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聚苯胺薄膜厚度的表征及原位生长
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作者 李冀蜀 顾大伟 +1 位作者 沈临江 杨南如 《南京工业大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2010年第5期6-11,共6页
以石英基片为衬底,分别在常压0.1 MPa和500 MPa高压条件下采用原位聚合法制备聚苯胺(PANI)薄膜.通过对PANI薄膜的厚度进行原子力显微镜的直接测量和光谱的间接表征,建立了薄膜厚度df(nm)与薄膜UV-Vis吸收光谱中400 nm处吸收强度A400间... 以石英基片为衬底,分别在常压0.1 MPa和500 MPa高压条件下采用原位聚合法制备聚苯胺(PANI)薄膜.通过对PANI薄膜的厚度进行原子力显微镜的直接测量和光谱的间接表征,建立了薄膜厚度df(nm)与薄膜UV-Vis吸收光谱中400 nm处吸收强度A400间的关系:df=548A400(0.1 MPa)及df=341A400(500 MPa).根据这一关系进一步测量了薄膜的生长曲线,并通过扫描电镜(SEM)形貌观测和电导率测试,研究了原位聚合PANI薄膜在不同合成压力下的生长及导电特性. 展开更多
关键词 聚苯胺薄膜 厚度 压力 原位聚合 生长
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