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氧化锆基台研制及其与种植体连接界面适合性研究 被引量:9
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作者 王永亮 杨建军 +1 位作者 孙桂兰 党华 《中国实用口腔科杂志》 CAS 2010年第1期30-32,共3页
目的研制氧化锆基台并评价其与种植体连接界面的适合性。方法2007年5月至2009年1月在青岛大学医学院附属医院口腔科选用纳米氧化锆粉,采用冷等静压成型方法和二次烧结工艺制作氧化锆基台,选取15枚氧化锆基台与0sstemUSⅡ种植体装配,应... 目的研制氧化锆基台并评价其与种植体连接界面的适合性。方法2007年5月至2009年1月在青岛大学医学院附属医院口腔科选用纳米氧化锆粉,采用冷等静压成型方法和二次烧结工艺制作氧化锆基台,选取15枚氧化锆基台与0sstemUSⅡ种植体装配,应用扫描电镜测量基台与种植体连接界面微间隙。结果研制的氧化锆基台与种植体装配顺利,基台与种植体连接界面的边缘微间隙为(3.17±0.34)μm、内部微间隙为(28.4±2.7)μm。结论采用纳米氧化锆粉经冷等静压成型和二次烧结工艺制作的基台与种植体有较好的适合性。 展开更多
关键词 氧化锆基台 冷等静压成型 二次烧结 基台与种植体连接界面 微间隙 适合性
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