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化学气相反应法制备Zr-Si-C涂层 被引量:7
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作者 殷小玮 GUTMANAS Elazar +1 位作者 成来飞 张立同 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1419-1422,1438,共5页
为了提高Zr-Si-C涂层与基体的结合强度,基于粉末埋入反应辅助涂覆工艺,采用新型化学气相反应法在SiC陶瓷表面制备Zr-Si-C涂层。SiC陶瓷基片被包埋于Zr-1%(质量分数)I_2混合粉体中,在850~1100℃进行化学气相反应。碘促进Zr原子向SiC陶... 为了提高Zr-Si-C涂层与基体的结合强度,基于粉末埋入反应辅助涂覆工艺,采用新型化学气相反应法在SiC陶瓷表面制备Zr-Si-C涂层。SiC陶瓷基片被包埋于Zr-1%(质量分数)I_2混合粉体中,在850~1100℃进行化学气相反应。碘促进Zr原子向SiC陶瓷表面的传输,Zr与SiC之间的扩散反应导致在SiC表面生成连续的Zr-Si-C复合涂层。采用X射线衍射、扫描电镜结合X射线能谱分析以及相图分析确定了涂层微结构及相组成。结果表明:复合涂层内层为ZrC、中间层为Zr_2Si-ZrC_(1-x)复相区、外层为ZrC_(1-x)。通过测量涂层厚度研究了涂层的生长动力学.在850~1100℃范围内,涂层生长符合抛物线规律,活化能为(210±20)kJ/mol。 展开更多
关键词 化学气相反应 碳化硅 碳化钴 涂层 粉末埋入反应
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碳化铬涂层T/P24在750℃空气中的抗氧化性能研究 被引量:2
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作者 吴守军 桂单明 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期99-103,共5页
采用粉体埋入辅助涂层法在T/P 24表面制备了碳化铬涂层。采用质量变化、物相变化研究了PIRAC碳化铬涂层T/P 24在750℃空气中的氧化行为。结果表明:氧化后碳化铬涂层试样表面观察不到形貌变化,几乎检测不到氧化铬和质量变化,证明PIRAC碳... 采用粉体埋入辅助涂层法在T/P 24表面制备了碳化铬涂层。采用质量变化、物相变化研究了PIRAC碳化铬涂层T/P 24在750℃空气中的氧化行为。结果表明:氧化后碳化铬涂层试样表面观察不到形貌变化,几乎检测不到氧化铬和质量变化,证明PIRAC碳化铬涂层具有优良的抗氧化能力。不同温度下制备的PIRAC碳化铬涂层组成的不同,导致涂层表现出不同的抗氧化能力。对涂层组成与抗氧化能力差异和750℃长时间暴露导致涂层中Cr23C6形成Cr3C2现象进行了分析。 展开更多
关键词 碳化铬 涂层 氧化 热力学 pirac
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SPE电解水用钛双极板表面氮化物涂层的制备与评价 被引量:3
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作者 毕俊 柳小祥 +3 位作者 杨金梦 王冬冬 刘高阳 王新东 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2020年第23期1632-1637,共6页
采用PIRAC(粉末埋入反应辅助涂覆)氮化工艺在钛双极板表面制备一层氮化物防护涂层,研究了氮化温度对涂层的微观形貌、相组成,以及在模拟SPE电解水环境下耐蚀性、稳定性和导电性的影响。结果表明,涂层表面呈现颗粒状形貌,涂层内主要是TiN... 采用PIRAC(粉末埋入反应辅助涂覆)氮化工艺在钛双极板表面制备一层氮化物防护涂层,研究了氮化温度对涂层的微观形貌、相组成,以及在模拟SPE电解水环境下耐蚀性、稳定性和导电性的影响。结果表明,涂层表面呈现颗粒状形貌,涂层内主要是TiN、Ti2N和α-Ti三相。氮化样品的耐蚀性得到明显提高,其中900℃氮化的样品在SPE电解水阳极高电位作用下的耐蚀性与基体相当。氮化后样品的界面接触电阻降低至3.5~4.2 mΩ/cm^2,在一定程度上会降低电解槽的欧姆损耗。在1.6~1.8 V电位范围内10 h的恒电位测试结果验证了氮化物涂层在高电位下的稳定性。 展开更多
关键词 固体聚合物电解质 电解水 钛双极板 氮化物涂层 粉末埋入反应辅助涂覆 耐蚀性 稳定性 界面接触电阻
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粉末埋入反应辅助涂覆法制备涂层
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作者 桂单明 吴守军 +1 位作者 李欢 梁子剑 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI CAS 2013年第2期72-74,共3页
粉末埋入反应辅助涂覆(PIRAC)法是一种低成本、适合复杂表面陶瓷涂层制备的方法。介绍了PIRAC法的基本原理,采用该方法在金属表面或非金属表面制备氮化物、碳化物及多层陶瓷/金属复合涂层的典型实例,PIRAC涂层的性能及应用。结合当前最... 粉末埋入反应辅助涂覆(PIRAC)法是一种低成本、适合复杂表面陶瓷涂层制备的方法。介绍了PIRAC法的基本原理,采用该方法在金属表面或非金属表面制备氮化物、碳化物及多层陶瓷/金属复合涂层的典型实例,PIRAC涂层的性能及应用。结合当前最新研究结果,对PIRAC涂层的发展做了展望。 展开更多
关键词 粉末埋入反应辅助涂覆法 涂层 陶瓷
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