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A frequency servo SoC with output power stabilization loop technology for miniaturized atomic clocks 被引量:1
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作者 Hongyang Zhang Xinlin Geng +3 位作者 Zonglin Ye Kailei Wang Qian Xie Zheng Wang 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2024年第6期13-22,共10页
A frequency servo system-on-chip(FS-SoC)featuring output power stabilization technology is introduced in this study for high-precision and miniaturized cesium(Cs)atomic clocks.The proposed power stabilization loop(PSL... A frequency servo system-on-chip(FS-SoC)featuring output power stabilization technology is introduced in this study for high-precision and miniaturized cesium(Cs)atomic clocks.The proposed power stabilization loop(PSL)technique,incorporating an off-chip power detector(PD),ensures that the output power of the FS-SoC remains stable,mitigating the impact of power fluctuations on the atomic clock's stability.Additionally,a one-pulse-per-second(1PPS)is employed to syn-chronize the clock with GPS.Fabricated using 65 nm CMOS technology,the measured phase noise of the FS-SoC stands at-69.5 dBc/Hz@100 Hz offset and-83.9 dBc/Hz@1 kHz offset,accompanied by a power dissipation of 19.7 mW.The Cs atomic clock employing the proposed FS-SoC and PSL obtains an Allan deviation of 1.7×10^(-11) with 1-s averaging time. 展开更多
关键词 cmos technology atomic clock phase-locked loop output power stabilization 1PPS
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体硅CMOS工艺下一种带隙基准的单粒子辐射特性分析
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作者 文溢 陈建军 +3 位作者 梁斌 池雅庆 邢海源 姚啸虎 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期169-174,共6页
为了分析带隙基准(bandgap reference,BGR)在太空环境等极端条件下的单粒子辐射特性,分别在65 nm和28 nm体硅CMOS工艺下设计实现了一款BGR试验芯片,并采用脉冲激光单粒子模拟试验研究了其单粒子辐射特性。试验结果发现,当脉冲激光能量... 为了分析带隙基准(bandgap reference,BGR)在太空环境等极端条件下的单粒子辐射特性,分别在65 nm和28 nm体硅CMOS工艺下设计实现了一款BGR试验芯片,并采用脉冲激光单粒子模拟试验研究了其单粒子辐射特性。试验结果发现,当脉冲激光能量足够高时,BGR的输出电压显著增加,且退火后电压不能恢复,表明BGR发生了单粒子硬损伤(single-event hard damage,SHD),进一步的试验研究证明BGR中的三极管是诱发SHD的敏感器件。该研究为在体硅CMOS工艺下对BGR进行抗SHD加固设计提供了重要理论参考。 展开更多
关键词 带隙基准 单粒子硬损伤 脉冲激光试验 体硅cmos工艺
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CMOS探测器自适应信号读出技术研究
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作者 于得福 陈永平 李向阳 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第1期36-41,共6页
设计了一种根据光照强度自动调节增益的CMOS探测器,它能够在一帧时间内实现光照强度与积分增益自动适应,从而实现无论在弱光还是强光条件下CMOS探测器都能有适应的灵敏度和动态范围。相较于传统CTIA电路,自适应信号读出技术新增了比较... 设计了一种根据光照强度自动调节增益的CMOS探测器,它能够在一帧时间内实现光照强度与积分增益自动适应,从而实现无论在弱光还是强光条件下CMOS探测器都能有适应的灵敏度和动态范围。相较于传统CTIA电路,自适应信号读出技术新增了比较器电路来控制CTIA积分电容大小,通过短曝光输出电压与参考阈值进行比较,输出信号结果用来调整长曝光积分增益,最终得到每个像素的输出电压和增益挡位。基于0.5μm 5 V-CMOS工艺进行了128×1线阵CMOS探测器设计仿真与流片,仿真结果表明,光电流在2 pA~100 nA六个数量级内分别自适应四个积分增益,都能有良好的信号读出。 展开更多
关键词 cmos探测器 自适应技术 自动增益 长短曝光
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Improving Characteristics of Integrated Switched-Capacitor DC-DC Converter by CMOS Technology
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作者 隋晓红 陈治明 +2 位作者 赵敏玲 余宁梅 王立志 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1239-1243,共5页
An integrated 3.3V/1.2V SC DC-DC converter operating under 10MHz with a fixed duty radio of 0.5 is presented.To improve the output current of the converter,CMOS technology is adopted to fabricate the switching devices... An integrated 3.3V/1.2V SC DC-DC converter operating under 10MHz with a fixed duty radio of 0.5 is presented.To improve the output current of the converter,CMOS technology is adopted to fabricate the switching devices,and mutually compensatory circuitry technology is also employed to double the output current furthermore.The simulation results using Hspice simulation software,show that the output currents of a single unit circuit and two unit circuits connected in a mutually compensatory manner of the improved converter is about 12.5mA and 26mA,respectively.The power conversion efficiency of the mutually compensatory circuit can amount to 73%,while its output voltage ripple is less than 1.5%.The converter is fabricated in standard Rohm 0.35μm CMOS technology in Tokyo University of Japan.The test result indicates that the output current of 9.8mA can be obtained from a single unit circuit of the improved converter. 展开更多
关键词 DC-DC converter cmos technology monolithic integration
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76~81 GHz高精度CMOS有源移相器设计
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作者 颜世达 崔杰 张敬 《微电子学》 CAS 北大核心 2024年第3期424-431,共8页
为了实现低成本、高性能的毫米波汽车雷达,基于TSMC 40 nm CMOS工艺,设计了一款高精度低噪声系数的有源矢量合成移相器,其频率范围为76~81 GHz,移相步进为5.625°。采用了一种RC-RL两级多相滤波结构,在产生稳定的四路正交信号的同时... 为了实现低成本、高性能的毫米波汽车雷达,基于TSMC 40 nm CMOS工艺,设计了一款高精度低噪声系数的有源矢量合成移相器,其频率范围为76~81 GHz,移相步进为5.625°。采用了一种RC-RL两级多相滤波结构,在产生稳定的四路正交信号的同时,不会增加过多的插入损耗;在多相滤波器之前添加了放大单元电路,提高了整个电路的增益,并且降低了噪声系数;设计了数模转换器(DAC),对矢量合成模块的尾电流进行控制,进而实现高精度的移相。由于相位分辨率由DAC的分辨率所决定,因此该移相器的控制分辨率不会影响其尺寸和插入损耗。为了实现电路的性能,合理地选择了参数模型和拓扑结构,并且优化了版图布局。后仿真结果表明,在76~81 GHz范围内,RMS移相误差<2.1°,平均增益>1.7 dB,RMS增益波动<0.5 dB,噪声系数<9.5 dB,功耗为15.7 mW,1 dB增益压缩点>-7 dBm。该有源移相器具有高精度、低成本、低功耗等特点,与传统有源移相器相比,具有更低的噪声系数与更大的增益。 展开更多
关键词 毫米波汽车雷达 cmos工艺 有源移相器 相控阵 T/R组件
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用于光伏电力传输的CMOS集成电路的优化设计
6
作者 李旭豪 《自动化应用》 2024年第7期106-108,共3页
作为一种重要的可再生能源技术,光伏电力传输对于解决能源需求和降低环境污染具有重要意义。该技术的关键在于利用限流NMOS晶体管和额外的偏置电压来控制电路中的工作电流。优化设计光伏电力传输中的CMOS集成电路,通过调节偏置电压,灵... 作为一种重要的可再生能源技术,光伏电力传输对于解决能源需求和降低环境污染具有重要意义。该技术的关键在于利用限流NMOS晶体管和额外的偏置电压来控制电路中的工作电流。优化设计光伏电力传输中的CMOS集成电路,通过调节偏置电压,灵活调节光伏电力传输系统的开关电压和电流,以满足电力传输的需求,降低功耗,提高能量转换效率,降低设备故障和损坏的风险,从而确保系统的稳定运行。 展开更多
关键词 光伏电力传输 cmos集成电路 偏置电压 限流NMOS晶体管 可再生能源技术
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Investigation of the characteristics of GIDL current in 90nm CMOS technology 被引量:2
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作者 陈海峰 郝跃 +5 位作者 马晓华 张进城 李康 曹艳荣 张金凤 周鹏举 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第3期645-648,共4页
A specially designed experiment is performed for investigating gate-induced drain leakage (GIDL) current in 90nm CMOS technology using lightly-doped drain (LDD) NMOSFET. This paper shows that the drain bias VD has... A specially designed experiment is performed for investigating gate-induced drain leakage (GIDL) current in 90nm CMOS technology using lightly-doped drain (LDD) NMOSFET. This paper shows that the drain bias VD has a strong effect on GIDL current as compared with the gate bias VG at the same drain-gate voltage VDG. It is found that the difference between ID in the off-state ID - VG characteristics and the corresponding one in the off-state ID - VD characteristics, which is defined as IDIFF, versus VDG shows a peak. The difference between the influences of VD and VG on GIDL current is shown quantitatively by IDIFF, especially in 90nm scale. The difference is due to different hole tunnellings, Furthermore, the maximum IDIFF(IDIFF,MAX) varies linearly with VDG in logarithmic coordiuates and also VDG at IDIFF,MAX with VF which is the characteristic voltage of IDIFF, The relations are studied and some related expressions are given. 展开更多
关键词 GIDL 90nm cmos technology band-to-band tunnelling
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Research on Electric Field Confinement Effect in Silicon LED Fabricated by Standard CMOS Technology
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作者 YANG Guanghua WANG Wei 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2010年第2期84-87,92,共5页
The wedge-shaped and leaf-type silicon light-emitting devices(LED)are designed and fabricated with the Singapore Chartered Semi Inc.'s dual-gate standard 0.35μm CMOS process.The basic structure of the two devices... The wedge-shaped and leaf-type silicon light-emitting devices(LED)are designed and fabricated with the Singapore Chartered Semi Inc.'s dual-gate standard 0.35μm CMOS process.The basic structure of the two devices is N well-P+ junction.P+ area is the wedge-shaped structure,which is embedded in N well.The leaf-type silicon LED device is a combination of the three wedge-shaped LED devices.The main difference between the two devices is their different electrode distribution,which is mainly in order to analyze the application of electric field confinement(EFC).The devices' micrographs were measured with the Olympus IC test microscope.The forward and reverse bias electrical characteristics of the devices were tested.Light measurements of the devices show that the electrode layout is very important when the electric field confinement is applied. 展开更多
关键词 silicon LED standard cmos technology electric field confinement effect
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Development of 0.50μm CMOS Integrated Circuits Technology
9
作者 Yu Shan, Zhang Dingkang and Huang Chang 《Journal of Systems Engineering and Electronics》 SCIE EI CSCD 1992年第4期7-10,2,共5页
Submicron CMOS IC technology, including triple layer resist lithography technology, RIE, LDD, Titanium Salicide, shallow junction, thin gate oxide, no bird's beak isolation and channel's multiple implantation ... Submicron CMOS IC technology, including triple layer resist lithography technology, RIE, LDD, Titanium Salicide, shallow junction, thin gate oxide, no bird's beak isolation and channel's multiple implantation doping technology have been developed. 0.50μm. CMOS integrated circuits have been fabricated using this submicron CMOS process. 展开更多
关键词 In m cmos Integrated Circuits technology Development of 0.50 cmos
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快速提升像素 Micron Technology新CMOS感光器
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《数字通信》 2006年第18期15-15,共1页
Micron Technology新开发的这颗800万像素CMOS感光器中每个感光组件(一个像素)仅有1.75μm宽,这让它可以挤进1/2.5英寸规格的数码相机中(现在的800万像素相机是用1/18英寸CCD)。
关键词 technology 800万像素 MICRON cmos 感光器 数码相机 感光组件
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一种高精度CMOS温度传感器校准电路 被引量:1
11
作者 卓琳 邵杰 +3 位作者 任凤霞 万书芹 章宇新 黄立朝 《电子与封装》 2023年第6期61-65,共5页
针对集成式传感器中CMOS器件非理想因素导致的测量误差,设计了一种数字校准电路,校准电路由存储模块、失调误差校准模块和增益误差校准模块等组成。因模拟器件受温度影响较大,不同温度的增益线性度不同,所以增益误差采用分温度区间进行... 针对集成式传感器中CMOS器件非理想因素导致的测量误差,设计了一种数字校准电路,校准电路由存储模块、失调误差校准模块和增益误差校准模块等组成。因模拟器件受温度影响较大,不同温度的增益线性度不同,所以增益误差采用分温度区间进行校准。电路采用0.18μm CMOS工艺实现,校准后温度传感器误差可提高到-0.03~+0.13℃。 展开更多
关键词 温度传感器 cmos工艺 误差校准
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A Comparative Study of Majority/Minority Logic Circuit Synthesis Methods for Post-CMOS Nanotechnologies 被引量:1
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作者 Amjad Almatrood Harpreet Singh 《Engineering(科研)》 2017年第10期890-915,共26页
The physical limitations of complementary metal-oxide semiconductor?(CMOS) technology have led many researchers to consider other alternative technologies. Quantum-dot cellular automate (QCA), single electron tunnelin... The physical limitations of complementary metal-oxide semiconductor?(CMOS) technology have led many researchers to consider other alternative technologies. Quantum-dot cellular automate (QCA), single electron tunneling (SET), tunneling phase logic (TPL), spintronic devices, etc., are some of the nanotechnologies that are being considered as possible replacements for CMOS. In these nanotechnologies, the basic logic units used to implement circuits are majority and/or minority gates. Several majority/minority logic circuit synthesis methods have been proposed. In this paper, we give a comparative study of the existing majority/minority logic circuit synthesis methods that are capable of synthesizing multi-input multi-output Boolean functions. Each of these methods is discussed in detail. The optimization priorities given to different factors such as gates, levels, inverters, etc., vary with technologies. Based on these optimization factors, the results obtained from different synthesis methods are compared. The paper also analyzes the optimization capabilities of different methods and discusses directions for future research in the synthesis of majority/minority logic networks. 展开更多
关键词 LOGIC Design LOGIC Optimization MAJORITY LOGIC CIRCUITS Post-cmos technologies
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基于斩波技术的CMOS运算放大器失调电压的消除设计 被引量:16
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作者 吴孙桃 林凡 +1 位作者 郭东辉 李静 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第8期60-64,共5页
实现传感器系统的高分辨率,要求其内部运算放大器具有低失调电压和低噪声的性能,为此介绍了一种可减少运算放大器的失调电压和低频噪声的斩波技术,并基于该技术进行温度传感器中CMOS运算放大电路失调电压的消除设计,最后通过SPICE仿真... 实现传感器系统的高分辨率,要求其内部运算放大器具有低失调电压和低噪声的性能,为此介绍了一种可减少运算放大器的失调电压和低频噪声的斩波技术,并基于该技术进行温度传感器中CMOS运算放大电路失调电压的消除设计,最后通过SPICE仿真分析来权衡电路各参数的设定。 展开更多
关键词 斩波技术 cmos 运算放大器 失调电压 消除设计 集成电路
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2.5 Gb/s CMOS光接收机跨阻前置放大器 被引量:14
14
作者 陶蕤 王志功 +1 位作者 董毅 谢世钟 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2001年第3期177-180,共4页
给出了一种利用 0 .35μmCMOS工艺实现的 2 .5Gb/s跨阻前置放大器。此跨阻放大器的增益为 59dB·Ω ,3dB带宽为 2GHz ,2GHz处的等效输入电流噪声为 0 8× 10 - 2 2 A2 /Hz。在标准的 5V电源电压下 ,功耗为 2 50mW。PCML单端输... 给出了一种利用 0 .35μmCMOS工艺实现的 2 .5Gb/s跨阻前置放大器。此跨阻放大器的增益为 59dB·Ω ,3dB带宽为 2GHz ,2GHz处的等效输入电流噪声为 0 8× 10 - 2 2 A2 /Hz。在标准的 5V电源电压下 ,功耗为 2 50mW。PCML单端输出信号电压摆幅为 2 0 0mVp - p。整个芯片面积为 1 0mm× 1.1mm。 展开更多
关键词 光接收机 前置放大器 跨阻放大器 cmos工艺
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2.5Gbit/sCMOS光接收机限幅放大器 被引量:5
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作者 陶蕤 王志功 +2 位作者 柯锡明 董义 谢世钟 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2001年第10期50-52,共3页
给出了一个利用 0 .35 μmCMOS工艺实现的 2 .5Gb/s限幅放大器。在标准的 5V电源电压 ,功耗为 2 2 5mW。在 4 0dB的输入动态范围内 ,可以保持 4 0 0mVp p恒定输出摆幅。整个芯片面积为 1× 1 1mm2 。
关键词 光接收机 限幅放大器 cmos工艺 高速光纤通信
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纳米CMOS器件中超浅结离子掺杂新技术 被引量:5
16
作者 成立 李春明 +1 位作者 王振宇 祝俊 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第9期30-34,44,共6页
综述了集成电路(IC)中制备纳米CMOS器件的几种超浅结离子掺杂新技术,包括等离子体浸没掺杂、投射式气体浸入激光掺杂、快速汽相掺杂和离子淋浴掺杂等新技术,并对比分析了这几种掺杂技术各自的优缺点及其应用前景。
关键词 集成电路 纳米cmos器件 超浅结离子掺杂 等离子体浸没掺杂 投射式气体浸入激光掺杂 离子淋浴掺杂
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应用于RFID的超低功耗CMOS温度传感器设计 被引量:6
17
作者 吴翔 邓芳明 +1 位作者 何怡刚 丁青锋 《传感器与微系统》 CSCD 2016年第2期106-108,112,共4页
针对融合射频识别(RFID)的无线温度传感器节点设计的需求,采用0.18μm 1P6M台积电CMOS工艺,设计了一种低功耗集成温度传感器。该温度传感器首先将温度信号转换为电压信号,然后通过经压控振荡器将电压信号转换为受温度控制的频率信号,... 针对融合射频识别(RFID)的无线温度传感器节点设计的需求,采用0.18μm 1P6M台积电CMOS工艺,设计了一种低功耗集成温度传感器。该温度传感器首先将温度信号转换为电压信号,然后通过经压控振荡器将电压信号转换为受温度控制的频率信号,再通过计数器,将频率信号转换为数字信号。传感器电路利用MOS管工作在亚阈值区,并采用动态阈值技术获得超低功耗。测试结果显示:所设计的温度传感器仅占用0.051 mm2,功耗仅为101 n W,在0~100℃范围内误差为-1.5~1.2℃。 展开更多
关键词 温度传感器 射频识别技术 互补金属氧化物半导体工艺
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CMOS传感器紫外敏化膜层的厚度优化及其光电性能测试 被引量:8
18
作者 刘琼 马守宝 +3 位作者 钱晓晨 阮俊 卢忠荣 陶春先 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期225-230,共6页
采用真空热阻蒸方式在CMOS图像传感器感光面上镀制不同厚度性比价高的Lumogen薄膜.研究发现不同Lumogen薄膜厚度的CMOS传感器的暗电流噪声未发生明显变化,说明真空热蒸发方式对互补金属氧化物半导体器件本身未造成热损伤;光响应非均匀... 采用真空热阻蒸方式在CMOS图像传感器感光面上镀制不同厚度性比价高的Lumogen薄膜.研究发现不同Lumogen薄膜厚度的CMOS传感器的暗电流噪声未发生明显变化,说明真空热蒸发方式对互补金属氧化物半导体器件本身未造成热损伤;光响应非均匀度随膜厚增加而增大;动态范围却随膜厚增加而减小;量子效率随膜厚增加呈现先增大后减小.同时,研究发现敏化膜层最佳厚度为389nm,此时CMOS传感器的量子效率提高了10%,且光响应非均匀度,动态范围均在相对较好的范围内. 展开更多
关键词 传感器技术 薄膜技术 紫外敏化 互补金属氧化物半导体传感器 荧光材料 量子效率 动态范围
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155 Mbit/s和622 Mbit/s速率0.6μm CMOS工艺光纤用户网专用集成电路的部分核心芯片 被引量:4
19
作者 梁帮立 王志功 +2 位作者 田俊 章丽 熊明珍 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2003年第10期1-4,共4页
采用国内的CSMC HJ 0 .6 μmCMOS工艺实现了 15 5Mb/s和 6 2 2Mb/s速率的光纤用户网专用集成电路的部分核心芯片。芯片测试结果表明 ,激光二极管驱动电路(LDD) ,前置放大器 (Pre Amp)和限幅放大器 (LA)集成电路达到了世界同类集成电路... 采用国内的CSMC HJ 0 .6 μmCMOS工艺实现了 15 5Mb/s和 6 2 2Mb/s速率的光纤用户网专用集成电路的部分核心芯片。芯片测试结果表明 ,激光二极管驱动电路(LDD) ,前置放大器 (Pre Amp)和限幅放大器 (LA)集成电路达到了世界同类集成电路的水平。 展开更多
关键词 光纤通信 激光二极管驱动电路 前置放大器集成电路 限幅放大器集成电路 cmos工艺 芯片
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CMOS图像传感器动态范围扩展技术 被引量:13
20
作者 裴志军 国澄明 +1 位作者 姚素英 赵毅强 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2003年第6期1-3,7,共4页
CMOS有源像素图像传感器动态范围的扩展可采用各种技术,如对数像素结构、横向溢出栅像素结构、多次曝光技术、局部曝光技术等,其中多次曝光技术在可获得大动态范围图像的同时,信噪比(SNR)较高。
关键词 cmos 图像传感器 有源像素 动态范围 曝光
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