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Growth of threaded AlN whiskers by a physical vapor transport method 被引量:1
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作者 王军 赵萌 +1 位作者 左思斌 王文军 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第8期138-142,共5页
Threaded aluminum nitride (A1N) whiskers are grown by a physical vapor transport method in a radio-frequency induction heating furnace. The resultant whiskers are characterized by X-ray diffraction, Raman scattering... Threaded aluminum nitride (A1N) whiskers are grown by a physical vapor transport method in a radio-frequency induction heating furnace. The resultant whiskers are characterized by X-ray diffraction, Raman scattering, scanning electron microscopy, transmission electron microscopy and photoluminescence. The analysis shows that the whiskers are single-crystalline, wurtzite AIN. The threaded A1N whiskers are 0.5 μm^100 μm in diameter and several millimeters in length in the fiber direction, and have lots of tiny sawteeth on the surface. The morphology of this threaded A1N whisker is beneficial for bonding when the whisker is used in composite. The growth of the whiskers is dominated by the vapor-solid (VS) mechanism, and the particular morphology might result from an oscillating condition produced in the radio-frequency induction heating furnace. 展开更多
关键词 A1N WHISKER threaded morphology physical vapor transport
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Thermoelastic stresses in SiC single crystals grown by the physical yapor transport method 被引量:1
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作者 Zibing Zhang Jing Lu +1 位作者 Qisheng Chen V. Prasad 《Acta Mechanica Sinica》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第1期40-45,共6页
A finite element-based thermoelastic anisotropic stress model for hexagonal silicon carbide polytype is developed for the calculation of thermal stresses in SiC crystals grown by the physical vapor transport method. T... A finite element-based thermoelastic anisotropic stress model for hexagonal silicon carbide polytype is developed for the calculation of thermal stresses in SiC crystals grown by the physical vapor transport method. The composite structure of the growing SiC crystal and graphite lid is considered in the model. The thermal expansion match between the crucible lid and SiC crystal is studied for the first time. The influence of thermal stress on the dislocation density and crystal quality is discussed. 展开更多
关键词 Silicon carbide physical vapor transport Thermal stress Thermoelastic Thermal expansion match
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PVT法生长ZnTe晶体的技术 被引量:3
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作者 李晖 徐永宽 +2 位作者 程红娟 史月增 郝建民 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2013年第10期671-674,共4页
采用无籽晶物理气相传输(PVT)方法生长出ZnTe晶体。实验开始,温差较大,压强相对较低,造成晶体生长速率过快,从而以各成核点为中心进行岛状生长,形成了结构密集的ZnTe多晶结构。实验过程中,通过调整原料区与生长区温差和压强等工艺条件... 采用无籽晶物理气相传输(PVT)方法生长出ZnTe晶体。实验开始,温差较大,压强相对较低,造成晶体生长速率过快,从而以各成核点为中心进行岛状生长,形成了结构密集的ZnTe多晶结构。实验过程中,通过调整原料区与生长区温差和压强等工艺条件进行一系列籽晶扩大实验。发现适当缩小温差、增加生长压强有益于籽晶横向扩展。当温差缩小到35℃,压强增加到230 mbar(1 mbar=102 Pa),生长出了直径45 mm、厚度8 mm的ZnTe单晶。观察发现,晶体表面存在明显的孪晶线,孪晶线产生原因为生长前籽晶边缘有破损,导致生长过程突变。取其较大的单晶进行XRD测试,结果显示该ZnTe单晶具有良好的〈111〉晶向和结晶质量。 展开更多
关键词 碲化锌(ZnTe) 物理气相传输(pvt 单晶 多晶 籽晶
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物理气相传输(PVT)法生长碳化硅的晶体形态热应力分析 被引量:3
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作者 史永贵 戴培赟 +1 位作者 杨建锋 刘光亮 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期117-121,共5页
利用有限元方法对物理气相传输(PVT)法生长碳化硅晶体过程中出现的3种典型生长形态进行了热应力分析.结果表明:在3种晶体生长形态中,热应力最大值都出现在晶体与石墨坩埚盖接触区域;平面型生长形态中温度场及相应的热应变场和等效应力... 利用有限元方法对物理气相传输(PVT)法生长碳化硅晶体过程中出现的3种典型生长形态进行了热应力分析.结果表明:在3种晶体生长形态中,热应力最大值都出现在晶体与石墨坩埚盖接触区域;平面型生长形态中温度场及相应的热应变场和等效应力场分布均比较均匀;凸面型和凹面型生长形态的温度场及相应的热应变场和等效应力场分布均变化较大,而且在凸面型的中间区域和凹面型的边缘区域也存在较大的应力值.因此,为提高晶体质量,提出在石墨坩埚盖上沉积或反应生成碳化硅过渡层来减小热应力的改良方法,同时调整碳化硅晶体生长系统,尽量保证碳化硅晶体的平面型生长形态. 展开更多
关键词 物理气相传输(pvt) 碳化硅单晶 热应力 有限元
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衬底温度对PVT法生长AlN晶体自发形核的影响 被引量:1
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作者 史月增 金雷 +3 位作者 齐海涛 张丽 程红娟 徐永宽 《微纳电子技术》 北大核心 2017年第4期285-290,共6页
通过热力学理论对物理气相传输(PVT)法AlN晶体生长过饱和度进行分析,分别从软件模拟和晶体生长实验对衬底表面的温度分布进行调控,进而控制衬底表面AlN晶体生长的驱动力。理论上,采用Comsol模拟软件对坩埚结构的温度分布进行模拟仿真,... 通过热力学理论对物理气相传输(PVT)法AlN晶体生长过饱和度进行分析,分别从软件模拟和晶体生长实验对衬底表面的温度分布进行调控,进而控制衬底表面AlN晶体生长的驱动力。理论上,采用Comsol模拟软件对坩埚结构的温度分布进行模拟仿真,模拟结果表明:复合型衬底可以显著改变衬底表面的温度分布,达到改变衬底表面AlN气氛的过饱和度的目的;实验上,采用PVT法AlN晶体的生长实验验证了软件模拟结果。采用复合型衬底生长AlN晶体时,通过对衬底表面的温度分布调控可有效控制晶体生长驱动力,进而实现形核位置和形核数量的控制。经过6~8 h AlN晶体生长后,可获得尺寸约为12 mm、厚度约为3 mm的AlN单晶。喇曼光谱和XRD双晶摇摆曲线测试结果表明晶体质量良好。 展开更多
关键词 物理气相传输(pvt) 复合型衬底 驱动力 AlN晶体 形核
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PVT法同质籽晶AlN晶体生长 被引量:1
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作者 李宝珠 金雷 +5 位作者 史月增 齐海涛 张丽 程红娟 洪颖 李强 《微纳电子技术》 北大核心 2020年第5期399-403,共5页
为了获得高质量AlN晶体,通过物理气相传输(PVT)法,采用AlN籽晶进行AlN晶体生长,并通过双温区加热装置对衬底与原料之间的温差进行调节。研究结果表明,籽晶形核阶段,随着AlN籽晶与原料顶温差的减小,AlN的形核机制呈现三种模式,分别为岛... 为了获得高质量AlN晶体,通过物理气相传输(PVT)法,采用AlN籽晶进行AlN晶体生长,并通过双温区加热装置对衬底与原料之间的温差进行调节。研究结果表明,籽晶形核阶段,随着AlN籽晶与原料顶温差的减小,AlN的形核机制呈现三种模式,分别为岛生长模式、畴生长模式和螺旋位错生长模式;晶体生长阶段,通过增加AlN籽晶与原料顶温差来提高晶体生长速率,采用10℃/h的变温速率将温差从10℃增加为30℃时,AlN晶体生长模式不变,仍然保持螺旋位错生长模式,该生长模式下获得的AlN晶体结晶质量最高,(0002)面摇摆曲线半峰宽(FWHM)约为55 arcsec。 展开更多
关键词 物理气相传输(pvt) AlN籽晶 生长模式 生长速率 摇摆曲线
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PVT法氮化铝晶体铝面、氮面生长对比分析 被引量:1
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作者 史月增 王增华 +2 位作者 程红娟 张丽 殷利迎 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第12期2240-2245,共6页
在氮气环境下用PVT方法生长氮化铝过程中,氮面和铝面由于表面化学性质不同,生长的主要化学反应速度存在差异。原子在生长表面的迁移能力不同造成单晶表面生长方式差异较大。在基本相同条件下(生长温度、生长温差、生长气压、类似的籽晶... 在氮气环境下用PVT方法生长氮化铝过程中,氮面和铝面由于表面化学性质不同,生长的主要化学反应速度存在差异。原子在生长表面的迁移能力不同造成单晶表面生长方式差异较大。在基本相同条件下(生长温度、生长温差、生长气压、类似的籽晶、同一台生长设备)进行了铝、氮面氮化铝单晶晶体生长。为了更明显地表现铝氮面的差异,将同一片籽晶分为两半,翻转其中一半让铝氮面同时生长。铝面生长较好的区域形成了明显的晶畴,而氮面生长时生长较好的部分出现了明显的生长台阶,并出现了晶畴边界被生长台阶湮灭的生长现象,进一步通过AFM观测到铝面生长台阶平整但被缺陷所阻隔,晶畴发育明显为各晶畴独立生长。氮面生长台阶没有铝面规则但连续性较强,在原来晶畴边界位置也出现了连续的生长台阶(或台阶簇)。所以籽晶质量不高时氮面生长更容易提高晶体质量,后续的XRD测量结果也证明了氮面生长后的晶体质量明显高于铝面生长的晶体质量。 展开更多
关键词 氮化铝 物理气相传输 铝面生长 氮面生长 迁移能 晶畴
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PVT法生长4H-SiC晶体及多型夹杂缺陷研究进展 被引量:4
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作者 王宇 顾鹏 +3 位作者 付君 王鹏刚 雷沛 袁丽 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第12期2137-2152,共16页
作为第三代半导体材料的典型代表,碳化硅因具备宽的带隙、高的热导率、高的击穿电场以及大的电子迁移速率等性能优势,被认为是制作高温、高频、高功率以及高压器件的理想材料之一,可有效突破传统硅基功率半导体器件的物理极限,并被誉为... 作为第三代半导体材料的典型代表,碳化硅因具备宽的带隙、高的热导率、高的击穿电场以及大的电子迁移速率等性能优势,被认为是制作高温、高频、高功率以及高压器件的理想材料之一,可有效突破传统硅基功率半导体器件的物理极限,并被誉为带动“新能源革命”的绿色能源器件。作为制造功率器件的核心材料,碳化硅单晶衬底的生长是关键,尤其是单一4H-SiC晶型制备。各晶型体结构之间有着良好的结晶学相容性和接近的形成自由能,导致所生长的碳化硅晶体容易形成多型夹杂缺陷并严重影响器件性能。为此,本文首先概述了物理气相传输(PVT)法制备碳化硅晶体的基本原理、生长过程以及存在的问题,然后针对多型夹杂缺陷的产生给出了可能的诱导因素并对相关机理进行解释,进一步介绍了常见的碳化硅晶型结构鉴别方式,最后对碳化硅晶体研究作出展望。 展开更多
关键词 碳化硅晶体 物理气相传输 堆垛次序 多型夹杂 缺陷抑制 晶型鉴别
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PVT法碳化硅晶体生长热应力分析 被引量:2
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作者 孟大磊 李璐杰 张政 《材料研究与应用》 CAS 2020年第3期179-183,189,共6页
基于有限元数值计算方法,对物理气相传输(PVT)法生长碳化硅(SiC)晶体过程中籽晶托、坩埚侧壁、轴向温度梯度三个因素导致的热应力进行分析.研究结果表明:籽晶托与晶体之间的热失配所引起的热应力最大区域位于二者连接部位且靠近晶锭侧边... 基于有限元数值计算方法,对物理气相传输(PVT)法生长碳化硅(SiC)晶体过程中籽晶托、坩埚侧壁、轴向温度梯度三个因素导致的热应力进行分析.研究结果表明:籽晶托与晶体之间的热失配所引起的热应力最大区域位于二者连接部位且靠近晶锭侧边缘,且与籽晶托厚度成正相关;坩埚壁与晶体之间热失配产生的热应力集中区域位于晶锭侧面,也与坩埚壁厚度成正相关;轴向温度梯度产生的热应力取值与轴向温度梯度取值正相关,存在一温度梯度取值,使得切应力分量低于位错形成的临界剪切应力限σ_(crs).根据研究结果,优化籽晶托及坩埚结构和热场,抑制了晶体开裂现象,并大幅降低了所制备SiC晶体的位错密度. 展开更多
关键词 物理气相传输 碳化硅单晶 热应力 有限元
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PVT法碳化硅单晶生长系统的热场模拟 被引量:1
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作者 孟大磊 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期461-463,501,共4页
为了分析物理气相传输法碳化硅单晶生长系统中的温度分布,采用Matlab软件对PVT工艺中的热场进行了模拟。以能量方程为基础分析了由传导和辐射这两种传热方式所决定的系统的热量分配;采用有限元素法对所建立的描述连续函数的偏微分方程... 为了分析物理气相传输法碳化硅单晶生长系统中的温度分布,采用Matlab软件对PVT工艺中的热场进行了模拟。以能量方程为基础分析了由传导和辐射这两种传热方式所决定的系统的热量分配;采用有限元素法对所建立的描述连续函数的偏微分方程进行数值化离散;应用迦辽金加权残值法对由近似函数表征的离散方程转化为矩阵方程的形式;设计了平均算法计算出了系统的温度分布。更好地了解了碳化硅晶体生长过程的物理实质,以便更有效地改进生长系统,优化工艺参数。 展开更多
关键词 碳化硅 物理气相传输法 热场 有限元
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基于炭/炭复合材料加工余料制备碳化硅粉末的组织及性能
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作者 喻文瑞 张福勤 《粉末冶金材料科学与工程》 2024年第2期125-132,共8页
以炭/炭复合材料加工余料为碳源,与硅粉充分混合,通过高温合成法制备单晶生长用碳化硅粉末,并对其显微组织和表面性能进行研究。结果表明:制备出的碳化硅粉末晶型为β-SiC,部分继承了炭/炭复合材料加工余料的管槽状、脊状结构。在拉曼... 以炭/炭复合材料加工余料为碳源,与硅粉充分混合,通过高温合成法制备单晶生长用碳化硅粉末,并对其显微组织和表面性能进行研究。结果表明:制备出的碳化硅粉末晶型为β-SiC,部分继承了炭/炭复合材料加工余料的管槽状、脊状结构。在拉曼光谱中,该粉末的折叠横光与折叠纵光的半峰全宽之比为0.709,其相对纯度高于以石墨粉为碳源同工艺制备的碳化硅粉末。该碳化硅粉末具有多孔特征,比表面积为25.7426 m^(2)/g,可用于物理气相传输单晶生长工艺,且已初步验证其可行性。 展开更多
关键词 高温合成法 单晶生长 碳化硅粉末 物理气相传输 炭/炭复合材料
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Physical vapor transport crystal growth of ZnO
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作者 刘洋 马剑平 +2 位作者 刘富丽 臧源 刘艳涛 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第3期11-15,共5页
Zinc oxide(ZnO) has a wide band gap, high stability and a high thermal operating range that makes it a suitable material as a semiconductor for fabricating light emitting diodes(LEDs) and laser diodes, photodiodes... Zinc oxide(ZnO) has a wide band gap, high stability and a high thermal operating range that makes it a suitable material as a semiconductor for fabricating light emitting diodes(LEDs) and laser diodes, photodiodes, power diodes and other semiconductor devices. Recently, a new crystal growth for producing ZnO crystal boules was developed, which was physical vapor transport(PVT), at temperatures exceeding 1500 ?C under a certain system pressure. ZnO crystal wafers in sizes up to 50 mm in diameter were produced. The conditions of ZnO crystal growth, growth rate and the quality of ZnO crystal were analyzed. Results from crystal growth and material characterization are presented and discussed. Our research results suggest that the novel crystal growth technique is a viable production technique for producing ZnO crystals and substrates for semiconductor device applications. 展开更多
关键词 ZnO crystal boules physical vapor transport(pvt) sublimation impurity analysis growth rate
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基于8英寸的碳化硅单晶生长炉技术
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作者 靳丽岩 王毅 +3 位作者 王宏杰 武昕彤 郭帝江 师开鹏 《电子工艺技术》 2024年第3期46-49,62,共5页
碳化硅是制作高温、高频、大功率以及高压器件的理想材料之一。为提高生产效率并降低成本,大尺寸碳化硅衬底的制备是重要发展方向。针对8英寸碳化硅单晶生长的工艺需求,分析了碳化硅物理气相输运法生长机理,研究了碳化硅单晶生长炉的加... 碳化硅是制作高温、高频、大功率以及高压器件的理想材料之一。为提高生产效率并降低成本,大尺寸碳化硅衬底的制备是重要发展方向。针对8英寸碳化硅单晶生长的工艺需求,分析了碳化硅物理气相输运法生长机理,研究了碳化硅单晶生长炉的加热系统、坩埚旋转、工艺参数控制技术,通过热场模拟仿真分析和工艺试验,成功制备生长了8英寸晶体。 展开更多
关键词 碳化硅 8英寸 物理气相输运 单晶生长炉
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湿法腐蚀研究PVT法生长的SiC单晶中的位错 被引量:3
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作者 张红岩 刘云青 +4 位作者 宁敏 高玉强 李永峰 王希杰 宗艳民 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第12期926-929,935,共5页
采用湿法腐蚀对不同电阻率的4H-SiC衬底进行腐蚀。观察发现,对于同一类型缺陷,低电阻率衬底的缺陷腐蚀坑尺寸比高电阻率衬底的小1~2倍,证明氮元素掺杂的低电阻率SiC衬底的腐蚀速率更低。通过显微镜观察腐蚀后的衬底,对六边形的螺... 采用湿法腐蚀对不同电阻率的4H-SiC衬底进行腐蚀。观察发现,对于同一类型缺陷,低电阻率衬底的缺陷腐蚀坑尺寸比高电阻率衬底的小1~2倍,证明氮元素掺杂的低电阻率SiC衬底的腐蚀速率更低。通过显微镜观察腐蚀后的衬底,对六边形的螺位错(TSD)、近圆形的刃位错(TED)和贝壳形的基平面位错(BPD)腐蚀坑进行了分析。对比了TSD与微管腐蚀坑形貌的区别,虽然两种缺陷腐蚀坑都具有六边形形貌,但微管腐蚀坑尺寸比TSD腐蚀坑大1.4倍左右。通过对位错密度的统计,发现目前4H-SiC衬底中主要的位错为TED和BPD,而TSD密度相对较低,仅为420cm^-2。 展开更多
关键词 腐蚀 物理气相传输(pvt) 4H-SIC 位错 微管
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Electrical and γ-ray energy spectrum response properties of PbI_2 crystal grown by physical vapor transport 被引量:2
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作者 孙辉 朱兴华 +3 位作者 杨定宇 何知宇 朱世富 赵北君 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2012年第5期17-20,共4页
Lead iodide single crystal was grown by physical vapor transport method.Two radiation detectors with different configurations were fabricated from the as-grown crystal.The electrical and y-ray response properties at r... Lead iodide single crystal was grown by physical vapor transport method.Two radiation detectors with different configurations were fabricated from the as-grown crystal.The electrical and y-ray response properties at room temperature of the both detectors were investigated.It is found that the dark resistivity of the detectors are respectively 3×10^(10)Ω·cm for bias electric field parallel to crystal c-axis(E//c) and 2×10~8Ω·cm for perpendicular to crystal c-axis(E⊥c).The energy spectrum response measurement shows that both detectors were sensitive to ^(241) Am 59.5 keVγ-rays,and achieved a good energy resolution of 16.8%for the E⊥c-axis configuration detector with a full width at half maximum of 9.996 keV. 展开更多
关键词 PbI_2 crystal physical vapor transport radiation detector γ-rays energy spectrum
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PVT法生长大尺寸CdS单晶中的孔洞研究
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作者 霍晓青 程红娟 +3 位作者 于凯 赵堃 王健 金雷 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第11期899-904,共6页
CdS单晶是一种电学和光学性能优异的Ⅱ-Ⅵ族直接带隙半导体材料,近年受到人们的广泛关注。但是大尺寸CdS单晶在生长过程中易形成孔洞缺陷,质量难以控制,使其电学性能不稳定,制约着晶体的实际应用。采用物理气相传输(PVT)法成功地生长了... CdS单晶是一种电学和光学性能优异的Ⅱ-Ⅵ族直接带隙半导体材料,近年受到人们的广泛关注。但是大尺寸CdS单晶在生长过程中易形成孔洞缺陷,质量难以控制,使其电学性能不稳定,制约着晶体的实际应用。采用物理气相传输(PVT)法成功地生长了尺寸为55 mm×15 mm的CdS单晶,对CdS单晶中孔洞产生的过程、孔洞形成的原因进行了分析和研究,进而提出了改进的CdS晶体生长技术,降低了晶体孔洞缺陷的密度,提高了CdS晶体的质量。在25~300 K,对采用改进生长方法生长的大尺寸CdS单晶进行了霍尔迁移率、载流子浓度和电阻率等测试,其迁移率最高可达7 000 cm2·V^-1·s^-1,为大尺寸CdS单晶在器件中的实际应用提供了重要的数据支撑。 展开更多
关键词 CdS单晶 物理气相传输(pvt)法 晶体缺陷 孔洞 霍尔迁移率
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坩埚位置对PVT生长AlN晶体过程中物质传输的影响 被引量:1
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作者 雷丹 王琦琨 +4 位作者 黄嘉丽 贺广东 龚建超 付丹扬 吴亮 《半导体光电》 CAS 北大核心 2019年第5期665-670,共6页
使用FEMAG晶体生长模拟仿真软件以及自主开发的PVT法有限元传质模块对全自动、双电阻加热物理气相沉积炉开展了AlN晶体生长工艺过程中不同坩埚埚位对温度场、过饱和度场及烧结体升华速率等影响的模拟仿真分析研究。模拟仿真结果表明:在... 使用FEMAG晶体生长模拟仿真软件以及自主开发的PVT法有限元传质模块对全自动、双电阻加热物理气相沉积炉开展了AlN晶体生长工艺过程中不同坩埚埚位对温度场、过饱和度场及烧结体升华速率等影响的模拟仿真分析研究。模拟仿真结果表明:在给定工艺条件下,坩埚埚位较低时烧结体温度较高且内部温差较小,烧结体升华表面存在较大的Al蒸气分压梯度,各表面升华速率较快且均匀,籽晶衬底生长前沿温度场呈微凸分布,有利于晶体扩径及生长高质量晶体。随着坩埚埚位的上升,低温区向坩埚壁扩展,预烧结体内轴向及径向温度梯度增加,籽晶衬底附近径向温度梯度逐步降低,过饱和度区域扩大且增强。在坩埚埚位较高情况下,坩埚内原料升华变得不均匀,坩埚侧壁存在高过饱和区域,极易在坩埚壁上发生大量的AlN多晶沉积。模拟分析结果与大量实际晶体生长实验后的坩埚壁处沉积现象及剩余烧结体原料形态相符,较好地验证了模拟仿真分析结果的准确性。 展开更多
关键词 ALN 物理气相传输法 模拟仿真 坩埚埚位 物质传输
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PVT法钨坩埚系统中自发生长自支撑AlN单晶及其表征分析 被引量:1
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作者 龚建超 朱如忠 +4 位作者 刘欢 王琦琨 李哲 张刚 吴亮 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第7期1162-1167,共6页
采用物理气相传输(PVT)法在AlN原料表面自发生长出大量毫米级尺寸的AlN单晶。本文对该工艺下AlN单晶的自然形貌、极性、杂质含量等进行了分析。实验及分析结果表明,在实验工艺条件下,原料表面生长的AlN晶粒具有规则的六方外形,晶粒沿C... 采用物理气相传输(PVT)法在AlN原料表面自发生长出大量毫米级尺寸的AlN单晶。本文对该工艺下AlN单晶的自然形貌、极性、杂质含量等进行了分析。实验及分析结果表明,在实验工艺条件下,原料表面生长的AlN晶粒具有规则的六方外形,晶粒沿C向择优生长且具有高的生长速率(约200~250μm/h),但径向生长受限于{10-10}(m面)。不同颜色的AlN晶粒经机械切割及化学机械抛光(CMP)后,形成高表面质量的C轴取向抛光片。通过化学湿法腐蚀和SEM表征发现,淡黄色晶粒为Al极性晶体,暗棕色晶粒为N极性晶体,淡黄-暗棕混合色晶粒为Al/N混合极性晶体,其内部可以观察到清晰的两种极性分界。通过GDMS与EGA对不同颜色晶粒内部的主要杂质元素含量进行了分析,结果表明,淡黄色晶粒内氧元素的含量相比暗棕色晶粒的含量低,而碳含量则相反。 展开更多
关键词 氮化铝 物理气相传输法 自支撑 生长极性 杂质元素
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基于PVT法自发形核生长AlN晶体的研究 被引量:1
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作者 曹凯 汪佳 +3 位作者 王智昊 任忠鸣 邓康 吴亮 《半导体光电》 北大核心 2017年第5期680-684,共5页
根据物理气相传输法(PVT)AlN晶体生长特点及工艺要求,自主设计了AlN晶体生长炉及其配套热场。FEMAG软件热场模拟结果表明,自主设计的晶体生长炉及其配套热场可以达到AlN晶体生长所需坩埚内部温度梯度要求。基于设计的PVT生长炉,开展了在... 根据物理气相传输法(PVT)AlN晶体生长特点及工艺要求,自主设计了AlN晶体生长炉及其配套热场。FEMAG软件热场模拟结果表明,自主设计的晶体生长炉及其配套热场可以达到AlN晶体生长所需坩埚内部温度梯度要求。基于设计的PVT生长炉,开展了在2 250℃生长温度、40h长晶时间条件下的自发形核生长实验。实验研究结果表明,在该工艺条件下,通过自发形核可生长得到典型长度为3~5mm、直径为2mm的高质量AlN单晶;AlN晶体的c-plane(0001)生长速率最快,易形成尖锥形晶体结构,不利于晶体的扩径;Raman表征图谱中AlN晶体的E2(high)半峰宽仅为5.65cm-1,表明AlN晶体质量非常高;SEM、EDS分析得出晶体内部质量较为均匀,c-plane和m-plane腐蚀形貌特征明显。 展开更多
关键词 ALN 物理气相传输法 热场设计 实验分析
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High infrared transmittance CdS single crystal grown by physical vapor transport
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作者 Xiaoqing Huo Huaqing Si +2 位作者 Kun Zhao Yingwu Zhang Hongjuan Cheng 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2018年第12期38-41,共4页
Φ55×15 mm~2 CdS bulk single crystal with high infrared transmittance was grown by physical vapor transport. The single crystal has a consistent structure from top to bottom, which was confirmed by X-ray diffract... Φ55×15 mm~2 CdS bulk single crystal with high infrared transmittance was grown by physical vapor transport. The single crystal has a consistent structure from top to bottom, which was confirmed by X-ray diffraction. The(002) full-width at half-maximum of the X-ray diffraction was measured to be 60.00 arcsec, indicating a good quality of the structure. Hall mobility, specific resistivity, and carrier concentration for the top and bottom of the crystal were observed as well. Transmittance for the CdS single crystal was measured to be higher than 70% from 2.5 to 4.5 μm, making the single crystal an important candidate for infrared window materials. Furthermore,the absorption mechanism of the CdS single crystal was analyzed. 展开更多
关键词 semiconducting materials single crystal growth physical vapor transport X-ray diffraction
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