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Fabrication of superconducting NbN meander nanowires by nano-imprint lithography 被引量:1
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作者 杨美 刘丽华 +5 位作者 宁鲁慧 金贻荣 邓辉 李洁 李阳 郑东宁 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第1期384-389,共6页
Superconducting nanowire single photon detector (SNSPD), as a new type of superconducting single photon detector (SPD), has a broad application prospect in quantum communication and other fields. In order to prepa... Superconducting nanowire single photon detector (SNSPD), as a new type of superconducting single photon detector (SPD), has a broad application prospect in quantum communication and other fields. In order to prepare SNSPD with high performance, it is necessary to fabricate a large area of uniform meander nanowires, which is the core of the SNSPD. In this paper, we demonstrate a process of patterning ultra-thin NbN films into meander-type nanowires by using the nano- imprint technology. In this process, a combination of hot embossing nano-imprint lithography (HE-NIL) and ultraviolet nano-imprint lithography (UV-NIL) is used to transfer the meander nanowire structure from the NIL Si hard mold to the NbN film. We have successfully obtained a NbN nanowire device with uniform line width. The critical temperature (Tc) of the superconducting NbN meander nanowires is about 5 K and the critical current (lc) is about 3.5 μA at 2.5 K. 展开更多
关键词 nano-imprint lithography meander nanowires ultra-thin NbN films
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铝基微纳米结构超疏水表面制备及其防冰/霜性能
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作者 钟涛 刘超 +1 位作者 张艳梅 杨晚生 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2024年第2期27-36,共10页
[目的]在铝上构建具有粗糙微纳米结构的超疏水表面,可赋予其良好的防冰/霜性能。但在实际应用中铝的超疏水性会逐渐变差甚至失效,微纳米结构的稳定性是影响疏水耐久性的主要因素之一。[方法]先通过二次阳极氧化在铝表面制备纳米多孔结构... [目的]在铝上构建具有粗糙微纳米结构的超疏水表面,可赋予其良好的防冰/霜性能。但在实际应用中铝的超疏水性会逐渐变差甚至失效,微纳米结构的稳定性是影响疏水耐久性的主要因素之一。[方法]先通过二次阳极氧化在铝表面制备纳米多孔结构,再用不锈钢筛网模板压印的方法在铝表面获得微米级结构,扩孔处理后采用低表面能物质(如三乙氧基-1H,1H,2H,2H-十三氟代正辛基硅烷)进行修饰,最终获得了微纳米结构的铝基超疏水表面(标记为MN-SHS),并就其表面形貌、水接触角、液滴粘附性、防冰/霜性能和耐久性与只进行二次阳极氧化的铝试样和进行二次阳极氧化+扩孔的铝试样作对比。[结果]MN-SHS样品表面的水接触角达到164°,液滴粘附性低,防冰/霜性能和耐久性最优。[结论]采用阳极氧化结合微米压印技术可制得具有微纳米复合结构的铝基超疏水表面,在防冰/霜方面具有很好的应用前景。 展开更多
关键词 超疏水 防冰/霜 阳极氧化 压印 微纳米结构 低液滴粘附性
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基于微纳米压印的微透镜阵列光学膜制造研究
3
作者 汤树海 陈琳轶 陈广学 《包装工程》 CAS 北大核心 2024年第1期101-110,共10页
目的实现裸眼3D显示效果的承印基材是微透镜阵列光学膜,本文旨在研究制造微透镜阵列光学膜的方法及在制造过程中的影响因素。方法采用卷对卷的UV-LED光固化微纳米压印工艺,通过定制化的微纳米压印模具,规模化制造正六角形孔径、蜂窝排... 目的实现裸眼3D显示效果的承印基材是微透镜阵列光学膜,本文旨在研究制造微透镜阵列光学膜的方法及在制造过程中的影响因素。方法采用卷对卷的UV-LED光固化微纳米压印工艺,通过定制化的微纳米压印模具,规模化制造正六角形孔径、蜂窝排布的微透镜阵列光学膜。结果文中所用的PET膜表面粗糙度均方差约为0.083μm,可见光波段的透光率为90%~93%,具有良好的表面平整度和较高的透光率,有利于微透镜阵列的成型制造和光学膜优良光学性能的呈现;UV-LED紫外压印光刻胶具有较低的黏度(250 Pa·s,25℃)、良好的界面性能(接触角为93°)和较小的固化体积收缩率(3.5%),有利于光刻胶对模具凹槽的填充及微透镜阵列的成型和脱模。对于微纳米压印制造过程,要选择合适的压印力,既要确保光刻胶能够充分地填充模具凹槽,又要避免微透镜阵列的结构受挤压变形而导致损坏模具。当压印速度控制在5~7 m/min时,微透镜阵列的复型精度较高且成型质量较为稳定,不会出现气泡缺陷和拉断缺陷。结论卷对卷的UV-LED光固化微纳米压印工艺是一种制造微透镜阵列光学膜行之有效的方法。 展开更多
关键词 微透镜阵列 微纳米压印 光学膜 3D显示
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纳米金/还原氧化石墨烯修饰的盐酸环丙沙星分子印迹电化学传感器
4
作者 闫长领 王公珂 张瑞星 《河南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2023年第1期89-96,共8页
以吡咯和邻苯二胺为功能单体,以盐酸环丙沙星为模板,在纳米金和还原氧化石墨烯(AuNP/rGO)修饰的玻碳电极上,采用电化学方法制备分子印迹聚合物薄膜电化学传感器.利用扫描电镜对修饰电极表面形貌进行表征;电化学技术测试分子印迹传感器性... 以吡咯和邻苯二胺为功能单体,以盐酸环丙沙星为模板,在纳米金和还原氧化石墨烯(AuNP/rGO)修饰的玻碳电极上,采用电化学方法制备分子印迹聚合物薄膜电化学传感器.利用扫描电镜对修饰电极表面形貌进行表征;电化学技术测试分子印迹传感器性能.研究了纳米金和还原氧化石墨烯用量对电极电化学性能的影响,并对传感器制备和测试条件进行了优化.在优化条件下,分子印迹传感器对盐酸环丙沙星具有宽的线性检测范围(1.0×10^(-8)~1.0×10^(-2)mol/L),低检测限(7.41×10^(-12)mol/L(S/N=3)),选择性高,稳定性好.此外,该传感器成功检测出了实际药品和牛奶样品中的盐酸环丙沙星. 展开更多
关键词 分子印迹 纳米金颗粒 还原氧化石墨烯 盐酸环丙沙星 电化学传感器
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抗菌性薄膜的微纳制备工艺研究
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作者 王云飞 李彤瑜 +1 位作者 付毅峰 杨洋 《山东工业技术》 2023年第5期25-28,共4页
针对当前消毒薄膜抑菌效果有待提高,以及制备过程中安全性差、均匀性不容易控制、结合力差的问题。本文研究了制备多功能抗菌薄膜的微纳工艺,工艺包括镀银膜、喷涂TiO_(2)纳米颗粒、镀聚四氟乙烯膜和纳米压印4个步骤。采用金黄色葡萄球... 针对当前消毒薄膜抑菌效果有待提高,以及制备过程中安全性差、均匀性不容易控制、结合力差的问题。本文研究了制备多功能抗菌薄膜的微纳工艺,工艺包括镀银膜、喷涂TiO_(2)纳米颗粒、镀聚四氟乙烯膜和纳米压印4个步骤。采用金黄色葡萄球菌进行抑制菌实验,结果表明,本文制备的抗菌膜的抑菌效果是湿法镀银工艺制备的消毒膜的3.7倍。本研究为人类健康,特别是医疗器械等行业抑菌杀菌膜的生产提供了新产品和新工艺。 展开更多
关键词 抗菌膜 二氧化钛 聚四氟乙烯 化学气相沉积 纳米压印
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滚压印圆柱母光栅的微刻划制造 被引量:6
6
作者 徐宗伟 李龚浩 +4 位作者 兀伟 邢晓东 李万里 刘红忠 陈明 《纳米技术与精密工程》 CAS CSCD 2013年第6期473-478,共6页
精密长光栅作为高档数控机床中的核心部件,其制造能力和精度直接决定高精密机床的制造水平.本文对纳米滚压印技术制造长光栅中的核心部件——圆柱母光栅的制造开展研究,建立了高精度的母光栅刻划制造平台,保证了母光栅制造的精度要求;... 精密长光栅作为高档数控机床中的核心部件,其制造能力和精度直接决定高精密机床的制造水平.本文对纳米滚压印技术制造长光栅中的核心部件——圆柱母光栅的制造开展研究,建立了高精度的母光栅刻划制造平台,保证了母光栅制造的精度要求;分析了微尺度毛刺的形成机理和抑制方法,对母光栅材料选择及微尺度刻划工艺参数进行了优化,实现了直径110 mm,周期分别为20μm、10μm和4μm整圈圆柱母光栅的高精度微刻划制造.母光栅刻划总条数为数万条,4μm周期母光栅连续刻划时间超过62 h,最终实现母光栅的首尾拼接误差控制小于300 nm.另外,针对滚压印加工中的填充问题,利用聚焦离子束(FIB)技术制备了V形、梯形等形状金刚石刀具,获得了良好的光栅压印结果. 展开更多
关键词 微纳制造 纳米压印 微刻划 母光栅
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从特征尺寸的缩小看光刻技术的发展 被引量:6
7
作者 孙磊 戴庆元 +1 位作者 乔高帅 吴日新 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第3期186-190,共5页
从特征尺寸不断缩小变化的角度阐述了近代光刻技术发展的历程。指出90nm节点的主流光刻技术是193nmArF光刻;193nm浸入式光刻技术作为65nm和45nm节点的首选光刻技术,如果配合二次曝光技术,还可以扩展到32nm节点的应用,但成本会增加;如果... 从特征尺寸不断缩小变化的角度阐述了近代光刻技术发展的历程。指出90nm节点的主流光刻技术是193nmArF光刻;193nm浸入式光刻技术作为65nm和45nm节点的首选光刻技术,如果配合二次曝光技术,还可以扩展到32nm节点的应用,但成本会增加;如果特征尺寸缩小到22nm和16nm节点,EUV光刻、无掩模光刻以及纳米压印光刻等将成为未来发展的重要研究方向。在对各种光刻技术的原理、特点以及优缺点等分析对比的基础上,对未来主流光刻技术的发展做了一定的展望。 展开更多
关键词 浸入式光刻 EUV光刻 无掩模光刻 纳米压印光刻 特征尺寸
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纳米压印光刻中的多步定位研究 被引量:3
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作者 刘红忠 丁玉成 +2 位作者 卢秉恒 王莉 邱志惠 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期261-264,269,共5页
在步进重复式压印光刻中,为了避免承片台支撑绞链结构间隙及微观姿态调整往返运动导致的表面材料不规则形变,建立了单调、无振荡、多步逼近目标位置的宏微两级驱动系统,并提出了径向基函数-比例、积分、微分(RBF-PID)及单调位置控制算法... 在步进重复式压印光刻中,为了避免承片台支撑绞链结构间隙及微观姿态调整往返运动导致的表面材料不规则形变,建立了单调、无振荡、多步逼近目标位置的宏微两级驱动系统,并提出了径向基函数-比例、积分、微分(RBF-PID)及单调位置控制算法.控制结果证明,使用具有强鲁棒性的RBF-PID非线性控制模式,使得驱动过程呈现无超调、无振荡的单调过程,因此避免了由于系统微观振荡调节而引入的间隙误差和材料表面形变误差.此控制方式可使步进重复式压印系统的定位精度在满足100 mm行程驱动的前提下,达到小于10 nm的定位技术指标. 展开更多
关键词 纳米压印光刻 多步定位 非线性控制
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超材料的应用及制备技术研究进展 被引量:14
9
作者 杜云峰 姜交来 廖俊生 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期115-121,共7页
超材料是一类具有特殊性质、自然界中并不存在的人造材料。综述了单负超材料和左手超材料构型的研究进展和超材料在超分辨成像、电磁隐身和电磁吸波体等方面的应用。同时也对国内外主要超材料制备技术进行了分类和概述,包括电子束光刻... 超材料是一类具有特殊性质、自然界中并不存在的人造材料。综述了单负超材料和左手超材料构型的研究进展和超材料在超分辨成像、电磁隐身和电磁吸波体等方面的应用。同时也对国内外主要超材料制备技术进行了分类和概述,包括电子束光刻、纳米压印技术和聚焦离子束技术等。最后对超材料的发展方向和应用方向进行了展望。 展开更多
关键词 超材料 构型 电磁吸波体 纳米压印技术
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软刻蚀技术及其应用 被引量:6
10
作者 陈长琦 王艳 +1 位作者 王旭迪 汪力 《真空》 CAS 北大核心 2003年第6期11-14,共4页
软刻蚀是通过表面带图案的弹性模板来实现图案的转移的图形复制技术,作为非光刻微米和纳米量级微加工方法,加工的分辨率可以达到5nm100μm,它克服了传统光刻技术的缺陷,为形成和制作平面和曲面上的微米和纳米图案提供了简便、有效的低... 软刻蚀是通过表面带图案的弹性模板来实现图案的转移的图形复制技术,作为非光刻微米和纳米量级微加工方法,加工的分辨率可以达到5nm100μm,它克服了传统光刻技术的缺陷,为形成和制作平面和曲面上的微米和纳米图案提供了简便、有效的低成本途径。本文将主要介绍微接触印刷、近场光刻蚀、纳米压印等软刻蚀方法的原理、方法以及面临的问题,并简介了它们在微米和纳米加工、微电子学、材料科学、光学、微电子机械系统、表面化学等方面应用。 展开更多
关键词 软刻蚀 图形复制技术 微接触印刷 近场光刻蚀 纳米压印
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工艺参数偏差对纳米压印a-Si太阳电池光学性质的影响 被引量:3
11
作者 陆晓东 张鹏 +3 位作者 周涛 赵洋 李媛 吕航 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期1247-1253,共7页
先基于实际工艺条件和频域有限差分法,优化了纳米压印三角带型a-Si太阳电池织构结构,然后重点探讨了有源层和铝背反镜厚度偏差、Si Nx增透膜折射率和厚度偏差及织构结构几何尺寸偏差对a-Si太阳电池光电流密度的影响。研究表明:TM模受有... 先基于实际工艺条件和频域有限差分法,优化了纳米压印三角带型a-Si太阳电池织构结构,然后重点探讨了有源层和铝背反镜厚度偏差、Si Nx增透膜折射率和厚度偏差及织构结构几何尺寸偏差对a-Si太阳电池光电流密度的影响。研究表明:TM模受有源层和铝背反镜厚度偏差、Si Nx增透膜折射率和厚度偏差及织构结构几何尺寸偏差的影响较小,平均光电流密度的变化主要受TE模光电流随工艺偏差的影响;增透膜和压印模板制备过程中,有效控制工艺参数的偏离是获得最优a-Si太阳电池设计性能的关键。 展开更多
关键词 A-SI太阳电池 纳米压印 工艺偏差
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气囊气缸式紫外纳米压印系统的设计 被引量:3
12
作者 董晓文 司卫华 顾文琪 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期676-679,684,共5页
介绍了紫外纳米压印技术原理和自主研发的压印系统。设计了一种利用气囊气缸的新型找平装置,并描述了该装置的原理。研制了相应的光学系统,着重讨论了光学系统的设计和调整。最后,通过使用该系统成功制备了具有100 nm特征尺寸的纳米结构。
关键词 纳米压印 紫外 光学系统
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气囊气缸式真空紫外纳米压印设备研制 被引量:2
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作者 董晓文 司卫华 顾文琪 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期140-144,共5页
本文介绍了紫外纳米压印技术原理,以及工艺中模板与基片的平行度对压印质量的影响。研制了气囊气缸式真空紫外纳米压印设备,其通过气囊气缸使模板与基片平行,从而可在大面积基片上确保压力均匀。研制了相应的光学系统,着重讨论了如何实... 本文介绍了紫外纳米压印技术原理,以及工艺中模板与基片的平行度对压印质量的影响。研制了气囊气缸式真空紫外纳米压印设备,其通过气囊气缸使模板与基片平行,从而可在大面积基片上确保压力均匀。研制了相应的光学系统,着重讨论了如何实现紫外纳米压印以及光学系统的设计和调整。制备了石英玻璃模板,实现了在商用紫外固化聚合物OG154上的紫外纳米压印,转移复制了具有100nm特征的5cm×5cm面积的纳米结构图形。 展开更多
关键词 纳米压印 紫外 光学系统 气囊气缸 真空
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基于纳米凹凸棒@CTS(壳聚糖)的砷离子印迹聚合物吸附特性 被引量:5
14
作者 邓天天 施卓 +2 位作者 侯宇梦 陈纳 马梦娟 《环境化学》 CAS CSCD 北大核心 2018年第7期1628-1637,共10页
以三价砷为模板离子,纳米凹凸棒土为印迹载体,CTS(壳聚糖)为功能单体,KH-560为偶联剂,利用水合法制备了纳米凹凸棒表面砷离子印迹聚合物As-CAI,系统研究了该聚合物材料对于水中As(Ⅲ)的吸附特性.结果表明,该材料对水中As(Ⅲ)的吸附量高... 以三价砷为模板离子,纳米凹凸棒土为印迹载体,CTS(壳聚糖)为功能单体,KH-560为偶联剂,利用水合法制备了纳米凹凸棒表面砷离子印迹聚合物As-CAI,系统研究了该聚合物材料对于水中As(Ⅲ)的吸附特性.结果表明,该材料对水中As(Ⅲ)的吸附量高达39.04 mg·g^(-1),比相同条件下的空白印迹材料提高了1.53倍.反应最佳的酸碱环境为pH=5.0.吸附热力学及动力学研究结果表明,Langmuir方程能够更好地描述As(Ⅲ)在该印迹聚合物表面的吸附过程,反应属于自发进行的无序吸热反应,高温更有利于吸附反应的发生,吸附反应符合二级反应动力学模型.此外该印迹材料8次洗脱后吸附量仅降低13.7%,具有良好的重复再生利用性能. 展开更多
关键词 纳米凹凸棒 离子印迹 吸附 热力学 动力学
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白藜芦醇纳米二氧化硅表面分子印迹聚合物的制备及吸附特性 被引量:8
15
作者 段玉清 王艳红 +4 位作者 张海晖 张灿 丁宁 秦宇 闫永胜 《食品科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期6-10,共5页
采用分子印迹技术,以反式白藜芦醇为模板分子,通过溶胶-凝胶法制备白藜芦醇纳米二氧化硅表面分子印迹聚合物(MIPs-Res),并通过静态吸附平衡实验、扫描电镜、红外光谱研究聚合物的吸附特性、结构及形貌特征。结果表明:与化学组成相同的... 采用分子印迹技术,以反式白藜芦醇为模板分子,通过溶胶-凝胶法制备白藜芦醇纳米二氧化硅表面分子印迹聚合物(MIPs-Res),并通过静态吸附平衡实验、扫描电镜、红外光谱研究聚合物的吸附特性、结构及形貌特征。结果表明:与化学组成相同的非印迹聚合物(NIPs)相比,MIPs-Res对白藜芦醇具有较高的选择性和吸附性,该聚合物最佳吸附溶剂为氯仿-乙腈(体积比1:11),吸附温度为室温25℃,吸附平衡常数Kd1为3.42mg/L,最大表观结合量Qmax1为11.20mg/g,3h内达到吸附平衡,将该印迹聚合物用于选择性分离/富集白藜芦醇是可行的。 展开更多
关键词 纳米二氧化硅 白藜芦醇 分子印迹
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基于纳米压印技术的光伏器件微三维构型研究 被引量:1
16
作者 尹磊 刘红忠 +1 位作者 丁玉成 卢秉恒 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第05A期1455-1458,共4页
将纳米压印技术应用到三明治结构光伏器件制作.采用具有三维微结构(平行波纹、离散孤岛)软模具,通过纳米压印将定制化微三维结构转印到电子给体层和电子受体层的异质结界面上,以增大异质结界面实际面积,提高光伏效率.通过仿真计算,模拟... 将纳米压印技术应用到三明治结构光伏器件制作.采用具有三维微结构(平行波纹、离散孤岛)软模具,通过纳米压印将定制化微三维结构转印到电子给体层和电子受体层的异质结界面上,以增大异质结界面实际面积,提高光伏效率.通过仿真计算,模拟了通过微结构界面几何改变,提高有效面积内异质结界面实际接触面积,从而增大载流子浓度的过程,优化三维微结构几何特征.典型试验结果证明了光伏器件异质结三维微结构界面对光伏效率的良好效果. 展开更多
关键词 纳米压印 三维微结构 光伏器件
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纳米压印技术的工艺和图形精度研究 被引量:1
17
作者 司卫华 董晓文 顾文琪 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期441-444,共4页
纳米压印技术通过压印实现了纳米结构的图形转移,具有分辨率高、效率高、成本低的优点。通过对纳米压印过程中影响图形精度的一些因素进行分析,提出了相应的解决方法。结合研制的NIL-01型压印机进行工艺实验,给出纳米压印工艺实验的结果... 纳米压印技术通过压印实现了纳米结构的图形转移,具有分辨率高、效率高、成本低的优点。通过对纳米压印过程中影响图形精度的一些因素进行分析,提出了相应的解决方法。结合研制的NIL-01型压印机进行工艺实验,给出纳米压印工艺实验的结果,并对结果进行了分析。试验表明:考虑到影响压印图形精度的各种因素,采用镀有Cr的SiO2模版和NIL-01型压印机,用热压印技术可以压印出具有100 nm特征尺寸的PMMA图形。 展开更多
关键词 纳米压印 压印图形 图形精度 模版
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印刷技术发展的回顾与展望 被引量:4
18
作者 蒲嘉陵 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期401-416,共16页
从单纯的技术角度,印刷可以定义为是通过选择性添加适当物质的方法将拟表达的信息、内容或功能呈现在适当载体上的过程,属于典型的附加型、面处理(并行处理)技术范畴,具有空间分辨率高、生产效率高和成本低的特点.正是由于这些特质,印... 从单纯的技术角度,印刷可以定义为是通过选择性添加适当物质的方法将拟表达的信息、内容或功能呈现在适当载体上的过程,属于典型的附加型、面处理(并行处理)技术范畴,具有空间分辨率高、生产效率高和成本低的特点.正是由于这些特质,印刷是开创现代文明的重要载体,也是人类文明历史上最重要、历史最悠久的传媒技术,今天又在表面装饰、印刷电子、超高规模集成电路制备等领域得到广泛应用.作为传媒技术,印刷的核心作用是可视化,因此将适当呈色剂放置在适当载体上成为技术关键;在表面装饰和印刷电子领域中,印刷的作用是将适当功能单元(如,防护、装饰、电子或光电子功能单元)选择性放置在适当载体上,以满足装饰或/和某种功能的需要;在超高规模集成电路领域,印刷的作用主要体现在表面微加工,核心是印刷技术拥有的微纳米加工的能力.本文也是从这个几个方面,对印刷技术在过去几千年的发展历程和今后的发展趋势有一个概略的回顾和展望. 展开更多
关键词 印刷技术 传播媒介 印刷电子 表面微加工 纳米压印
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光致抗蚀剂的应用及其相关研究 被引量:2
19
作者 孟磊 徐娜 《吉林化工学院学报》 CAS 2014年第7期75-78,共4页
光致抗蚀剂是制作超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路产业对集成度要求的不断提高,对于光致抗蚀剂的研究也不断深入.本文综述了光致抗蚀剂类型及应用,对于几种常用紫外光致抗蚀剂进行了阐述,并对其特性和适用范围做了简单介绍.
关键词 光致抗蚀剂 紫外光 电子束 X射线 离子束 纳米压印
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分子印迹荧光纳米探针在食品安全检测中的研究进展 被引量:7
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作者 刘秀英 梁维月 +4 位作者 苏丽红 朱力杰 汤轶伟 高雪 励建荣 《食品工业科技》 CAS CSCD 北大核心 2017年第1期369-374,共6页
荧光纳米材料因具有独特的发光性质,已成为分析检测等领域中极具应用前景的标记材料。分子印迹聚合物是一种人工合成的对特定模板分子具有较强特异识别能力"仿生"材料。分子印迹荧光纳米探针是将分子印迹技术的高选择性和荧... 荧光纳米材料因具有独特的发光性质,已成为分析检测等领域中极具应用前景的标记材料。分子印迹聚合物是一种人工合成的对特定模板分子具有较强特异识别能力"仿生"材料。分子印迹荧光纳米探针是将分子印迹技术的高选择性和荧光纳米材料的发光特性相结合,进而将微观分子识别过程转化为可读的荧光信号,具有识别选择性高、稳定性好、制备过程简单、灵敏度高、实用性强等特点。该类探针的研究对分析检测技术的发展具有积极推动作用。本文概述了分子印迹荧光纳米探针的检测原理及优点,重点介绍了该技术的分类及其近几年在食品安全检测方面的应用,并对发展趋势进行展望。 展开更多
关键词 分子印迹聚合物 荧光纳米探针 食品安全检测 研究进展
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