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萘酚基酚醛树脂的合成及其在lift-off光刻胶中的应用
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作者 孙小侠 司树伟 +2 位作者 郑祥飞 刘敬成 穆启道 《影像科学与光化学》 CAS 2020年第4期609-614,共6页
首先以α-萘酚、间甲酚、甲醛为单体,通过缩聚反应合成了萘酚基酚醛树脂NAPR,随后与二碳酸二叔丁酯(DBDC)反应制备了一系列t-BOC改性的萘酚基酚醛树脂NAPR-BOC。用红外(FT-IR)、核磁(1 H NMR)、凝胶色谱(GPC)、热失重分析(TGA)对其结构... 首先以α-萘酚、间甲酚、甲醛为单体,通过缩聚反应合成了萘酚基酚醛树脂NAPR,随后与二碳酸二叔丁酯(DBDC)反应制备了一系列t-BOC改性的萘酚基酚醛树脂NAPR-BOC。用红外(FT-IR)、核磁(1 H NMR)、凝胶色谱(GPC)、热失重分析(TGA)对其结构及性能进行了表征。以NAPR-BOC-2为基体树脂配制成lift-off光刻胶,测试了光刻胶的分辨率、形貌和耐热性,得到的光刻胶分辨率最大为0.6μm,耐热可达130℃。 展开更多
关键词 Α-萘酚 酚醛树脂 正性光刻胶 NAPR-BOC lift-off
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酚醛-重氮萘醌正性抗蚀剂溶解抑制机理 被引量:6
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作者 高英新 包永忠 +1 位作者 黄志明 翁志学 《感光科学与光化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期33-43,共11页
本文综述了酚醛 重氮萘醌正性抗蚀剂的溶解抑制机理,主要包括(1)分子间氢键作用机理;(2)偶联反应机理;(3)两步即静态、动态溶解抑制机理;(4)表面沉积溶解抑制机理;(5)酚醛树脂的分子溶解及相关的抑制机理.
关键词 酚醛树脂 重氮萘醌 正性抗蚀剂 溶解抑制
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一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究 被引量:6
3
作者 陈明 李元昌 +2 位作者 洪啸吟 焦晓明 程爱萍 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第9期1485-1488,共4页
研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺 (HMMM)、六氟磷酸根二苯碘盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂 ,发现二苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物 ,而且可以作为阻溶剂 .用碘盐作为光敏产酸物 ,光解产生的酸可以在中... 研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺 (HMMM)、六氟磷酸根二苯碘盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂 ,发现二苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物 ,而且可以作为阻溶剂 .用碘盐作为光敏产酸物 ,光解产生的酸可以在中烘时催化甲酚醛树脂与 HMMM的交联反应 ;用氢氧化钠 -乙醇水溶液显影可以得到负性光刻图形 ;采用碘盐作为阻溶剂 ,可阻止非曝光区的胶膜溶解在显影液中 ,用稀的氢氧化钠水溶液显影可以得到正性光刻图形 .通过优化后的光刻工艺条件 ,采用不同的显影液和光刻工艺流程 ,实现了同一光致抗蚀剂的正负性反转 ,并分别得到负性和正性光刻图形 . 展开更多
关键词 阻溶剂 光致抗蚀剂 化学增幅抗蚀剂 正负性反转
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一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及光刻性能研究 被引量:5
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作者 谢文 刘建国 李平 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期52-58,共7页
本文合成了N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺单体,并将其与N-苯基马来酰亚胺共聚得到共聚物聚N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(NCMA-co-NPMI)).将此共聚物作为成膜树脂,与感光剂、溶剂等复配得到一种新型耐高温紫外正型... 本文合成了N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺单体,并将其与N-苯基马来酰亚胺共聚得到共聚物聚N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(NCMA-co-NPMI)).将此共聚物作为成膜树脂,与感光剂、溶剂等复配得到一种新型耐高温紫外正型光刻胶.本文探讨了该光刻胶的最佳配方组成和最佳光刻工艺.最佳配方组成为:15%—20%成膜树脂,4.5%—6%感光剂和70%—80%溶剂;最佳光刻工艺为:匀胶30 s(4000 rpm),前烘4 min(90℃),感度为30—35mJ/cm^2,在0.2%TMAH溶液显影10 s和后烘2 min(90℃). 展开更多
关键词 紫外正型光刻胶 光刻
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一种新型的正胶剥离技术及其应用 被引量:2
5
作者 信思树 普朝光 +1 位作者 杨明珠 杨培志 《红外技术》 CSCD 北大核心 2006年第2期105-107,共3页
介绍了在金属微细图形化制作中常用的两种方法:刻蚀和剥离,并比较了两者的优劣。开发了一种新型的正胶剥离技术,着重解决了传统的正胶剥离技术中所存在的较为严重的“二次污染”问题,提高了其剥离精度,达到2μm。最后介绍了新型的正胶... 介绍了在金属微细图形化制作中常用的两种方法:刻蚀和剥离,并比较了两者的优劣。开发了一种新型的正胶剥离技术,着重解决了传统的正胶剥离技术中所存在的较为严重的“二次污染”问题,提高了其剥离精度,达到2μm。最后介绍了新型的正胶剥离技术在实际工作中的应用。 展开更多
关键词 正胶 剥离技术 金属微细图形化 二次污染
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高精度AZ厚胶光刻及在微型射频同轴器制作中的应用 被引量:2
6
作者 杜立群 李爰琪 +4 位作者 齐磊杰 李晓军 朱和卿 赵雯 阮久福 《航空制造技术》 2018年第9期26-31,共6页
基于正负胶结合的UV-LIGA技术在金属基底上制作了一种新型无源微型射频同轴传输器。针对制作过程中由于胶膜内部曝光剂量分布不均匀导致的正性厚胶AZ50XT光刻图形精度低的问题,在紫外光刻工艺的基础上,采用分次曝光显影的方法,制作了高... 基于正负胶结合的UV-LIGA技术在金属基底上制作了一种新型无源微型射频同轴传输器。针对制作过程中由于胶膜内部曝光剂量分布不均匀导致的正性厚胶AZ50XT光刻图形精度低的问题,在紫外光刻工艺的基础上,采用分次曝光显影的方法,制作了高尺寸精度的电铸胶膜。对不同尺寸的掩膜板图形进行分次曝光显影试验,研究了分次曝光显影法对光刻图形尺寸精度的影响。试验结果表明:分次曝光显影法可以显著提高AZ50XT胶膜图形化精度,并且光刻图形的精度与掩膜板图形尺寸无关。最后,基于上述试验成果,制作了整体尺寸为3000μm×400μm×200μm,单层最大厚度为60μm,侧壁倾角均大于85°的微型射频同轴传输器。 展开更多
关键词 正性光刻胶 尺寸精度 曝光剂量分布 紫外光刻 微射频同轴传输器
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我国正性光刻胶的制备与应用研究进展 被引量:3
7
作者 杜新胜 张红星 《粘接》 CAS 2019年第1期36-40,共5页
简述了正性光刻胶的光聚合机理,重点阐述了我国正性光刻胶的制备研究进展,并指出了我国正性光刻胶研究及发展方向。
关键词 正性 光刻胶 光聚合机理 聚合 应用
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一种新型分子玻璃光致抗蚀剂材料及其应用 被引量:1
8
作者 徐娜 宋金卓 赵飞 《吉林化工学院学报》 CAS 2013年第7期11-14,共4页
分子玻璃体是在室温下为无定形态的低分子量材料.通过含大的脂环基团的一元羧酸和二乙烯基醚的反应,得到了一种新颖的酯缩醛结构分子玻璃体.该化合物具有单分散性且是无定形的,可溶于常用的溶剂,具有高的热稳定性.在室温或稍高温度下,... 分子玻璃体是在室温下为无定形态的低分子量材料.通过含大的脂环基团的一元羧酸和二乙烯基醚的反应,得到了一种新颖的酯缩醛结构分子玻璃体.该化合物具有单分散性且是无定形的,可溶于常用的溶剂,具有高的热稳定性.在室温或稍高温度下,该酯缩醛化合物可以被光产酸剂产生的强酸很快分解,从而易溶于稀的碱溶液.初步测试了它们与光产酸剂组成正型光致抗蚀剂体系的成像性质,得到了分辨率为0.5μm的清晰的图像. 展开更多
关键词 分子玻璃体 正型光致抗蚀剂 酯缩醛化合物 光产酸剂
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两种耐高温紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及性能 被引量:4
9
作者 刘建国 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2012年第5期330-337,共8页
分别通过N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺与N-苯基马来酰亚胺、N-苯基甲基丙烯酰胺与N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺的共聚合,制备了两种聚合物树脂聚N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(HPMA-co-PMI))和聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N... 分别通过N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺与N-苯基马来酰亚胺、N-苯基甲基丙烯酰胺与N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺的共聚合,制备了两种聚合物树脂聚N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(HPMA-co-PMI))和聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺(poly(MPA-co-HPMI)).结果表明,这两种聚合物都是按1∶1的摩尔比交替共聚的,它们都具有良好的溶解性、成膜性和亲水性,并且它们的玻璃化温度Tg都在280℃以上.将它们分别与感光剂2,1,5-磺酰氯的衍生物、助剂二苯甲酮等复配成两种紫外正型光刻胶,初步光刻实验表明,其最大分辨率都可以达到1μm,并且都可以耐270℃的高温. 展开更多
关键词 紫外正型光刻胶 成膜树脂 耐热性 聚N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺 聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺
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一种MEMS复合牺牲层工艺的研究 被引量:1
10
作者 王超 张永华 +2 位作者 郭兴龙 欧阳炜霞 赖宗声 《电子工艺技术》 2009年第3期125-127,136,共4页
以MEMS滤波器中的MEMS开关牺牲层的工艺为例,通过同时运用聚酰亚胺和正胶作为牺牲层材料的方法,避免了牺牲层单独使用聚酰亚胺做材料难于去除,或单独使用光刻胶做材料,叠层旋涂光刻胶时会出现龟裂的缺点。改善了牺牲层固化和刻蚀的效果... 以MEMS滤波器中的MEMS开关牺牲层的工艺为例,通过同时运用聚酰亚胺和正胶作为牺牲层材料的方法,避免了牺牲层单独使用聚酰亚胺做材料难于去除,或单独使用光刻胶做材料,叠层旋涂光刻胶时会出现龟裂的缺点。改善了牺牲层固化和刻蚀的效果,减小了刻蚀的时间。此研究应用在表面微细加工工艺中,对MEMS加工工艺具有一定的参考价值。 展开更多
关键词 射频微机械开关 牺牲层 聚酰亚胺 正胶 刻蚀
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纳米尺度自旋转移矩器件的制备工艺
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作者 任敏 陈培毅 邓宁 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第11期685-688,701,共5页
提出一种改进的自旋转移矩器件的制备工艺:在电子束曝光形成纳米级图形之后,依次采用离子束刻蚀、带胶绝缘层淀积再正胶剥离的图形转移方法,成功制备了纳米柱状赝自旋阀结构磁性多层膜CoFe/Cu/CoFe/Ta,器件的横向尺寸为140nm×70nm... 提出一种改进的自旋转移矩器件的制备工艺:在电子束曝光形成纳米级图形之后,依次采用离子束刻蚀、带胶绝缘层淀积再正胶剥离的图形转移方法,成功制备了纳米柱状赝自旋阀结构磁性多层膜CoFe/Cu/CoFe/Ta,器件的横向尺寸为140nm×70nm。对该结构进行了电磁学性质的测试:在变化范围为-500~+500Oe(1A/m=4π×10-3 Oe)的外加磁场下,观测到巨磁阻效应;在零外加磁场下,施加垂直于膜平面的电流时,观测到电流诱导的磁化翻转效应,其临界电流密度为108 A/cm2量级。该方法具有工艺步骤少、易于实现的特点,在自旋转移矩器件等纳米级器件的制备中具有广泛的应用前景。 展开更多
关键词 纳米柱 磁性多层膜 电子束曝光 离子束刻蚀 正胶剥离
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一种新型深紫外正型光致抗蚀剂材料的研究 被引量:2
12
作者 褚战星 程龙 +1 位作者 王文君 王力元 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2006年第5期377-381,共5页
通过松香酸和丙烯酸的Diels-Alder反应得到了一种二酸———丙烯海松酸.丙烯海松酸有大的脂环结构和良好的成膜性,在固体膜层中,它可以和二乙烯基醚,如1,3-二乙烯氧基乙氧基苯,在加热条件下(80℃以上)发生反应,产物在稀碱水中难溶.这样... 通过松香酸和丙烯酸的Diels-Alder反应得到了一种二酸———丙烯海松酸.丙烯海松酸有大的脂环结构和良好的成膜性,在固体膜层中,它可以和二乙烯基醚,如1,3-二乙烯氧基乙氧基苯,在加热条件下(80℃以上)发生反应,产物在稀碱水中难溶.这样形成的产物在光产酸剂产生的强酸催化下,在温度高于100℃时,可以迅速分解,从而变成稀碱水易溶.因此,用此二酸、二乙烯基醚和产酸剂可组成一种正型的光致抗蚀剂,当用254 nm的低压汞灯曝光时,其感度在30 mJ/cm2以下. 展开更多
关键词 正型光致抗蚀剂 二乙烯基醚 丙烯海松酸 光产酸剂
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含碘鎓盐光产酸剂和增感染料的化学增幅型i-线正性光致抗蚀剂 被引量:1
13
作者 刘娟 孔繁荣 +1 位作者 余金星 王力元 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期430-437,共8页
4,4′-二甲苯基三氟甲磺酸碘鎓盐可以被染料增感,在365nm光照时分解产酸.尽管产生的酸与染料的胺基发生作用,依然能在后烘过程中催化缩醛聚合物酸敏基团的分解,但需要稍高的后烘温度和稍长的后烘时间.基于此,本文将酚醛树脂、缩醛聚合... 4,4′-二甲苯基三氟甲磺酸碘鎓盐可以被染料增感,在365nm光照时分解产酸.尽管产生的酸与染料的胺基发生作用,依然能在后烘过程中催化缩醛聚合物酸敏基团的分解,但需要稍高的后烘温度和稍长的后烘时间.基于此,本文将酚醛树脂、缩醛聚合物、碘鎓盐产酸剂和染料组成了一种新型的化学增幅型i-线正性光致抗蚀剂材料,在曝光量为100mJ/cm2时可得到分辨率为0.8μm的清晰图形.染料与鎓盐光产酸剂组成的感光体系具有很好的漂白性,改善了抗蚀剂材料的透明性. 展开更多
关键词 敏化剂 产酸剂 染料 正型 i-线抗蚀剂 酸解 缩醛聚合物
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水溶性光致抗蚀剂研究进展 被引量:2
14
作者 翟晓晓 褚战星 王力元 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2007年第1期69-79,共11页
本文按传统光化学反应型和化学增幅型两种类型对近10年水溶性光致抗蚀剂的发展状况做了分类总结,并重点介绍了成像反应原理和各体系的优缺点.
关键词 水溶性光致抗蚀剂 化学增幅 正型 负型
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正胶铬板图象反转技术的研究 被引量:1
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作者 薛耀国 朱长纯 陈福山 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1996年第3期53-55,共3页
本文阐术了在S-1400正胶中加入适量咪唑,使正胶不仅具有原来特性,而且经一定工艺处理后还具有负胶的功能。在制造铬板时,用这种胶涂敷的铬板既可当正胶板用也可作负胶板用,即得到“正负两型”铬板。
关键词 铬板 图象反转 正胶铬板 集成电路 光刻
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高衍射效率全息光栅的制作与复制工艺研究 被引量:7
16
作者 臧甲鹏 王朝阳 《现代科学仪器》 1999年第5期46-48,共3页
本文根据正性光致抗蚀的感光显影特性,推导出了全息光栅沟槽深度公式,分析了影响光栅糟型结构的因素,建立了光栅沟槽模型。并根据论理论制作出了衍射效率高达65%的 2400线/毫米的全息平面反射光栅。本文还介绍了全息光栅复... 本文根据正性光致抗蚀的感光显影特性,推导出了全息光栅沟槽深度公式,分析了影响光栅糟型结构的因素,建立了光栅沟槽模型。并根据论理论制作出了衍射效率高达65%的 2400线/毫米的全息平面反射光栅。本文还介绍了全息光栅复制技术,解决了高质量光栅昂贵的生产成本和大批量生产问题。 展开更多
关键词 正性光致抗蚀剂 光栅沟槽 衍射效率 光栅复制
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2-重氮-1-萘醌-5-磺酸-聚乙二醇酯的合成及性能研究 被引量:2
17
作者 浦家诚 倪沛红 《功能高分子学报》 CAS CSCD 1992年第1期34-38,共5页
本文通过各种分子量范围的聚乙二醇与2-重氮-1-萘醌-5-磺酰氯(简称“215”-磺酰氯)按下式进行反应。式中,n为3~13的整数,作者对合成条件进行了探索。对所得的光敏剂作了波谱分析,并以这些光敏剂分别与线型酚醛树脂(软化点T_S=125~134... 本文通过各种分子量范围的聚乙二醇与2-重氮-1-萘醌-5-磺酰氯(简称“215”-磺酰氯)按下式进行反应。式中,n为3~13的整数,作者对合成条件进行了探索。对所得的光敏剂作了波谱分析,并以这些光敏剂分别与线型酚醛树脂(软化点T_S=125~134℃)及溶剂等配制成紫外正性光刻胶,对光刻胶的感光性能进行了研究。结果表明聚乙二醇-300,在30℃下与215~磺酰氯反应3小时,介质的pH=7~8,所得光敏剂用于正性光刻胶,胶的性能优良,感光速度快,分辨力为Iμm。未曝光区域的留膜率可达96~98%。 文献中指出:单用215-磺酰氯作为光敏剂配制的光刻胶成像性差,分辨力不高,若改变磺酸酯基或磺酰胺氨基(即中心基团)的分子结构例如:酚类,胺类或醇类等化合物^([1~5]),则对光刻胶的性能有很大改善。本屋联这一论点提供了实验依据。 展开更多
关键词 光刻胶 光敏剂 聚乙二醇 碳酰氯
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Lateral bipolar photoresistance effect in the CIGS heterojunction and its application in position sensitive detector and memory device 被引量:5
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作者 Jihong Liu Zicai Zhang +3 位作者 Shuang Qiao Guangsheng Fu Shufang Wang Caofeng Pan 《Science Bulletin》 SCIE EI CSCD 2020年第6期477-485,M0004,共10页
Cu(In,Ga)Se2(CIGS) based multilayer heterojunction, as one of the best high efficiency thin film solar cells, has attracted great interest due to its outstanding features. However, the present studies are primarily fo... Cu(In,Ga)Se2(CIGS) based multilayer heterojunction, as one of the best high efficiency thin film solar cells, has attracted great interest due to its outstanding features. However, the present studies are primarily focused on the structure optimization and modulation in order to enhance the photoelectric conversion efficiency. Here, we exploit another application of this multilayer heterostructure in photoresistance-modulated position sensitive detector by introducing lateral photoresistance effect.The lateral photoresistance measurements show that this multilayer heterojunction exhibits a wide spectral response(~330 to ~1150 nm) and excellent bipolar photoresistance performances(position sensitivity of ~63.26 X/mm and nonlinearity <4.5%), and a fast response speed(rise and fall time of ~14.46 and^14.42 ms, respectively). More importantly, based on the lateral photoresistance effect, the CIGS heterostructure may also be developed as a position-dependent resistance memory device, which can be modulated by changing laser intensity, wavelength, and bias voltage with excellent stability and repeatability, and the position resolution reaches up to 1 lm. These results can be well explained by considering the diffusion and the drift model of carriers in the CIGS multilayer heterojunction. This work provides a new approach of achieving novel photoelectric sensors and memory devices based on the traditional photovoltaic heterostructures. 展开更多
关键词 CIGS HETEROSTRUCTURE LATERAL photoresistance PHOTORESPONSE position sensitive detector
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RZJ-304光刻胶压电雾化喷涂工艺及其应用 被引量:1
19
作者 翟荣安 缪灿锋 +2 位作者 魏顶 储成智 汝长海 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2016年第20期1070-1073,共4页
在自主搭建的压电雾化喷涂系统上,以RZJ-304正性光刻胶为研究对象,圆形抛光硅片为基材,研究了稀释体积比、预热温度以及喷涂层数对光刻胶薄膜平均厚度及均匀性的影响,并得到最佳工艺参数。以具有方形结构的抛光硅片为基材,分别进行压电... 在自主搭建的压电雾化喷涂系统上,以RZJ-304正性光刻胶为研究对象,圆形抛光硅片为基材,研究了稀释体积比、预热温度以及喷涂层数对光刻胶薄膜平均厚度及均匀性的影响,并得到最佳工艺参数。以具有方形结构的抛光硅片为基材,分别进行压电雾化喷涂法和离心旋转法涂胶,并进行图案光刻,结果表明压电雾化喷涂法可以在非圆形形貌上得到清晰完整的图案,克服了传统离心旋转法无法在非圆形面上涂胶的缺陷,验证了压电雾化喷涂法在非圆形形貌应用中的可行性。 展开更多
关键词 正性光刻胶 压电雾化喷涂 平均厚度 均匀性 抛光硅片 方形结构
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在非晶硅上制备角度可控缓坡的方法
20
作者 秦康宁 张根 +4 位作者 杨泰 钟慧 蒋欣 杜波 马晋毅 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2018年第5期670-673,共4页
介绍了一种利用光的衍射原理制备角度可控缓坡微结构的方法。该方法在光刻步骤中通过调节掩膜板与基片之间的垂直距离来控制光刻胶图形边缘曝光量,光刻显影后得到剖面为正梯形的光刻胶图形,再经过干法刻蚀得到非晶硅的缓坡微结构。结果... 介绍了一种利用光的衍射原理制备角度可控缓坡微结构的方法。该方法在光刻步骤中通过调节掩膜板与基片之间的垂直距离来控制光刻胶图形边缘曝光量,光刻显影后得到剖面为正梯形的光刻胶图形,再经过干法刻蚀得到非晶硅的缓坡微结构。结果表明,制备的非晶硅缓坡结构角度(可小于30°)可控,制备方法简单,与半导体工艺兼容,可避免湿法刻蚀带来的过蚀及角度不均匀问题。 展开更多
关键词 正胶 光刻 非晶硅 干法刻蚀 反应离子刻蚀
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