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体硅高压LDMOS器件电学特性温度效应的研究
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作者 刘侠 王钦 《现代电子技术》 2006年第23期124-126,共3页
从等温和非等温两个角度,在250 K^573 K(-23℃~300℃)范围内,对体硅高压LDMOS的主要电学参数随温度的变化进行了研究。系统地研究了体硅高压LDMOS阈值电压、导通电阻和饱和电流等主要电学参数的温度效应及其机理。
关键词 体硅LDMOS 等温 非等温 负阻效应
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