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稀氮 Ⅲ-Ⅴ族InAsN和InSbN中长波红外光电材料与器件
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作者 邱锋 胡淑红 +5 位作者 孙常鸿 吕英飞 王奇伟 孙艳 邓惠勇 戴宁 《红外》 CAS 2012年第2期1-7,共7页
将少量氮原子加入Ⅲ—Ⅴ族半导体后可引起能带减小,因此这种方法可以用来实现能带结构裁剪。这种新型稀氮化物显示出了奇特的物理性质,并且具有应用于新型光电器件的潜力。特别是,备受关注的稀氮InAsN和InSbN在中长波红外光电材料上具... 将少量氮原子加入Ⅲ—Ⅴ族半导体后可引起能带减小,因此这种方法可以用来实现能带结构裁剪。这种新型稀氮化物显示出了奇特的物理性质,并且具有应用于新型光电器件的潜力。特别是,备受关注的稀氮InAsN和InSbN在中长波红外光电材料上具有巨大的应用价值,并将在中长波红外器件应用领域发挥重要的作用。 展开更多
关键词 稀氮Ⅲ-Ⅴ族半导体 InAsN InSbN 中长波红外器件
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