度HF酸刻蚀氧化膜的时间,制备出超薄膜(1~1.5nm)样品,同时借助标准物对照分析,提高了谱峰分解的可靠性.结果显示,高温氧化形成的SiO2/4H-SiC(0001)界面,同时存在着Si^,Si^2+,Si^3+ 3种低值氧化物,变角分析表明,一个分层模型适合于描述该过+渡区的成分分布.建立了过渡区的原子级模型并计算了氧化膜厚度.结合过渡区各成分含量的变化及电容-电压(C-V)测试分析,揭示了过渡区成分与界面态的直接关系. 展开更多
关键词 SiO2/SiC界面 4H—SiC ADXPS 界面态 缺陷
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非晶硅/晶体硅(a-Si/c-Si)异质结 被引量:1
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作者 汪建强 高华 +4 位作者 张剑 张松 李晨 叶庆好 孟凡英 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期798-803,共6页
通过对非晶硅/晶体硅(a-Si/c-Si)异质结能带不连续、发射结掺杂以及界面态密度进行分析,研究它们对a-Si/c-Si异质结的界面特性,以及a-Si(N+)/c-Si(P)结构电池性能的影响.研究发现,能带不连续以及a-Si发射结高掺杂有利于实现界面复合机... 通过对非晶硅/晶体硅(a-Si/c-Si)异质结能带不连续、发射结掺杂以及界面态密度进行分析,研究它们对a-Si/c-Si异质结的界面特性,以及a-Si(N+)/c-Si(P)结构电池性能的影响.研究发现,能带不连续以及a-Si发射结高掺杂有利于实现界面复合机制由以悬挂键复合主导的复合机制向由少数载流子复合占主导的SRH(Shockly-Read-Hall)复合机制转变,有效降低界面复合速率.AFORS-HET软件模拟显示:在c-Si(P)衬底掺杂浓度为1.6×1016cm-3时,a-Si(N+)发射结掺杂浓度大于1.5×1020cm-3是获得高电池效率的必要条件;与短路电流密度相比,开路电压受a-Si/c-Si界面态密度影响更明显. 展开更多
关键词 非晶硅/晶体硅 发射结掺杂 界面态密度
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衬底温度对VUV光直接光CVD SiO_2/Si界面缺陷的影响 被引量:2
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作者 谢茂浓 杜开瑛 刘玉荣 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期198-201,共4页
研究了VUV(真空紫外)光直接光CVD(化学汽相淀积)SiO2/Si界面微结构缺陷与衬底温度(Ts)的关系。实验结果表明:在32℃~180℃的温度范围内,与Si-O-Si伸缩模相对应的IR峰位随Ts的降低从1060c... 研究了VUV(真空紫外)光直接光CVD(化学汽相淀积)SiO2/Si界面微结构缺陷与衬底温度(Ts)的关系。实验结果表明:在32℃~180℃的温度范围内,与Si-O-Si伸缩模相对应的IR峰位随Ts的降低从1060cm-1增加至1080cm-1。固定氧化物电荷密度(ΔNot)在Ts>120℃后,呈正电性,与位于3.10eV的氧空位缺陷相关;在Ts<100℃一侧,呈负电性,与2.84eV能级位置的过剩氧缺陷相关;而在100℃~120℃间,ΔNot具有极小值,其大小约在1010cm-2数量级。 展开更多
关键词 真空紫外光CVD 界面缺陷 二氧化硅
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基于双层电子传输层钙钛矿太阳能电池的物理机制 被引量:4
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作者 周玚 任信钢 +4 位作者 闫业强 任昊 杜红梅 蔡雪原 黄志祥 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第20期363-370,共8页
近年来基于钙钛矿材料的太阳能电池以其优异的光电转换效率,成为了最具有发展潜力的光伏器件.受制于制备工艺及界面传输层的材料,钙钛矿太阳能电池存在体内、界面缺陷和能级错位等问题,导致非辐射复合损耗增加,妨碍其效率进一步提升及... 近年来基于钙钛矿材料的太阳能电池以其优异的光电转换效率,成为了最具有发展潜力的光伏器件.受制于制备工艺及界面传输层的材料,钙钛矿太阳能电池存在体内、界面缺陷和能级错位等问题,导致非辐射复合损耗增加,妨碍其效率进一步提升及工作稳定性.因此,降低能级错位及界面缺陷态等损耗对于实现高效钙钛矿太阳能电池至关重要.本文研究了钙钛矿太阳能电池中双层电子传输层及其阶梯状导带结构对器件性能的影响,揭示了活性层与传输层之间的导带偏移量对两者之间界面复合及性能提升的机理.另外,研究了体内与界面缺陷态密度对单层及双层电子传输层结构下电池性能的影响,发现在高缺陷态密度下,双层结构比单层结构具有更高的效率.研究表明双层电子传输层结构不仅能改善界面能级错位损耗,还可以降低电池性能受体内及界面缺陷影响,对制备高性能太阳能电池具有指导意义. 展开更多
关键词 钙钛矿太阳能电池 双层电子传输层 界面复合 缺陷态密度
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无空穴传输层锡基钙钛矿太阳能电池性能探讨 被引量:1
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作者 李清流 甘永进 +3 位作者 覃斌毅 吴伟 李璞 蒋曲博 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2022年第5期14-17,共4页
基于SCAPS-1D软件构建结构为FTO/ZnO/CH_(3)NH_(3)SnI_(3)/Au的无空穴传输层锡基钙钛矿太阳能电池(PSCs),讨论了CH_(3)NH_(3)SnI_(3)吸收层厚度和缺陷态密度、ZnO层厚度和缺陷态密度以及ZnO/CH_(3)NH_(3)SnI_(3)之间的界面缺陷态密度对... 基于SCAPS-1D软件构建结构为FTO/ZnO/CH_(3)NH_(3)SnI_(3)/Au的无空穴传输层锡基钙钛矿太阳能电池(PSCs),讨论了CH_(3)NH_(3)SnI_(3)吸收层厚度和缺陷态密度、ZnO层厚度和缺陷态密度以及ZnO/CH_(3)NH_(3)SnI_(3)之间的界面缺陷态密度对电池性能的影响。仿真结果表明,增加CH_(3)NH_(3)SnI_(3)吸收层厚度促进器件对长波光子的吸收,提升电池性能。但当CH_(3)NH_(3)SnI_(3)层厚度大于700 nm时,由于载流子寿命减小,复合率升高,电池输出参数增加趋势减缓。CH_(3)NH_(3)SnI_(3)层缺陷态密度的增加使得电池内部复合中心增多,导致载流子复合率增大,电池性能下降,控制CH_(3)NH_(3)SnI_(3)层缺陷态密度在10^(15) cm^(-3)以内较为合理;ZnO层厚度和缺陷态密度的改变对电池性能影响不大;增加ZnO/CH_(3)NH_(3)SnI_(3)之间的界面缺陷态密度使得界面处载流子复合中心增多,加速了界面处载流子的复合,导致开路电压减小,电池性能也逐渐下降,界面缺陷态密度在10^(15) cm^(-3)以内较为合理。 展开更多
关键词 钙钛矿太阳能电池 吸收层厚度 缺陷态密度 界面
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铅基钙钛矿太阳能电池界面工程的研究
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作者 陈龙 张文超 +3 位作者 黄睿 牛宇航 李炜 唐吉玉 《华南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2022年第1期7-12,共6页
在wxAMPS太阳能电池数值模拟软件微平台上,对ITO/ZnO/界面层(IFL)/MAPbI_(3)/Sprio-OMeTAD/Au结构的钙钛矿太阳能电池(PSCs)的电子传输层(ETL)/吸收层的界面工程进行研究。结果表明:在界面层缺陷密度低于10^(14)cm^(-3)时,PSCs的电池性... 在wxAMPS太阳能电池数值模拟软件微平台上,对ITO/ZnO/界面层(IFL)/MAPbI_(3)/Sprio-OMeTAD/Au结构的钙钛矿太阳能电池(PSCs)的电子传输层(ETL)/吸收层的界面工程进行研究。结果表明:在界面层缺陷密度低于10^(14)cm^(-3)时,PSCs的电池性能几乎不变,当缺陷密度高于10^(14)cm^(-3)时,PSCs的电池性能急剧下滑。当界面层与吸收层亲和势差(Δχ)在-0.7~-0.1 eV范围时,各项电池性能参数均随Δχ的增大而增大;当Δχ在-0.1~0.5 eV范围时,各项电池性能呈平缓增长;当Δχ大于0.5 eV时,电池的短路电流(J_(SC))呈平缓增长趋势,而开路电压(V_(OC))、填充因子(FF)及光电装换效率(PCE)快速降低。当带隙E_(g)在0.9~1.4 eV范围内增大时,PSCs的V_(OC)、FF和PCE均上升;当带隙E_(g)大于1.4 eV,PSCs的各项性能参数基本不变。 展开更多
关键词 铅基钙钛矿太阳能电池 缺陷密度 界面工程 复合速率
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同质结钙钛矿太阳能电池性能优化研究
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作者 李玉霞 甘永进 +5 位作者 覃斌毅 李清流 蒋曲博 毕雪光 李璞 蔡文峰 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2022年第4期292-298,共7页
基于太阳能电池模拟软件SCAPS-1D,设计了结构为FTO/Nb_(2)O_(5)/n型MAPbI_(3)/p型MAPbI_(3)/CuO/Au的同质结钙钛矿太阳能电池。为达到优化电池性能的目的,探讨了钙钛矿活性层的厚度和缺陷态密度以及载流子传输层和钙钛矿活性层界面的缺... 基于太阳能电池模拟软件SCAPS-1D,设计了结构为FTO/Nb_(2)O_(5)/n型MAPbI_(3)/p型MAPbI_(3)/CuO/Au的同质结钙钛矿太阳能电池。为达到优化电池性能的目的,探讨了钙钛矿活性层的厚度和缺陷态密度以及载流子传输层和钙钛矿活性层界面的缺陷态密度对电池性能的影响。由仿真结果知,适当增加n型MAPbI_(3)的厚度可增强对光子的有效吸收从而提升电池性能,但当n型MAPbI_(3)的厚度大于载流子扩散长度时,载流子复合增强导致电池性能降低。随着n型MAPbI_(3)的缺陷态密度不断增加,相当于引入了更多的载流子复合中心,因此电池性能逐渐变差。相比n型MAPbI_(3),由于p型MAPbI_(3)置于n型MAPbI_(3)的背面,其厚度及缺陷态密度的变化对电池性能影响较弱。随着界面层缺陷态密度的增加,光生载流子运输受到阻碍,复合增强从而限制了电池的性能提升,相比p型MAPbI_(3)和CuO之间的界面而言,Nb_(2)O_(5)和n型MAPbI_(3)之间的界面缺陷态密度对电池性能影响效果更明显。通过参数优化,提升了电池的输出性能,优化后电池的开路电压、短路电流密度、填充因子及效率分别为1.22 V、23.46mA/cm^(2)、88.35%和25.20%。 展开更多
关键词 同质结 钙钛矿太阳能电池 厚度 缺陷态密度 界面
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基于第一性原理的碳化硅界面态机制研究进展 被引量:1
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作者 王方方 李玲 +5 位作者 徐向前 郑柳 杨霏 温家良 陈新 潘艳 《智能电网》 2016年第5期488-492,共5页
碳化硅(SiC)金属–氧化物–半导体场效应晶体管(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor,MOSFET)具有低导通电阻及高击穿临界场强等特点,在高压开关器件领域有着较为广阔的应用及发展前景。但由于SiC/SiO_2具有较高的界面... 碳化硅(SiC)金属–氧化物–半导体场效应晶体管(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor,MOSFET)具有低导通电阻及高击穿临界场强等特点,在高压开关器件领域有着较为广阔的应用及发展前景。但由于SiC/SiO_2具有较高的界面态密度,使得器件反型沟道电子迁移率过低,从而严重阻碍SiC器件的广泛应用。为有效地控制界面态,回顾了国内外对SiC/SiO_2界面态的第一性原理研究进展,分析界面态的形成机制,讨论近导带边界中高界面态的根本原因,为SiC器件工艺制备提供理论指导。 展开更多
关键词 金属–氧化物–半导体场效应晶体管(metal-oxide-semiconductor FIELD-EFFECT transistor MOSFET) SiC/SiO2界面 缺陷态密度
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In situ redox growth of mesoporous Pd-Cu2O nanoheterostructures for improved glucose oxidation electrocatalysis 被引量:3
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作者 Ying Guo Jianwen Liu +5 位作者 Yi-Tao Xu Bo Zhao Xuewan Wang Xian-Zhu Fu Rong Sun Ching-Ping Wong 《Science Bulletin》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第11期764-773,共10页
Interfaces of metal-oxide heterostructured electrocatalyst are critical to their catalytic activities due to the significant interfacial effects. However, there are still obscurities in the essence of interfacial effe... Interfaces of metal-oxide heterostructured electrocatalyst are critical to their catalytic activities due to the significant interfacial effects. However, there are still obscurities in the essence of interfacial effects caused by crystalline defects and mismatch of electronic structure at metal-oxide nanojunctions. To deeply understand the interfacial effects, we engineered crystalline-defect Pd-Cu2O interfaces through nonepitaxial growth by a facile redox route. The Pd-Cu2O nanoheterostructures exhibit much higher electrocatalytic activity toward glucose oxidation than their single counterparts and their physical mixture,which makes it have a promising potential for practical application of glucose biosensors.Experimental study and density functional theory(DFT) calculations demonstrated that the interfacial electron accumulation and the shifting up of d bands center of Cu-Pd toward the Fermi level were responsible for excellent electrocatalytic activity. Further study found that Pd(3 1 0) facets exert a strong metaloxide interface interaction with Cu2O(1 1 1) facets due to their lattice mismatch. This leads to the sinking of O atoms and protruding of Cu atoms of Cu2O, and the Pd crystalline defects, further resulting in electron accumulation at the interface and the shifting up of d bands center of Cu-Pd, which is different from previously reported charge transfer between the interfaces. Our findings could contribute to design and development of advanced metal-oxide heterostructured electrocatalysts. 展开更多
关键词 METAL-OXIDE interfaces CRYSTALLINE defects interfacIAL electron accumulation ELECTROCATALYSTS density functional theory
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