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PET/纳米SiO_2复合材料的制备 I.纳米SiO_2在PET单体EG中的分散性研究 被引量:27
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作者 王锐 武荣瑞 +1 位作者 张大省 徐僖 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期181-184,187,共5页
以 EG为分散介质 ,研究了分散方法 ,分散剂的种类 ,分散剂的浓度及分散时间对纳米 Si O2 在 EG中分散性的影响 ,用 TEM对其分散情况进行表征 ,并对其分散机理进行探讨与研究。其结果表明 ,不同的分散方法 ,不同种类的分散剂及不同的分... 以 EG为分散介质 ,研究了分散方法 ,分散剂的种类 ,分散剂的浓度及分散时间对纳米 Si O2 在 EG中分散性的影响 ,用 TEM对其分散情况进行表征 ,并对其分散机理进行探讨与研究。其结果表明 ,不同的分散方法 ,不同种类的分散剂及不同的分散剂浓度 ,不同的分散时间对 Si O2 在 EG中的分散性有不同的影响。 展开更多
关键词 PET/纳米sio2复合材料 聚酯 单体 EG 研究 分散性 分散机理
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Multiscale analysis of single- and multiple-pulse laser-induced damages in HfO_2/SiO_2 multilayer dielectric films at 532 nm 被引量:1
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作者 刘文文 魏朝阳 +1 位作者 易葵 邵建达 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第9期53-57,共5页
Nanosecond single- and multiple-pulse laser damage studies on HfOffSiO2 high-reflection (HR) coatings are performed at 532 nm. For single-pulse irradiation, the damage is attributed to the defects and the electric i... Nanosecond single- and multiple-pulse laser damage studies on HfOffSiO2 high-reflection (HR) coatings are performed at 532 nm. For single-pulse irradiation, the damage is attributed to the defects and the electric intensity distribution in the multilayer thin films. When the defect density in the irradiated area is high, delami- nation is observed. Other than the 1064 nm laser damage, the plasma scalding of the 532 nm laser damage is not pits-centered for normal incidence, and the size of the plasma scalding has no relation to the defect density and position, but increases with the laser fluence. For multiple-pulse irradiations, some damage sites show deeper precursors than those from the single-shot irradiation due to the accumulation effects. The cumulative laser- induced damages behave as pits without the presence of plasma scalding, which is unaffected by the laser fluence and shot numbers. The damage morphologies and depth information both confirm the fatigue effect of a HfO2/SiO2 HR coating under 532 nm laser irradiation. 展开更多
关键词 Multiscale analysis of single and multiple-pulse laser-induced damages in HfO2/sio2 multilayer dielectric films at 532 nm
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用于丝网印染的纳米水性涂料的研制 被引量:10
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作者 崔锦峰 杨保平 +1 位作者 周应萍 李贵贤 《印染助剂》 CAS 北大核心 2004年第4期24-26,共3页
对纳米SiO2采取丙烯酸乳液原位共聚的方式进行表面修饰改性、得到nm-SiO2丙烯酸共聚乳液;以合成的nm-SiO2丙烯酸共聚乳液与水性丙烯酸色浆进行复配,即可制得适应于织物丝网印染的纳米水性涂料,该涂料既具有绿色环保性,又具有纳米功能性.
关键词 丝网印染 纳米水性涂料 织物 复配 nmsio2丙烯酸共聚乳液 水性丙烯酸色浆
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蓝宝石衬底材料CMP去除速率的影响因素 被引量:5
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作者 宗思邈 刘玉岭 +2 位作者 牛新环 李咸珍 张伟 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第1期50-54,共5页
阐述了蓝宝石衬底应用的发展前景及加工中存在的问题,分析了蓝宝石衬底化学机械抛光过程中pH值、压力、温度、流量、抛光布等参数对去除速率的影响。提出了采用小流量快启动的方法迅速提高CMP温度,在化学作用和机械作用相匹配时(即高pH... 阐述了蓝宝石衬底应用的发展前景及加工中存在的问题,分析了蓝宝石衬底化学机械抛光过程中pH值、压力、温度、流量、抛光布等参数对去除速率的影响。提出了采用小流量快启动的方法迅速提高CMP温度,在化学作用和机械作用相匹配时(即高pH值、大流量或低pH值,小流量)可得到较高去除速率,且前者速率高于后者。实验采用nm级SiO2溶胶为磨料的碱性抛光液,使用强碱KOH作为pH调节剂,并加入了适当的表面活性剂及螯合剂等。工艺参数为压力0.18MPa、温度45℃、转速60r/min,采用Rodel-suba 600抛光布,在保证表面质量的同时得到的最大去除速率为11.35μm/h。 展开更多
关键词 化学机械抛光 蓝宝石衬底 去除速率 nmsio2溶胶 抛光布
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纳米二氧化硅增强增韧环氧树脂的研究 被引量:58
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作者 刘竞超 李小兵 +2 位作者 张华林 杨亚辉 傅万里 《胶体与聚合物》 2000年第4期15-17,共3页
通过原位分散聚合法制得了环氧树脂 /纳米二氧化硅 ( nm Si O2 )复合材料。利用拉伸试验、冲击试验、扫描电镜、热重分析等方法研究了该复合材料的结构和性能。结果表明 nm Si O2 均匀地分散在环氧树脂基体中 ,有效地改善了环氧树脂的... 通过原位分散聚合法制得了环氧树脂 /纳米二氧化硅 ( nm Si O2 )复合材料。利用拉伸试验、冲击试验、扫描电镜、热重分析等方法研究了该复合材料的结构和性能。结果表明 nm Si O2 均匀地分散在环氧树脂基体中 ,有效地改善了环氧树脂的力学性能 ,并且材料的耐热性也有所提高。 展开更多
关键词 环氧树脂 纳米二氧化硅 增强 增韧 原位分散聚合
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