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稀氮 Ⅲ-Ⅴ族InAsN和InSbN中长波红外光电材料与器件
1
作者
邱锋
胡淑红
+5 位作者
孙常鸿
吕英飞
王奇伟
孙艳
邓惠勇
戴宁
《红外》
CAS
2012年第2期1-7,共7页
将少量氮原子加入Ⅲ—Ⅴ族半导体后可引起能带减小,因此这种方法可以用来实现能带结构裁剪。这种新型稀氮化物显示出了奇特的物理性质,并且具有应用于新型光电器件的潜力。特别是,备受关注的稀氮InAsN和InSbN在中长波红外光电材料上具...
将少量氮原子加入Ⅲ—Ⅴ族半导体后可引起能带减小,因此这种方法可以用来实现能带结构裁剪。这种新型稀氮化物显示出了奇特的物理性质,并且具有应用于新型光电器件的潜力。特别是,备受关注的稀氮InAsN和InSbN在中长波红外光电材料上具有巨大的应用价值,并将在中长波红外器件应用领域发挥重要的作用。
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关键词
稀氮Ⅲ-Ⅴ族半导体
InAsN
InSbN
中长波红外器件
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职称材料
题名
稀氮 Ⅲ-Ⅴ族InAsN和InSbN中长波红外光电材料与器件
1
作者
邱锋
胡淑红
孙常鸿
吕英飞
王奇伟
孙艳
邓惠勇
戴宁
机构
中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室
出处
《红外》
CAS
2012年第2期1-7,共7页
基金
国家重点基础研究"973"计划项目(2011CBA00900
2012CB93430
+3 种基金
2010CB93370)
国家自然科学基金项目(10804117)
上海市创新专项基金项目(11DZ1140500)
中国科学院知识创新工程项目(KGCX2-YW-350)
文摘
将少量氮原子加入Ⅲ—Ⅴ族半导体后可引起能带减小,因此这种方法可以用来实现能带结构裁剪。这种新型稀氮化物显示出了奇特的物理性质,并且具有应用于新型光电器件的潜力。特别是,备受关注的稀氮InAsN和InSbN在中长波红外光电材料上具有巨大的应用价值,并将在中长波红外器件应用领域发挥重要的作用。
关键词
稀氮Ⅲ-Ⅴ族半导体
InAsN
InSbN
中长波红外器件
Keywords
dilute nitride Ⅲ-Ⅴsemiconductor
InAsN
InSbN
medium-long wave infrared photoelectric device
分类号
TN213 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
稀氮 Ⅲ-Ⅴ族InAsN和InSbN中长波红外光电材料与器件
邱锋
胡淑红
孙常鸿
吕英飞
王奇伟
孙艳
邓惠勇
戴宁
《红外》
CAS
2012
0
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