用于X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶

介绍用热蒸发结合光刻技术以及离子束刻蚀或热磷酸腐蚀的方法 ,制备用于测量X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶的工艺 .对两种腐蚀工艺进行了比较 ,确定离子束刻蚀是获得所需图形的理想方法 .经扫描电镜 (SEM)和台阶仪测量 ,Al静态成像靶的参数满足实验要求 .

基于微立体光刻技术的组织支架的制备

介绍了基于微立体光刻技术制造的三维支架初步模型.由微立体光刻设备制备出了μm级的圆柱阵列式支架和三角孔式支架,整体结构很微小,结构上端为原生代细胞附着区域,下端是细胞培养液的贮液池.支架结构精度较高,可以达到传统快速成型技术不能具备的等级,其微孔之间的孔隙结构达到200μm左右,同时,微孔的数量、大小、分布及形状可人工影响或控制.

基于EDEM的轻型凿式深松铲土壤耕作载荷仿真分析

以轻型凿式深松铲为研究对象,利用EDEM建立其离散元仿真模型,确定深松铲土壤深松作业过程中的耕作载荷组成,并采用单因素试验方法分析了入土深度及作业速度对土壤耕作载荷的影响。结果表明:深松铲土壤耕作阻力主要由前进阻力及垂直阻力组成,土壤耕作阻力及其前进、竖直分量随着作业速度及入土深度的增大而增大,且土壤耕作阻力与两作业参数间皆成抛物线型二次函数关系;同时,土壤耕作阻力的波动状况随入土深度的增大及作业速度的减小而减小。该研究可为深松铲的研究提供一定的依据。

六硼化镧材料的化学腐蚀工艺研究

目前,阴极发射体材料多存在逸出功大,可靠性及均匀性低,发射性能低、不能自动调节活性物质更替的速度等方面的问题。与之相比,六硼化镧既具有可恒定地维持一个活性阴极表面,同时具有高导电率和良好的热稳定性及化学稳定性,是作为阴极发射体的理想材料[1]。而对六硼化镧的化学腐蚀在以其为阴极的阴极发射体制备工艺中起着至关重要的作用,本文简述了对材料的化学腐蚀工艺的初步研究,并得到了图形化的六硼化镧表面。