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氧等离子体处理炭黑及其在水中分散性 被引量:7
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作者 曹淑华 董志军 +1 位作者 沈丽 戴瑾瑾 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期186-189,193,共5页
以氧气为气氛对纳米级炭黑进行等离子体处理,通过改变处理功率、时间和压强等条件,考察处理后炭黑在水中的分散稳定性.当改变压强、时间和功率中的某一因素时,炭黑在水中的分散稳定性呈规律性变化,每个因素都存在相应的最适条件(30Pa,80... 以氧气为气氛对纳米级炭黑进行等离子体处理,通过改变处理功率、时间和压强等条件,考察处理后炭黑在水中的分散稳定性.当改变压强、时间和功率中的某一因素时,炭黑在水中的分散稳定性呈规律性变化,每个因素都存在相应的最适条件(30Pa,80W,5min).炭黑经氧等离子体表面改性后,其在水中的分散性大大提高,经过35d的自然沉降,分散性仍可达87%.经X-射线光电子能谱(XPS)分析发现,炭黑经氧等离子体表面处理以后,其表面引入了CO,—OH,—COOH,O—C—O等含氧基团. 展开更多
关键词 氧气 等离子体 炭黑 表面改性 分散性 X-射线光电子能谱(XPS)
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