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Li–N dual-doped ZnO thin films prepared by an ion beam enhanced deposition method
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作者 谢建生 陈强 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第9期461-465,共5页
Li-N dual-doped ZnO films [ZnO:(Li,N)] with Li doping concentrations of 3 at.%-5 at.% were grown on a glass substrate using an ion beam enhanced deposition (IBED) method. An optimal p-type ZnO:(Li,N) film with... Li-N dual-doped ZnO films [ZnO:(Li,N)] with Li doping concentrations of 3 at.%-5 at.% were grown on a glass substrate using an ion beam enhanced deposition (IBED) method. An optimal p-type ZnO:(Li,N) film with the resistivity of 11.4 Ω·cm was obtained by doping 4 at.% of Li and 5 sccm flow ratio of N2. The ZnO:(Li,N) films-exhibited a wurtzite structure and good transmittance in the visible region. The p-type conductive mechanism of ZnO:(Li,N) films are attributed to the Li substitute Zn site (Lizn) acceptor. N doping in ZnO can forms the Lii-No complex, which depresses the compensation of Li occupy interstitial site (Lii) donors for Lizn acceptor and helps to achieve p-type ZnO:(Li,N) films. Room temperature photoluminescence measurements indicate that the UV peak (381 nm) is due to the shallow acceptors Lizn in the p-type ZnO:(Li,N) films. The band gap of the ZnO:(Li,N) films has a red-shift after p-type doping. 展开更多
关键词 ZNO ion beam enhanced deposition PHOTOLUMINESCENCE
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PREPARATION OF TiN FILMS BY N_2 ASSISTED Xe^+ ION BEAM ENHANCED DEPOSITION AND THEIR MECHANICAL PROPERTIES
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作者 WANG Xi YANG Genqing LIU Xianghuai ZHENG Zhihong HUANG Wei ZHOU Zuyao ZOU Shichang Ion Beam Laboratory,Shanghai Institute of Metallurgy,Academia Sinica,shanghai,China 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 1992年第11期370-374,共5页
A new method for preparation of hard TiN films has been developed by using electron beam evaporation-deposition of Ti and bombardment with 40 keV Xe^+ ion beam in a N_2 gas environment.The synthesized TiN films were s... A new method for preparation of hard TiN films has been developed by using electron beam evaporation-deposition of Ti and bombardment with 40 keV Xe^+ ion beam in a N_2 gas environment.The synthesized TiN films were superior to PVD and CVD ones in respects of improved adhesion to substrate and low preparing temperature.They exhibited good wear resistance and high hardness up to 2200 kg/mm^2.Some industrial applications have been reported. 展开更多
关键词 TiN film ion beam enhanced deposition mechanical properties
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Study on Blood Compatibility of Carbon-Nitride Film Synthesized by Ion Beam Enhanced Deposition
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《Journal of Modern Transportation》 1997年第2期79-84,共6页
In this paper, blood compatibility of carbonnitride film synthesized by ion beam enhanced deposition is studied. Clotting time measurement, platelet adhesion test and surface energy determination were performed to eva... In this paper, blood compatibility of carbonnitride film synthesized by ion beam enhanced deposition is studied. Clotting time measurement, platelet adhesion test and surface energy determination were performed to evaluate the interaction between blood and material. The results show that carbonnitride film has better blood compatibility than titanium, and may be promising in biomaterial filed. 展开更多
关键词 BIOMATERIALS carbonnitride film blood compatibility ion beam enhanced deposition
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SYNTHESIS OF TiN FILM WITH ION BEAM ENHANCED DEPOSITION AND ITS PROPERTIES
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作者 ZHOU Jiankun LIU Xianghuai CHEN Youshan WANG Xi ZHENG Zhihong HUANG Wei ZOU Shichang Shanghai Institute of Metallurgy,Academia Sinica,Shanghai,China 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 1990年第11期345-349,共5页
The TiN films were synthesized with an alternate process of depositing titanium from a E-gun evaporation source and 40 keV N^+ bombarding onto the target.It is shown from the composi- tion analysis and structure inves... The TiN films were synthesized with an alternate process of depositing titanium from a E-gun evaporation source and 40 keV N^+ bombarding onto the target.It is shown from the composi- tion analysis and structure investigations using RBS,AES,TEM,XPS and X-ray diffraction spectrum that the formed fihns are mainly composed of TiN phase with grain size of 30—40 nm and without preferred orientation,the nitrogen content in the film is much less than that in case without N^+ bombarding,and an intermixed region about 40 nm thick exists between the film and the substrate.The films exhibt high microhardness and low friction. ZHOU Jiankun,Ion Beam Laboratory,Shanghai Institute of Metallurgy,Academia Sinica, Shanghai 200050,China 展开更多
关键词 TiN film ion beam enhanced deposition
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40CrNiMoA钢表面ESD-IBED复合强化层的组织和性能 被引量:3
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作者 葛志宏 乔生儒 《有色金属》 CSCD 北大核心 2009年第1期1-5,共5页
研究40CrNiMoA钢ESD-IBED复合表面强化过程,分析强化层的组织、硬度、相组成和耐磨性。结果表明,在ESD-IBED复合沉积层中ESD沉积层占主导地位,它决定了复合强化层的微观组织,而IBED沉积层则起到改善ESD沉积层表面形貌的作用。在相同电... 研究40CrNiMoA钢ESD-IBED复合表面强化过程,分析强化层的组织、硬度、相组成和耐磨性。结果表明,在ESD-IBED复合沉积层中ESD沉积层占主导地位,它决定了复合强化层的微观组织,而IBED沉积层则起到改善ESD沉积层表面形貌的作用。在相同电参数下,Cr12MoV+Cu复合强化层的显微硬度高于石墨+Cu复合强化层。40CrNiMoA表面的复合强化层具有减摩耐磨性能,尤其是Cr12MoV+Cu复合强化层,耐磨性大约提高4倍,而且摩擦系数仅在0.05左右。 展开更多
关键词 金属材料 电火花沉积 离子束增强沉积 复合强化 耐磨性
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辅助气体CH_4和Ar对IBED制备碳膜性能的影响 被引量:1
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作者 李璞 关凯书 +1 位作者 朱晓东 周建新 《表面技术》 EI CAS CSCD 2006年第4期24-26,共3页
采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜,重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响。结果表明:采用CH4辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击的薄膜厚度;采用Ar辅助轰击的薄膜在硬度、结合强度方面... 采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜,重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响。结果表明:采用CH4辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击的薄膜厚度;采用Ar辅助轰击的薄膜在硬度、结合强度方面要优于CH4辅助轰击的薄膜;相对于类金钢石薄膜,所制备的碳膜更接近于类石墨膜。 展开更多
关键词 离子束辅助 增强沉积 碳膜 类石墨膜 结合强度
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IBED Si_3N_4和TiN薄膜的成份、结构与摩擦学性能 被引量:1
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作者 庄大明 刘家浚 +3 位作者 朱宝亮 李文治 张绪寿 杨生荣 《表面工程》 CSCD 1996年第3期2-7,共6页
本文考察了工艺参数对离子束增强沉积(IBED)氮化硅、氮化钛薄膜的成分和微观组织的影响。测定了薄膜的硬度以及薄膜与基体之间结合力,分析了成分和结构与薄膜的硬度和结合力的关系。考察了在不同载荷和速度条件下St_3N_4、TiN薄膜和5... 本文考察了工艺参数对离子束增强沉积(IBED)氮化硅、氮化钛薄膜的成分和微观组织的影响。测定了薄膜的硬度以及薄膜与基体之间结合力,分析了成分和结构与薄膜的硬度和结合力的关系。考察了在不同载荷和速度条件下St_3N_4、TiN薄膜和52100钢试样的摩擦系数和耐磨性。结果显示,与无膜的52100相比,IBEDSt_3N_4和IBEDTiN的耐磨性成倍提高。探讨了薄膜的磨损机理。 展开更多
关键词 离子束增强沉积 ibed 氮化硅 氮化钛 陶瓷薄膜 摩擦学性能 结构
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退火对IBED氧化钒薄膜结构和性能的影响 被引量:2
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作者 谢建生 李金华 袁宁一 《微细加工技术》 2004年第4期36-40,63,共6页
对离子束增强沉积(IBED)氧化钒薄膜作不同条件的退火,用X射线衍射分析薄膜的晶体结构;用电阻 温度测试分析了薄膜的热电阻温度系数。实验发现,沉积薄膜存在一个形成二氧化钒结构的临界结晶温度,该温度随薄膜制备时离子束增强沉积条件的... 对离子束增强沉积(IBED)氧化钒薄膜作不同条件的退火,用X射线衍射分析薄膜的晶体结构;用电阻 温度测试分析了薄膜的热电阻温度系数。实验发现,沉积薄膜存在一个形成二氧化钒结构的临界结晶温度,该温度随薄膜制备时离子束增强沉积条件的不同而改变。退火温度低于临界结晶温度时,很难使薄膜结晶成二氧化钒结构;高于临界温度较多的退火或形成VO2结构后再长时间退火,都会使VO2多晶薄膜中的钒分解降价,使薄膜的结构退化、性能变差。IBED多晶VO2薄膜在室温附近的电阻温度系数可达到4%/K以上。 展开更多
关键词 氧化钒薄膜 退火 离子束增强沉积
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离子束增强沉积形成梯度薄膜 被引量:9
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作者 柳襄怀 杨根庆 +3 位作者 王曦 郑志宏 黄巍 邹世昌 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 1994年第1期61-66,共6页
在金属衬底(Al、钢、铝-碳纤维、Ni3Al)上用离子束增强沉积形成氮硅化物的梯度薄膜.在薄膜的一侧有很高的电阻(107Ω),而在另一侧电阻根低(1Ω),在绝缘层和导电层之间电阻呈梯度变化.对梯度薄膜的组分、硬度、附... 在金属衬底(Al、钢、铝-碳纤维、Ni3Al)上用离子束增强沉积形成氮硅化物的梯度薄膜.在薄膜的一侧有很高的电阻(107Ω),而在另一侧电阻根低(1Ω),在绝缘层和导电层之间电阻呈梯度变化.对梯度薄膜的组分、硬度、附着力、疲劳寿命、抗腐蚀能力和抗高温氧化性能进行了测试和分析. 展开更多
关键词 离子束 增强沉积 梯度薄膜
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钛合金表面离子束增强沉积的Cr和CrMo合金膜层及其性能 被引量:15
10
作者 唐长斌 刘道新 +3 位作者 朱晓东 田林海 文胜平 宗瑞磊 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期471-477,共7页
利用多功能离子束增强沉积(IBED)设备, 在Ti6Al4V钛合金表面制备Cr和CrMo合金膜层, 以提高钛合金表面的耐磨性能。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、辉光放电光谱仪和显微硬度计分析和测试了 IBED膜层的结构、形态、成分分布、硬度和... 利用多功能离子束增强沉积(IBED)设备, 在Ti6Al4V钛合金表面制备Cr和CrMo合金膜层, 以提高钛合金表面的耐磨性能。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、辉光放电光谱仪和显微硬度计分析和测试了 IBED膜层的结构、形态、成分分布、硬度和膜基结合强度的大小。利用球盘磨损试验机和电化学综合测试仪研究了IBED膜层的摩擦学性能和电化学腐蚀特性。结果表明, 利用IBED方法可以在难镀材料钛合金表面制备膜基结合强度高、结晶致密和晶粒尺寸达纳米级的高硬度Cr膜和CrMo合金膜层, 显著提高了钛合金表面的抗磨性能, 且膜层本身有很好的耐Cl-介质环境电化学腐蚀性能, 与钛合金基体之间有很好的接触腐蚀相容性。 展开更多
关键词 钛合金 离子束增强沉积 Cr膜 CrMo合金膜 磨损 腐蚀
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碳/碳复合材料表面软复合磷酸钙层 被引量:4
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作者 李金勇 付涛 +2 位作者 宋忠孝 憨勇 徐可为 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期524-527,共4页
为改进碳 /碳复合材料的生物活性 ,发展了表面软复合磷酸钙层的制备工艺。首先在碳 /碳复合材料表面通过离子束辅助沉积技术形成的钛镀层 ,然后经浓碱液处理后呈多孔网状 ,该网状结构可在模拟体液 (SBF)中诱导沉积出生理磷灰石层 ,从而... 为改进碳 /碳复合材料的生物活性 ,发展了表面软复合磷酸钙层的制备工艺。首先在碳 /碳复合材料表面通过离子束辅助沉积技术形成的钛镀层 ,然后经浓碱液处理后呈多孔网状 ,该网状结构可在模拟体液 (SBF)中诱导沉积出生理磷灰石层 ,从而在碳 /碳复合材料表面形成软复合磷酸钙层。所获得的软复合磷酸钙层厚度约为 8μm ,结晶结构为羟基磷灰石 ,但其Ca ,P摩尔比n(Ca) /n(P)低于 1.67。 展开更多
关键词 碳/碳复合材料 表面软复合磷酸钙层 离子束辅助沉积 磷灰石 生物活性
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钛合金表面离子束增强沉积MoS_2基膜层及其性能 被引量:16
12
作者 刘道新 唐宾 +1 位作者 陈华 何家文 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期454-460,共7页
将离子束增强沉积 (IBED)技术与离子束溅射沉积技术相结合 ,在钛合金表面制备了MoS2 ,MoS2 Ti复合膜。研究了膜层的形态、结构、膜基结合强度、硬度、摩擦学性能及抗微动 (fretting)损伤性能。结果表明 :所获膜层较纯溅射膜结合强度高... 将离子束增强沉积 (IBED)技术与离子束溅射沉积技术相结合 ,在钛合金表面制备了MoS2 ,MoS2 Ti复合膜。研究了膜层的形态、结构、膜基结合强度、硬度、摩擦学性能及抗微动 (fretting)损伤性能。结果表明 :所获膜层较纯溅射膜结合强度高、致密性好 ,复合膜中允许的金属元素含量大。通过恰当地控制复合膜中Ti的含量 ,可获得以 (0 0 2 )基面择优取向的MoS2 Ti复合膜 ,该膜层有较好的减摩和抗磨综合性能 ,能够显著地改善钛合金的常规磨损、微动磨损 (FW )和微动疲劳 (FF)性能 ,特别是在磨损严重的大位移整体滑移条件下 ,MoS2 Ti复合膜对钛合金FF抗力的提高作用可大于喷丸形变强化处理。 展开更多
关键词 钛合金 离子束增强沉积 MoS2复合膜 磨擦磨损 微动疲劳 喷丸强化
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离子束增强沉积TiN薄膜界面结合强度的研究 被引量:14
13
作者 顾剑锋 周平南 杨晓豫 《金属热处理学报》 CSCD 1997年第2期30-35,共6页
采用划痕法测定了离子束增强沉积TiN薄膜的界面结合力。结果表明,由于在离子束增强沉积过程中TiN薄膜和基体之间生成一层厚约30~40nm的过渡层,从而大大改善了涂层的界面结合强度,其临界载荷可达140N,为一般PVD... 采用划痕法测定了离子束增强沉积TiN薄膜的界面结合力。结果表明,由于在离子束增强沉积过程中TiN薄膜和基体之间生成一层厚约30~40nm的过渡层,从而大大改善了涂层的界面结合强度,其临界载荷可达140N,为一般PVD和CVD方法所生成的TiN膜的3~4倍,并且发现它并不随膜厚的增加而变化。 展开更多
关键词 薄膜 离子束增强沉积 界面结合强度 氮化钛
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离子束增强沉积AlN薄膜的研究 被引量:3
14
作者 门传玲 徐政 +3 位作者 郑志宏 多新中 张苗 林成鲁 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2001年第5期366-369,共4页
利用离子束增强沉积 (IBED)法成功地在 Si(10 0 )衬底上合成了大面积均匀的非晶 Al N薄膜。 XRD和XPS测试结果证实该薄膜为非晶且无单质 Al和 N2 存在 ,随着 Al蒸发速率的提高 ,N/Al下降 ,在 0 .0 5 nm /s及0 .10 nm/s的蒸发速率下制得... 利用离子束增强沉积 (IBED)法成功地在 Si(10 0 )衬底上合成了大面积均匀的非晶 Al N薄膜。 XRD和XPS测试结果证实该薄膜为非晶且无单质 Al和 N2 存在 ,随着 Al蒸发速率的提高 ,N/Al下降 ,在 0 .0 5 nm /s及0 .10 nm/s的蒸发速率下制得的薄膜 N/Al分别为 0 .40 2∶ 1和 0 .2 5 0∶ 1。SRP测试结果表明 ,随着 Al蒸发速率的提高 ,表面电阻下降 ,并且在 0 .0 5 nm/s的速率下制得的薄膜均匀致密 ,表面电阻高于 10 8Ω,绝缘性能良好 ,而当蒸发速率≥ 0 .2 5 nm/s时 ,薄膜绝缘性能迅速下降。AFM分析显示薄膜呈岛状分布 ,且 0 .0 5 nm/s制取的样品表面呈鹅卵石密堆积 ,颗粒均匀 ,表面比 0 .10 nm/s样品起伏平缓、光滑 。 展开更多
关键词 离子束增强沉积 ALN 薄膜
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复合表面改性协同增强Ti合金高温微动疲劳抗力 被引量:6
15
作者 张晓化 刘道新 +1 位作者 唐长斌 高广睿 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期599-605,共7页
研究了Ti 811(Ti8Al1Mo1V)钛合金表面离子束增强沉积(IBED)0Cr18Ni9膜层的膜基界面成分分布、膜基结合强度、膜层硬度和摩擦学行为。利用喷丸形变强化对IBED膜层进行后处理,拟达到联合提高钛合金高温微动疲劳抗力的目的。结果表明:离子... 研究了Ti 811(Ti8Al1Mo1V)钛合金表面离子束增强沉积(IBED)0Cr18Ni9膜层的膜基界面成分分布、膜基结合强度、膜层硬度和摩擦学行为。利用喷丸形变强化对IBED膜层进行后处理,拟达到联合提高钛合金高温微动疲劳抗力的目的。结果表明:离子束增强沉积技术可以获得致密度高,晶粒细化,孔隙率低,膜基结合强度高的0Cr18Ni9膜层,从而显著提高了钛合金表面硬度和耐磨性能;离子束增强沉积0Cr18Ni9膜层的耐磨性能与喷丸形变强化引入的表层残余压应力协同作用,使Ti 811合金在350℃高温下的微动疲劳抗力显著提高,并且高于喷丸强化或IBED膜层的单独作用。 展开更多
关键词 钛合金 微动疲劳 复合表面改性 高温 喷丸强化 离子束增强沉积
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氮气辅助氙离子束增强沉积TiN薄膜及其机械性能 被引量:2
16
作者 王曦 杨根庆 +4 位作者 柳襄怀 郑志宏 黄巍 周祖尧 邹世昌 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1992年第3期B133-B137,共5页
本文提出一个合成TiN硬质薄膜的新方法,在氮气氛中,电子束蒸发沉积Ti的同时,用40keV的氙离子束对其进行轰击而合成TiN薄膜,该方法优于PVD和CVD之处在于合成温度低,薄膜与基体结合力强,其临界载荷达4.2kg,Knoop硬度达2200kg/mm^2,具有良... 本文提出一个合成TiN硬质薄膜的新方法,在氮气氛中,电子束蒸发沉积Ti的同时,用40keV的氙离子束对其进行轰击而合成TiN薄膜,该方法优于PVD和CVD之处在于合成温度低,薄膜与基体结合力强,其临界载荷达4.2kg,Knoop硬度达2200kg/mm^2,具有良好的耐磨损性能,报道了所合成的TiN薄膜在工业上应用的一些结果。 展开更多
关键词 TIN薄膜 离子束 增强沉积 耐磨性
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离子束增强沉积氮化硅薄膜生长及其性能研究 被引量:3
17
作者 柳襄怀 薛滨 +2 位作者 郑志宏 周祖尧 邹世昌 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第6期457-462,共6页
用离子束增强沉积技术合成了氮化硅薄膜并研究了薄膜的组分、性能和结构.结果表明,离子束增强沉积生长的氮化硅薄膜的组分比,可借助于调节氮离子和硅原子到达率之比加以控制.在合适条件下生长的氮化硅薄膜,其红外吸收特征峰在波数为840c... 用离子束增强沉积技术合成了氮化硅薄膜并研究了薄膜的组分、性能和结构.结果表明,离子束增强沉积生长的氮化硅薄膜的组分比,可借助于调节氮离子和硅原子到达率之比加以控制.在合适条件下生长的氮化硅薄膜,其红外吸收特征峰在波数为840cm^(-1)附近,光折射率在2.2到2.6之间,其组分为Si_3N_4用RBS、AES、TEM、SEM、ED及扩展电阻,测量和观察生成的氮化硅薄膜的组分深度分布及结构.发现,离子束增强沉积制备的氮化硅薄膜,存在着表面富硅层、氮化硅沉积层及混合过渡层这样的多层结构.薄膜呈球状或方块状堆积.基本上是无定形相,但局部可观察到单晶相的存在.离子束增强沉积制备的氮化硅薄膜中的含氧量比不用离子束辅助沉积的显著减少. 展开更多
关键词 离子束 增强沉积 氮化硅 薄膜生长
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离子束增强沉积碳膜及其在抑制电子发射中的应用 被引量:3
18
作者 柳襄怀 朱宏 +3 位作者 任琮欣 郑志宏 徐静芳 陈树德 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期334-343,共10页
栅电子发射是影响行波管工作性能和制约其使用寿命的主要因素。国内研制的导弹雷达制导用行波管因存在严重的栅电子发射现象,寿命只有70h,不能付诸军事应用。采用离子束增强沉积的方法在栅网表面沉积一层碳膜后,可有效地抑制栅电子发射... 栅电子发射是影响行波管工作性能和制约其使用寿命的主要因素。国内研制的导弹雷达制导用行波管因存在严重的栅电子发射现象,寿命只有70h,不能付诸军事应用。采用离子束增强沉积的方法在栅网表面沉积一层碳膜后,可有效地抑制栅电子发射,使行波管寿命超过了1000h,在军事和航天领域获得了成功应用。报导了低能离子束增强沉积类金刚石薄膜和高能离子束增强沉积类石墨碳膜的制备技术、结构性能及其在抑制栅电子发射中的应用和机理研究的结果。 展开更多
关键词 离子束增强沉积 碳膜 抑制电子发射
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离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究 被引量:4
19
作者 庄大明 刘家浚 +3 位作者 朱宝亮 李文治 张绪寿 杨生荣 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期341-347,共7页
在离子束增强沉积的Si3N4膜和TiN膜的表面,分别利用离子束增强沉积法和磁控溅射法制取了MoSx薄膜.在SRV摩擦磨损试验机上,对几种薄膜试样与52100钢试样作了对比试验研究,结果表明,两种MoSx薄膜都具有良好... 在离子束增强沉积的Si3N4膜和TiN膜的表面,分别利用离子束增强沉积法和磁控溅射法制取了MoSx薄膜.在SRV摩擦磨损试验机上,对几种薄膜试样与52100钢试样作了对比试验研究,结果表明,两种MoSx薄膜都具有良好的摩擦磨损性能.其中,磁控溅射MoSx膜的减摩性能更好,而减摩持久性则是以离子束增强沉积MoSx膜的更好;两种MoSx膜的耐磨性比Si3N4膜和TiN膜的高3-4倍,比52100钢的高8-20倍.两种MoSx薄膜显示出不同的减摩性能和耐磨寿命,主要原因在于MoSx溅射膜中的x值(x<2)不同,以及膜的微观结构和界面成分的混合状态不同. 展开更多
关键词 离子束增强沉积 磁控溅射 薄膜 磨损
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离子束增强沉积氮化钛膜改善硬质合金刀具抗切削损伤性能的研究 被引量:6
20
作者 章宗城 贝韵芬 +2 位作者 都佩贤 沈坚 柳襄怀 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第2期156-161,共6页
通过切削对比试验,考察了分别用离子束增强沉积法和离子镀法镀覆TiN膜的硬质合金刀具和无镀层的同种硬质合金刀具的抗切削损伤性能.结果表明,在给定的试验条件下,有离子束增强沉积TiN膜硬质合金刀具的切削距离远比无镀层刀具... 通过切削对比试验,考察了分别用离子束增强沉积法和离子镀法镀覆TiN膜的硬质合金刀具和无镀层的同种硬质合金刀具的抗切削损伤性能.结果表明,在给定的试验条件下,有离子束增强沉积TiN膜硬质合金刀具的切削距离远比无镀层刀具的长,也比有离子镀TiN膜刀具的长,其前面和后面的损伤都很小.这是离子束增强沉积过程中各种参数可以分别调节,膜层质量易于控制,能够形成致密度高且与基体结合力强的硬质薄膜的结果.刀具切削损伤的原因主要有磨损和脆性损伤。 展开更多
关键词 硬质合金 刀具 切削损伤 离子束增强沉积 TIN膜
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