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多重场限环型终端结构的优化设计
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作者 卓宁泽 赖信彰 于世珩 《电子与封装》 2023年第2期79-83,共5页
开展了硅基金属氧化物场效应晶体管用多重场限环型终端结构的优化设计工作。研究了体区注入剂量、场限环宽度、主结宽度对击穿电压的影响规律,并对其机理进行了分析。通过仿真获得了器件内部的电场、电势和碰撞电离率分布。通过逐步优... 开展了硅基金属氧化物场效应晶体管用多重场限环型终端结构的优化设计工作。研究了体区注入剂量、场限环宽度、主结宽度对击穿电压的影响规律,并对其机理进行了分析。通过仿真获得了器件内部的电场、电势和碰撞电离率分布。通过逐步优化获得了最终结构和工艺参数,体区注入剂量为1.3×10^(13)cm^(-3),场限环宽度为1.5μm,主结宽度为11μm,对应终端击穿电压为106 V。实验开版流片获得的器件击穿电压为105.6 V,良率达到98.65%。 展开更多
关键词 场限环 终端结构 硅基金属氧化物场效应晶体管 击穿电压
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SiC MOSFET栅源电压评估及驱动回路参数优化设计方法 被引量:6
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作者 秦海鸿 谢斯璇 +2 位作者 卜飞飞 陈文明 黄文新 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2022年第18期6823-6834,共12页
为减少碳化硅(silicon carbide,SiC)金属氧化物半导体场效应管(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor,MOSFET)的开关时间和导通电阻以提高效率,通常建议驱动电路采用更低的驱动电阻及更高的驱动电压。但是,由于实际驱动... 为减少碳化硅(silicon carbide,SiC)金属氧化物半导体场效应管(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor,MOSFET)的开关时间和导通电阻以提高效率,通常建议驱动电路采用更低的驱动电阻及更高的驱动电压。但是,由于实际驱动电路中存在寄生参数,过快的开关速度容易产生振荡影响栅极的可靠性,限制SiC MOSFET长期高效安全运行。文中以SiC MOSFET驱动电路为研究对象,分析SiC MOSFET开通瞬态过程,建立考虑电路主要寄生参数的数学模型;定量分析驱动电路参数、主电路寄生参数及工况等影响因素对栅源电压的影响规律;揭示栅源电压、实验测试点电压与驱动电压的区别及影响因素;综合考虑器件应力与损耗,提出一种驱动电路参数优化设计方法。实验结果验证了数学模型与分析的正确性。 展开更多
关键词 碳化硅金属氧化物半导体场效应管 寄生参数 栅源电压 驱动参数设计
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单晶硅化物及其应用
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作者 武国英 李志宏 +1 位作者 郝一龙 陈文茹 《微细加工技术》 1992年第3期25-45,共21页
本文评述了单晶CoSi_2和NiSi_2的结构特点、各种制备方法、器件应用和发展前景。采用分子束外延(MBE)和“内延”法(Mesotaxy)制备的单晶硅化物质量,电学性能和热稳定性较好。由于首次得到理想的突变的金属——半导体接触,使对金属——... 本文评述了单晶CoSi_2和NiSi_2的结构特点、各种制备方法、器件应用和发展前景。采用分子束外延(MBE)和“内延”法(Mesotaxy)制备的单晶硅化物质量,电学性能和热稳定性较好。由于首次得到理想的突变的金属——半导体接触,使对金属——半导体接触的理论分析成为可能。硅/单晶硅化物/硅结构在实际应用中非常重要,如单晶硅化物作集电极埋层,能降低集电极串联电阻,克服重掺杂埋层的横扩和自掺杂问题,提高了电路工作速度,减小了器件面积。埋层硅化物也可作为微波传输线的地线,是实现高频集成电路互连的好方法。而采用该结构制备的高速器件——金属基区晶体管(MBT)和穿透基区晶体管(PBT),具有很好的应用前景。 展开更多
关键词 硅化物 金属-半导体 MBE 内廷 制备
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基于表面势的碳化硅基VDMOS器件模型
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作者 李秀军 刘斯扬 +1 位作者 李胜 孙伟锋 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第1期13-18,共6页
为了满足功率电路及系统设计对碳化硅基垂直双注入金属氧化物半导体晶体管(VDM OS)模型的需求,建立了一套基于表面势计算方法的可描述碳化硅基VDM OS器件电学特性的模型.模型包括静态部分与动态部分.静态部分不仅分别针对沟道区、积累... 为了满足功率电路及系统设计对碳化硅基垂直双注入金属氧化物半导体晶体管(VDM OS)模型的需求,建立了一套基于表面势计算方法的可描述碳化硅基VDM OS器件电学特性的模型.模型包括静态部分与动态部分.静态部分不仅分别针对沟道区、积累区、寄生结型场效应晶体管(JFET)区及N-外延层建立电流模型,还考虑了界面态对于阈值电压偏移与沟道迁移率的影响.动态部分中引入了界面陷阱对于电容的影响,完善了基于端电荷划分理论的动态模型.结果表明,所提器件模型的输出特性和转移特性的仿真结果与实测结果之间的均方根误差均小于5%,开关特性的仿真结果与实测结果之间的均方根误差小于10%. 展开更多
关键词 表面势模型 碳化硅基 VDMOS 阈值电压偏移 界面态
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Pentacene thin film transistor with low threshold voltage and high mobility by inserting a thin metal phthalocyanines interlayer 被引量:1
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作者 LI Yi LIU Qi +3 位作者 WANG XiZhang SEKITANI Tsuyoshi SOMEYA Takao HU Zheng 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2012年第2期417-420,共4页
We herein report the effective performance enhancement of the pentacene-based organic thin film transistors with silicon dioxide dielectric by inserting a thin metal phthalocyanines interlayer between Au source/drain ... We herein report the effective performance enhancement of the pentacene-based organic thin film transistors with silicon dioxide dielectric by inserting a thin metal phthalocyanines interlayer between Au source/drain electrodes and the pentacene active layer.The threshold voltage decreased remarkably from ca.-20 V to a few volts(below-7.6 V) while the mobility increased 1.5-3 times after the insertion of the interlayer of only ca.2 nm,which could be attributed to the reduction of the carrier injection barrier.The results suggest a simple and effective way to achieve low-threshold-voltage pentacene-based organic thin film transistors with high mobility on silicon dioxide dielectric. 展开更多
关键词 有机薄膜晶体管 金属酞菁 高机动性 夹层 低电压 门槛 阈值电压
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A silicon-graphene-silicon transistor with an improved current gain
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作者 Chi Liu Xu-Qi Yang +4 位作者 Wei Ma Xin-Zhe Wang Hai-Yan Jiang Wen-Cai Ren Dong-Ming Sun 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第9期127-130,共4页
In history,semiconductor-metal-semiconductor transistor(SMST)was proposed for frequency improvement.However,a general fabrication method is still missing due to the unsolved technological problem of deposition of a ge... In history,semiconductor-metal-semiconductor transistor(SMST)was proposed for frequency improvement.However,a general fabrication method is still missing due to the unsolved technological problem of deposition of a general crystalline semiconductor on metal,and a thinner metal base is also difficult to be fabricated with high quality.Recently,due to the atomic thickness of graphene,the concept of semiconductor-graphene-semiconductor transistor(SGST)has emerged which leads to the renaissance of SMST,however the experimental study is in its infancy.In this letter,SMST and SGST are fabricated using Si membrane transfer.It is found the common base current gain can be improved from about 0.5%in a Si-Au-Si transistor to about 1%in a Si-Gr-Ge one,and to above 10%in a Si-Gr-Si one,which is attributed to both the ultra-thin thickness and the quantum capacitance effect of graphene. 展开更多
关键词 Semiconductor metal semiconductor transistor Graphene base transistor Graphene base heterojunction transistor
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