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铝含量对铜镍电阻薄膜结构及电性能的影响 被引量:1
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作者 董显平 吴建生 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 2001年第2期34-38,共5页
采用磁控溅射法制备了铝含量分别为 0wt% ,10wt% ,2 0wt% ,30wt %的CuNi系电阻薄膜 ,应用透射电镜(TEM )、X光衍射仪 (XRD)分析薄膜在热处理前后的晶化行为 ,结合X光电子能谱仪 (XPS)分析了膜层表面结构组成。结果表明 ,当未加入铝元素... 采用磁控溅射法制备了铝含量分别为 0wt% ,10wt% ,2 0wt% ,30wt %的CuNi系电阻薄膜 ,应用透射电镜(TEM )、X光衍射仪 (XRD)分析薄膜在热处理前后的晶化行为 ,结合X光电子能谱仪 (XPS)分析了膜层表面结构组成。结果表明 ,当未加入铝元素时 ,溅射态CuNi薄膜析出孤岛状分布的CuNi晶化相 ;随着铝元素加入到一定量 ,CuNi薄膜将相继分解出链状分布的细小有序相 (Cu ,Ni) 9Al4 以及呈均匀连续状态的有序相 (Cu ,Ni)Al。经大气中退火处理 ,薄膜具有与溅射态相似的晶化相结构类型 ;未加入铝元素的退火态CuNi薄膜表面主要由疏松的氧化铜构成 ,而铝含量在 10wt%以上的CuNi薄膜表面主要由致密的三氧化二铝构成。随着薄膜中铝元素增多 ,CuNi薄膜电阻率呈下降趋势 ;铝含量为 10wt%~ 2 0wt %范围的CuNi薄膜具有最小的电阻温度系数值。随热处理温度提高 ,未含铝元素CuNi薄膜电阻率有增大倾向 ,电阻温度系数变化无一定规律 ;加至一定量铝元素的CuNi系薄膜电阻率随热处理温度的提高而减少 。 展开更多
关键词 铝含量 铜镍电阻薄膜 电性能 磁控溅射法 透射电镜 TEM X光衍射仪 XRD 晶化行为 结构组成
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Growth Model for Pulsed-Laser Deposited Perovskite Oxide Films
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作者 王旭 费义艳 +2 位作者 朱湘东 吕惠宾 杨国祯 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2008年第2期663-666,共4页
We present a multi-level growth model that yields some of the key features of perovskite oxide film growth as observed in the reflection high energy electron diffraction (RHEED) and ellipsometry studies. The model d... We present a multi-level growth model that yields some of the key features of perovskite oxide film growth as observed in the reflection high energy electron diffraction (RHEED) and ellipsometry studies. The model describes the effect of deposition, temperature, intra-layer transport, interlayer transport and Ostwald ripening on the morphology of a growth surface in terms of the distribution of terraces and step edges during and after deposition. The numerical results of the model coincide well with the experimental observation. 展开更多
关键词 VAPOR-PHASE EPITAXY BY-LAYER GROWTH intensity oscillationS diffraction surfaceS GAAS REFLECTION DYNAMICS MBE
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表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文) 被引量:5
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作者 董启明 郭小伟 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻... 表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持. 展开更多
关键词 干涉光刻 表面等离子体激元 克莱舒曼结构
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SrTiO_3同质外延过程中的反射高能电子衍射图案分析 被引量:3
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作者 魏贤华 张鹰 +5 位作者 李金隆 邓新武 刘兴钊 蒋树文 朱俊 李言荣 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期217-220,共4页
在激光分子束外延实验中 ,用RHEED原位监测了SrTiO3基片初始、退火以及同质外延过程中的表面形态 .通过对RHEED图案分析 ,获取了表面面内的晶格常数振荡与衍射条纹的半高宽振荡现象 ,前者是由退火重构表面与薄膜之间的界面造成的 ,后者... 在激光分子束外延实验中 ,用RHEED原位监测了SrTiO3基片初始、退火以及同质外延过程中的表面形态 .通过对RHEED图案分析 ,获取了表面面内的晶格常数振荡与衍射条纹的半高宽振荡现象 ,前者是由退火重构表面与薄膜之间的界面造成的 ,后者与二维岛边界的弛豫相关 . 展开更多
关键词 RHEED 弛豫 晶格常数 衍射条纹 SRTIO3 表面 二维 激光分子束外延 反射高能电子衍射 振荡
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