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Nonlinear parametric interactions in ion-implanted semiconductor plasmas having strain-dependent dielectric constants
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作者 N Yadav S Ghosh P S Malviya 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第1期304-309,共6页
We report nonlinear parametric interactions using a hydrodynamic model of ion-implanted semiconductor plasmas having strain-dependent dielectric constants(SDDC). High-dielectric-constant materials are technologicall... We report nonlinear parametric interactions using a hydrodynamic model of ion-implanted semiconductor plasmas having strain-dependent dielectric constants(SDDC). High-dielectric-constant materials are technologically important because of their nonlinear properties. We find that the third-order susceptibility varies in the range 10^-14--10^-12m^2·V^-2 for ion-implanted semiconductor plasmas, which is in good agreement with previous results. It is found that the presence of SDDC in ion-implanted semiconductor plasma modifies the characteristic properties of the material. 展开更多
关键词 nonlinear parametric interactions ion-implanted semiconductor plasmas strain-dependent dielectric constant
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Experimental Study on Plasma Temperature of Semiconductor Bridge
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作者 吴蓉 朱顺官 +2 位作者 张琳 李燕 冯红艳 《Defence Technology(防务技术)》 SCIE EI CAS 2012年第1期35-40,共6页
The plasma temperature of the semiconductor bridge (SCB) was measured in real-time according to relative intensity ratio of dual lines of atomic emission spectrum.The plasma temperature under different discharge pulse... The plasma temperature of the semiconductor bridge (SCB) was measured in real-time according to relative intensity ratio of dual lines of atomic emission spectrum.The plasma temperature under different discharge pulses and the influence of discharge pulse energy on it were studied.The results show that the plasma peak temperature rises gradually with the increase of initial discharging voltage and charging capacitance.For the capacitance of 22 μF,if the initial discharging voltage increases from 21 V to 63 V,the plasma peak temperature rises from 2 000 K to 6 200 K.For the discharging voltage of 39 V,the peak temperature rises from 2 200 K to 3 800 K when the capacitance increases from 6.8 μF to 100 μF.The change of pulse discharge has a very small effect on the plasma temperature at the late time discharge (LTD).In view of the change of plasma temperature with the pulse energy,the discharging voltage has a greater effect on the plasma temperature than the capacitance.The results provide some experimental basis for the further research on SCB ignition and detonation mechanisms. 展开更多
关键词 plasma physics semiconductor bridge plasma temperature atomic emission spectrometry discharge pulse
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Surface plasmon oscillations in a semi-bounded semiconductor plasma
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作者 M SHAHMANSOURI A P MISRA 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第2期76-81,共6页
We study the dispersion properties of surface plasmon(SP) oscillations in a semi-bounded semiconductor plasma with the effects of the Coulomb exchange(CE) force associated with the spin polarization of electrons a... We study the dispersion properties of surface plasmon(SP) oscillations in a semi-bounded semiconductor plasma with the effects of the Coulomb exchange(CE) force associated with the spin polarization of electrons and holes as well as the effects of the Fermi degenerate pressure and the quantum Bohm potential.Starting from a quantum hydrodynamic model coupled to the Poisson equation,we derive the general dispersion relation for surface plasma waves.Previous results in this context are recovered.The dispersion properties of the surface waves are analyzed in some particular cases of interest and the relative influence of the quantum forces on these waves are also studied for a nano-sized Ga As semiconductor plasma.It is found that the CE effects significantly modify the behaviors of the SP waves.The present results are applicable to understand the propagation characteristics of surface waves in solid density plasmas. 展开更多
关键词 surface plasmon oscillations semiconductor plasma semi-bounded plasma
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Plasma Processing of Boron-Doped Nano-Crystalline Diamond Thin Film Fabricated on Poly-Crystalline Diamond Thick Film
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作者 熊礼威 刘繁 +3 位作者 汪建华 满卫东 翁俊 刘长林 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第4期433-436,共4页
Plasma treatments of boron-doped nano-crystalline diamond (NCD) thin films were carried out in order to improve their electrical properties of the films. Boron-doped NCD thin films were fabricated on well polished p... Plasma treatments of boron-doped nano-crystalline diamond (NCD) thin films were carried out in order to improve their electrical properties of the films. Boron-doped NCD thin films were fabricated on well polished poly-crystalline diamond (PCD) thick films in a microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MPCVD) reactor, then they were processed in methane, ar- gon, hydrogen and B2H~ (0.1% diluted by H~) plasmas, respectively. Scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscope (AFM) results show that the surface morphology changed lit- tle during the 10 min treatment. Secondary ion mass spectroscopy (SIMS) results indicate that B2H6 plasma was efficient for increasing boron concentration in NCD films, while the carrier anal- yses demonstrates that CH4 plasma processing was effective to activate the dopants and resulted in good electrical properties. 展开更多
关键词 diamond films plasma processing chemical vapor deposition semiconductorS
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Evaluation of a gate-first process for AlGaN/GaN metal-oxide-semiconductor heterostructure field-effect transistors with low ohmic annealing temperature 被引量:1
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作者 李柳暗 张家琦 +1 位作者 刘扬 敖金平 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第3期445-447,共3页
In this paper, TiN/A1Ox gated A1GaN/GaN metal-oxide-semiconductor heterostructure field-effect transistors (MOS- HFETs) were fabricated for gate-first process evaluation. By employing a low temperature ohmic process... In this paper, TiN/A1Ox gated A1GaN/GaN metal-oxide-semiconductor heterostructure field-effect transistors (MOS- HFETs) were fabricated for gate-first process evaluation. By employing a low temperature ohmic process, ohmic contact can be obtained by annealing at 600 ℃ with the contact resistance approximately 1.6 Ω.mm. The ohmic annealing process also acts as a post-deposition annealing on the oxide film, resulting in good device performance. Those results demonstrated that the TiN/A1Ox gated MOS-HFETs with low temperature ohmic process can be applied for self-aligned gate AIGaN/GaN MOS-HFETs. 展开更多
关键词 metal-oxide-semiconductor heterostructure field-effect transistors low temperature ohmic pro-cess inductively coupled plasma
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CuInSe2 Films Prepared by a Plasma-Assisted Selenization Process in Different Working Pressures
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作者 于涛 张毅 +6 位作者 李宝璋 姜伟龙 王赫 蔡永安 刘玮 李凤岩 孙云 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2010年第2期292-294,共3页
作文,结构和有一个帮助血浆的 selenization 过程的 CuInSe2 (CIS ) 电影 selenized 的表面形态学性质上的工作压力的效果被调查。更高的硒内容,更好水晶的质量和与其它相比的粒子在 CIS 被发现的更常规的表面拍摄压力, 40 Pa 工作。... 作文,结构和有一个帮助血浆的 selenization 过程的 CuInSe2 (CIS ) 电影 selenized 的表面形态学性质上的工作压力的效果被调查。更高的硒内容,更好水晶的质量和与其它相比的粒子在 CIS 被发现的更常规的表面拍摄压力, 40 Pa 工作。Cu (在里面, Ga ) 与优化帮助血浆的 selenization 过程制作的 Se2 设备被表明比我们的以前的结果好。在讨论以后,为这些现象的原因被归因于电子温度和血浆密度的妥协。 展开更多
关键词 CuInSe2薄膜 工作压力 硒化法 离子辅助 等离子体辅助 制备 等离子体密度 独联体国家
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单晶金刚石异质外延用铱复合衬底研究现状
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作者 屈鹏霏 金鹏 +5 位作者 周广迪 王镇 许敦洲 吴巨 郑红军 王占国 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第5期857-877,共21页
金刚石优异的物理性质使其成为下一代最有发展潜力的半导体材料之一。目前来看,基于微波等离子体化学气相沉积的异质外延可能是未来制备大尺寸单晶金刚石的最佳方法。在过去的三十年间,铱复合衬底上异质外延生长单晶金刚石取得了一定进... 金刚石优异的物理性质使其成为下一代最有发展潜力的半导体材料之一。目前来看,基于微波等离子体化学气相沉积的异质外延可能是未来制备大尺寸单晶金刚石的最佳方法。在过去的三十年间,铱复合衬底上异质外延生长单晶金刚石取得了一定进展,特别是近几年实现了2英寸(1英寸=2.54 cm)以上的大尺寸自支撑单晶金刚石的生长。本文总结了金刚石异质外延用的衬底,简要介绍了异质衬底上的偏压增强成核,详细介绍了目前最成功的铱/氧化物、铱/氧化物层/硅复合衬底,最后对金刚石异质衬底和异质外延进行了总结,指出目前存在的问题并给出了一些可能的解决思路。 展开更多
关键词 金刚石 铱复合衬底 半导体 异质外延 偏压增强成核 微波等离子体化学气相沉积
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半导体激光汽化术与经尿道前列腺双极等离子电切术治疗良性前列腺增生104例效果研究 被引量:2
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作者 匡载星 《罕少疾病杂志》 2023年第8期13-16,共4页
目的探究半导体激光汽化术与经尿道前列腺双极等离子电切术治疗良性前列腺增生(BPH)的效果。方法选取2020年5月至2021年5月本院收治的BPH患者104例,依据术式分为半导体激光组(DL组)和等离子组(PK组),各52例。记录两组的围术期情况以及... 目的探究半导体激光汽化术与经尿道前列腺双极等离子电切术治疗良性前列腺增生(BPH)的效果。方法选取2020年5月至2021年5月本院收治的BPH患者104例,依据术式分为半导体激光组(DL组)和等离子组(PK组),各52例。记录两组的围术期情况以及治疗效果,对比术前、后尿道功能[前列腺体积、国际l前列腺症状评分(IPSS)、残余尿量]、尿流动力学[最大尿流率(Qmax)、最大尿道关闭压(MUC.P)、膀胱顺应性(BC)]以及性功能[精浆α-葡萄糖苷酶(α-Gu)、精浆.酸性磷酸酶(ACP)、精浆果糖(Fru)]情况的差异性。结果DL组手术时间长于PK组.(P<005),但其血红蛋白下降量、留置尿管以及住院时间均短于PK组(P<0.05)。DL组痊愈、显效以及有效例数均较PK.组更多,其无效例数少于PK组(P<005)。l术后两组的前列腺体积、IPSS评分.以及残余尿量均较术前下降(P<005),且DL组.上述指标水平均低于PK组(P<005)。术后两组Qmax、MUCP、BC、α-Gu、ACP以及Fru均较术前升高(P<005),且DL组上述指标水平均高于PK组(P<005)。结论半导体激光汽化术可明显缩短BPH患者住院周期,同时还可明显改善患者尿道功能以及尿流动力学情况,对性功能影响更小,疗效确切。 展开更多
关键词 良性前列腺增生 半导体激光 双极等离子切割 治疗效果
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半导体激光疗法结合耳穴压豆对行低温等离子射频消融术腰椎间盘突出症患者的术后疼痛及肢体活动的影响
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作者 刘慧 王沙沙 +1 位作者 朱瑜琪 赵英君 《中国医药导报》 CAS 2023年第33期162-165,183,共5页
目的 探讨半导体激光疗法结合耳穴压豆对行低温等离子射频消融术的腰椎间盘突出症患者术后疼痛及肢体活动的影响。方法 纳入2021年1月至2022年1月中国中医科学院眼科医院骨科病房收治的100例行低温等离子射频消融术的腰椎间盘突出症患者... 目的 探讨半导体激光疗法结合耳穴压豆对行低温等离子射频消融术的腰椎间盘突出症患者术后疼痛及肢体活动的影响。方法 纳入2021年1月至2022年1月中国中医科学院眼科医院骨科病房收治的100例行低温等离子射频消融术的腰椎间盘突出症患者,按照随机数字表法将其分为对照组和研究组,每组50例。对照组予以术后常规护理并配合使用半导体激光照射治疗,研究组在对照组基础上加用耳穴压豆疗法。比较两组术后视觉模拟评分法(VAS)评分、日本骨科学会(JOA)评分、Oswestry功能障碍指数(ODI)评分和患者术后住院时间及临床效果。结果 整体分析发现,两组VAS、JOA、ODI评分的时间、组间、交互作用比较差异有统计学意义(P<0.05);组内比较,两组VAS、JOA、ODI评分术后各时间点比较,差异有统计学意义(P<0.05)。组间比较,研究组术后1、3、5 d VAS、ODI评分低于对照组,JOA评分高于对照组,差异有统计学意义(P<0.05)。研究组术后住院时间短于对照组,差异有统计学意义(P<0.05);研究组的临床效果优于对照组,差异有统计学意义(P<0.05)。结论 对腰椎低温等离子射频消融术后患者予以半导体激光疗法联合耳穴压豆的实施有利于早期缓解患者疼痛感,恢复肢体活动度,促进患者术后恢复,缩短住院时间。 展开更多
关键词 腰椎间盘突出症 低温等离子射频消融术 耳穴压豆 半导体激光
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半导体芯片用5N级微米导电金球的制备
10
作者 应宗波 《有色金属工程》 CAS 北大核心 2023年第6期26-30,共5页
微米球形金属粉制备技术已经成为芯片、医疗诊断、3D打印等领域共性的“卡脖子”技术。采用“全湿法制粉+等离子球化”工业制备高纯导电金球,以自产的Au-99.999%为原料,水合肼作为还原剂,PVP作为稀散剂,控制还原电势在1 692~1 002 mV,... 微米球形金属粉制备技术已经成为芯片、医疗诊断、3D打印等领域共性的“卡脖子”技术。采用“全湿法制粉+等离子球化”工业制备高纯导电金球,以自产的Au-99.999%为原料,水合肼作为还原剂,PVP作为稀散剂,控制还原电势在1 692~1 002 mV,制得高纯高分散金粉,经气流破碎、等离子球化得到半导体芯片用5N级微米导电金球。该方法目前已经实现工业化10 kg批次量产,初步解决国产芯片封装用导电金球被国外卡脖子的问题,为完善我国芯片研发产业链特别是电子级金原料研发作出重要贡献。 展开更多
关键词 半导体芯片 5N级 金粉 微米导电金球 等离子球化
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Electrostatic Surface Waves on Semi-Bounded Quantum Electron-Hole Semiconductor Plasmas
11
作者 Afshin Moradi 《Communications in Theoretical Physics》 SCIE CAS CSCD 2017年第3期317-321,共5页
The electrostatic surface waves on semi-bounded quantum electron-hole semiconductor plasmas are studied within the framework of the quantum hydrodynamic model, including the electrons and holes quantum recoil effects,... The electrostatic surface waves on semi-bounded quantum electron-hole semiconductor plasmas are studied within the framework of the quantum hydrodynamic model, including the electrons and holes quantum recoil effects,quantum statistical pressures of the plasma species, as well as exchange and correlation effects. The dispersion characteristics of surface electrostatic oscillations are investigated by using the typical values of Ga As, Ga Sb and Ga N semiconductors. Numerical results show the existence of one low-frequency branch due to the mass difference between the electrons and holes in addition to one high-frequency branch due to charge-separation effects. 展开更多
关键词 电子空穴 量子统计 等离子体 表面波 半导体 静电波 流体动力学模型 关联效应
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ASYMPTOTIC LIMITS OF ONE-DIMENSIONAL HYDRODYNAMIC MODELS FOR PLASMAS AND SEMICONDUCTORS
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作者 PENG YUEJUN Laboratoire de Mathematiques Appliquees, CNRS UMR 6620, Universite Blaise Pascal (Clermont-Ferrand 2), F-63177 Aubiere cedex, France. E-mail: peng@math.univ-bpclermont.fr 《Chinese Annals of Mathematics,Series B》 SCIE CSCD 2002年第1期25-36,共12页
This paper studies the zero-electron-mass limit, the quasi-neutral limit and the zero-relaxation-time limit in one-dimensional hydrodynamic models of Euler-Poisson system for plasmas and semiconductors. For each limit... This paper studies the zero-electron-mass limit, the quasi-neutral limit and the zero-relaxation-time limit in one-dimensional hydrodynamic models of Euler-Poisson system for plasmas and semiconductors. For each limit in the steady-state models, the author proves the strong convergence of the sequence of solutions and gives the corresponding convergence rate. In the time-dependent models, the author shows some useful estimates for the quasi-neutral limit and the zero-electron-mass limit. This study completes the analysis made in [11,12,13,14,19]. 展开更多
关键词 流体力学模型 等离子体 半导体 渐进极限 Euler-Poisson系统 能量估计 零电子质量极限 零Debye长度极限 零松弛时间极限 拟中性极限
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半导体桥火工品研究新进展 被引量:35
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作者 祝逢春 徐振相 +4 位作者 陈西武 周彬 秦志春 田桂蓉 侯素娟 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期106-110,共5页
半导体桥火工品属高新技术火工品 ,因其具有高安全性、高可靠性、高同步性、高工艺一致性、低发火能量以及能与数字逻辑电路组合等一系列优异性能 ,发展十分迅速。本文从理论、结构、封装、测试和改进等方面评介了半导体桥火工品研究的... 半导体桥火工品属高新技术火工品 ,因其具有高安全性、高可靠性、高同步性、高工艺一致性、低发火能量以及能与数字逻辑电路组合等一系列优异性能 ,发展十分迅速。本文从理论、结构、封装、测试和改进等方面评介了半导体桥火工品研究的新进展 ,并指出半导体桥 (SCB)火工品是桥丝式火工品的理想换代产品 ,且有更广泛的应用范围和前景 ;今后应在理论基础、生产自动化。 展开更多
关键词 半导体桥火工品 结构 理论模型 多层焊接区 封装方式 桥丝式火工品 研究进展
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半导体桥长宽比对其发火性能的影响 被引量:13
14
作者 周彬 秦志春 毛国强 《南京理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期235-237,共3页
该文研究了电容放电发火条件下,半导体桥长宽比对其发火的临界电压、发火时间以及发火所消耗的能量等性能参数的影响规律,借助于半导体桥的等离子体发火机理对实验结果进行了分析。结果表明:在半导体桥质量、掺杂浓度相同的条件下,长宽... 该文研究了电容放电发火条件下,半导体桥长宽比对其发火的临界电压、发火时间以及发火所消耗的能量等性能参数的影响规律,借助于半导体桥的等离子体发火机理对实验结果进行了分析。结果表明:在半导体桥质量、掺杂浓度相同的条件下,长宽比对半导体桥的发火临界电压影响较小;而半导体桥的发火时间随着长宽比的增加而减小,发火所消耗的能量随着长宽比的增加降低。 展开更多
关键词 半导体桥 等离子体 发火时间 发火临界电压
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半导体桥点火器的设计与研究 被引量:8
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作者 任炜 周智 刘举鹏 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期43-46,共4页
设计了两种半导体桥,对其发火能量进行估算,利用原子发射光谱双谱线法对其等离子体的温度进行测试;采用这两种半导体桥,设计得到两种不同性能的半导体桥点火器,对两种点火器进行不发火试验、发火试验以及作用时间测定。结果表明:1Ω半... 设计了两种半导体桥,对其发火能量进行估算,利用原子发射光谱双谱线法对其等离子体的温度进行测试;采用这两种半导体桥,设计得到两种不同性能的半导体桥点火器,对两种点火器进行不发火试验、发火试验以及作用时间测定。结果表明:1Ω半导体桥满足1A、1W、5min不发火要求,在28μF、27V的发火条件下,平均作用时间为363μs;3Ω半导体桥满足0.6A、1W、5min不发火要求,在28μF、50V发火条件下,平均作用时间为147μs。 展开更多
关键词 半导体桥 点火器 性能 等离子体
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半导体桥电爆过程的能量转换测量与计算 被引量:6
16
作者 张文超 叶家海 +3 位作者 秦志春 周彬 田桂蓉 徐振相 《含能材料》 EI CAS CSCD 2008年第5期564-566,576,共4页
对电容激励模式下半导体桥(SCB)的电流、电压以及光的变化进行了测试,从能量的角度对半导体桥电爆换能过程进行了分析,并对电爆换能过程中硅桥物质形态的变化进行了量化分析,在电容为22μF、充电电压为45 V的情况下,SCB上电压为最低时(2... 对电容激励模式下半导体桥(SCB)的电流、电压以及光的变化进行了测试,从能量的角度对半导体桥电爆换能过程进行了分析,并对电爆换能过程中硅桥物质形态的变化进行了量化分析,在电容为22μF、充电电压为45 V的情况下,SCB上电压为最低时(2.18μs,10 V)有61.1%的桥区熔化,SCB上电压为最高时(3.48μs,43 V)桥区有14.5%气化,在SCB发火光强最亮时(17.60μs)有70.3%的半导体硅桥电离。 展开更多
关键词 应用化学 火工品 半导体桥 等离子体 电爆换能
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半导体桥等离子体温度的实验研究 被引量:3
17
作者 吴蓉 朱顺官 +2 位作者 张琳 李燕 冯红艳 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期559-563,共5页
基于原子发射光谱双谱线法测温原理,对半导体桥(SCB)等离子体温度进行实时瞬态测定;实验研究了放电脉冲条件下等离子体温度的变化规律及不同脉冲能量对等离子体温度的影响。结果表明:充电电容为22μF,初始放电电压由21 V增大到63 V,等... 基于原子发射光谱双谱线法测温原理,对半导体桥(SCB)等离子体温度进行实时瞬态测定;实验研究了放电脉冲条件下等离子体温度的变化规律及不同脉冲能量对等离子体温度的影响。结果表明:充电电容为22μF,初始放电电压由21 V增大到63 V,等离子体峰值温度由2 000 K上升至6 200 K;放电电压为39 V,充电电容由6.8μF改变至100μF时,等离子体峰值温度在2 200 K~3 800 K范围内呈上升趋势;等离子体后期放电开始时,SCB上所消耗的能量在不同放电条件下基本恒定,其等离子体温度值变化不大;从等离子体温度随脉冲能量的变化上看,放电电压的改变对温度的影响要高于充电电容的变化。其结果为进一步研究SCB点火和起爆的机理提供实验依据。 展开更多
关键词 等离子体物理学 半导体桥 等离子体温度 原子发射光谱法 放电脉冲
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超高速大电流半导体开关实验研究 被引量:13
18
作者 周郁明 余岳辉 +1 位作者 梁琳 陈海刚 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期447-450,共4页
利用自行研制的固态半导体开关RSD,采用电容储能方式,研究了RSD的电压响应时间、大电流特性、电流上升率等。在测试RSD的电压响应时间时,得到了25 ns的电压下降曲线。在主电容电压为8kV时,得到峰值为10.1 kA、脉宽为34μs、电流上升率为... 利用自行研制的固态半导体开关RSD,采用电容储能方式,研究了RSD的电压响应时间、大电流特性、电流上升率等。在测试RSD的电压响应时间时,得到了25 ns的电压下降曲线。在主电容电压为8kV时,得到峰值为10.1 kA、脉宽为34μs、电流上升率为2.03 kA/μs的大电流脉冲。通过调整主电路,在主电容为3 kV时,得到的电流脉冲峰值为8.5 kA、脉宽为2.5μs、电流上升率为7.2 kA/μs。结果表明,RSD是一种开通快、通流能力强、电流上升率高的大功率半导体开关器件。 展开更多
关键词 半导体开关 RSD 等离子体 大电流 电流上升率
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半导体桥等离子体温度的原子发射光谱法测量 被引量:4
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作者 张文超 周彬 +4 位作者 王文 秦志春 张琳 叶家海 田桂蓉 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期313-316,共4页
半导体桥生成的等离子体由于温度高、尺度小、持续时间短等特点,对其温度的瞬态测量是个难题.本文采用高速数字存贮示波器应用原子发射光谱双谱线法对半导体桥等离子体温度进行了实时瞬态测量,并对在22μF电容下不同充电电压对半导体桥... 半导体桥生成的等离子体由于温度高、尺度小、持续时间短等特点,对其温度的瞬态测量是个难题.本文采用高速数字存贮示波器应用原子发射光谱双谱线法对半导体桥等离子体温度进行了实时瞬态测量,并对在22μF电容下不同充电电压对半导体桥等离子体温度的影响进行了系统的研究,得到了22μF电容下等离子体最高温度与充电电压的关系式Tmax=700.6+115.2U. 展开更多
关键词 半导体桥 等离子体 温度测量 原子发射光谱
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携带气体对二氧化硅干法刻蚀的影响 被引量:4
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作者 敬小成 黄美浅 姚若河 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期456-460,共5页
文章研究了采用氩气和氦气作携带气体时气体流量对刻蚀速率、均匀性和选择比等主要刻蚀参数的影响。实验结果表明,当采用氩气作携带气体时,其流量选择在氩气∶刻蚀气体≈1∶1时,刻蚀结果优化;当选择氦气作携带气体时,其流量选择在氦气... 文章研究了采用氩气和氦气作携带气体时气体流量对刻蚀速率、均匀性和选择比等主要刻蚀参数的影响。实验结果表明,当采用氩气作携带气体时,其流量选择在氩气∶刻蚀气体≈1∶1时,刻蚀结果优化;当选择氦气作携带气体时,其流量选择在氦气∶刻蚀气体≈2∶1时,刻蚀结果优化。氩气和氦气相比,氩气更具优越性。 展开更多
关键词 半导体工艺 氩气 氦气 干法刻蚀 等离子体
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