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半导体激光诱导液相腐蚀精度的提高方法
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作者 谢兴盛 陈镇龙 +4 位作者 叶玉堂 刘霖 吴云峰 范超 王昱琳 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2006年第11期28-32,共5页
从半导体激光诱导液相腐蚀的工艺原理出发,对影响刻蚀精度的主要因素进行了分析研究,从刻蚀图像分辨率、侧壁垂直度及底面平坦度、表面均匀化三个方面提出了改善刻蚀精度的方法。
关键词 光电子学 半导体刻蚀工艺 激光诱导液相腐蚀
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消除半导体激光诱导腐蚀晶向影响的两步腐蚀新方法
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作者 刘霖 叶玉堂 +3 位作者 吴云峰 陈镇龙 范超 王昱琳 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1565-1568,共4页
提出了一种消除激光化学诱导液相腐蚀晶体取向影响的新方法———两步腐蚀法。激光化学液相两步腐蚀法实质上是加长非晶向方向图形的腐蚀时间,保证与晶向方向腐蚀程度一致。实验结果表明,晶体取向对激光化学诱导液相腐蚀图形有较大的影... 提出了一种消除激光化学诱导液相腐蚀晶体取向影响的新方法———两步腐蚀法。激光化学液相两步腐蚀法实质上是加长非晶向方向图形的腐蚀时间,保证与晶向方向腐蚀程度一致。实验结果表明,晶体取向对激光化学诱导液相腐蚀图形有较大的影响;两步腐蚀法可以有效地消除晶体取向影响,得到需要的图形;与国内外普遍采用的表面抗蚀膜掩蔽和激光光强分布调节等方法相比,具有可以处理内部晶向影响,操作简单,设备要求低等特点,两步腐蚀法可以有效地克服常规方法的诸多弊端,达到消除晶向影响的目的,在特殊结构光电器件和光电集成中具有广泛的应用前景。 展开更多
关键词 光电子学 激光辅助液相腐蚀 晶体取向 半导体化合物
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