期刊文献+
共找到6篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Determination of Threshold Voltage and Mobility ofMOSFET by Proportional Difference Operator
1
作者 王金延 许铭真 谭长华 《Journal of Semiconductors》 CSCD 北大核心 2000年第12期1198-1202,共5页
Proportional Difference Operator (PDO) method is proposed for the first time to determine the key parameters of a MOSFET, including the threshold voltage and ca rrier mobility.This method is applied to the transfer ch... Proportional Difference Operator (PDO) method is proposed for the first time to determine the key parameters of a MOSFET, including the threshold voltage and ca rrier mobility.This method is applied to the transfer characteristic of a MOSFET first, and then the effect of gate voltage on carrier mobility is considered. The dependence of carrier mobility on the gate voltage is obtained. 展开更多
关键词 proportional difference operator transfer char acteristic MOSFET
下载PDF
用DTPDO研究超薄栅氧化层的诱生缺陷
2
作者 贾高升 许铭真 +1 位作者 谭长华 段小蓉 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期466-470,共5页
应用直接隧道比例差分(DTPDO)谱技术研究了深亚微米MOS器件超薄栅氧化层的应力诱生缺陷。实验结果发现超薄栅氧化层直接隧道栅电流的比例差分谱存在明显的三个谱峰。这意味着在超薄栅氧化层退化的过程中有三种氧化层高场诱生缺陷共存。... 应用直接隧道比例差分(DTPDO)谱技术研究了深亚微米MOS器件超薄栅氧化层的应力诱生缺陷。实验结果发现超薄栅氧化层直接隧道栅电流的比例差分谱存在明显的三个谱峰。这意味着在超薄栅氧化层退化的过程中有三种氧化层高场诱生缺陷共存。研究结果表明,三种缺陷的饱和缺陷密度均随着应力电压和应力温度的增加而增加。三种缺陷的特征产生时间常数与器件的实验温度、所加的应力电压和氧化层的失效时间相关。 展开更多
关键词 金属-氧化物-半导体器件 直接隧穿栅电流 比例差分谱 多缺陷
下载PDF
Investigation of Gate Defects in Ultrathin MOS Structures Using DTRS Technique
3
作者 霍宗亮 杨国勇 +2 位作者 许铭真 谭长华 段小蓉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期1146-1153,共8页
s:A detailed description of relaxation spectroscopy technique under direct tunneling stress is given.A double peak phenomena by applied relaxation spectroscopy on ultra thin (<3nm) gate oxide is found.It suggests ... s:A detailed description of relaxation spectroscopy technique under direct tunneling stress is given.A double peak phenomena by applied relaxation spectroscopy on ultra thin (<3nm) gate oxide is found.It suggests that two kinds of traps exist in the degradation of gate oxide.It is also observed that both the trap density and the generation/capture cross section of oxide trap and interface trap are smaller in ultra thin gate oxide (<3nm) under DT stress than those in the thicker oxide (>4nm) under FN stress,and the centroid of oxide trap is closer to anode interface than in the center of oxide. 展开更多
关键词 TUNNELING metal oxide semiconductor device proportional difference operator
下载PDF
全电流模型的比例差分特性
4
作者 杨存宇 谭长华 许铭真 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期322-328,共7页
用比例差分算符 (PDO)方法研究了长沟 MOSFET在各个工作区域 (亚阈区和饱和区 )的比例差分特性 .利用 PDO方法研究全电流 Pao- Sah双积分模型 ,结果发现源漏电流的比例差分特性在所有的工作区域内都有谱峰特性 ,其峰值和峰位与 MOSFET... 用比例差分算符 (PDO)方法研究了长沟 MOSFET在各个工作区域 (亚阈区和饱和区 )的比例差分特性 .利用 PDO方法研究全电流 Pao- Sah双积分模型 ,结果发现源漏电流的比例差分特性在所有的工作区域内都有谱峰特性 ,其峰值和峰位与 MOSFET的电学参数 (如有效迁移率、热电势和阈值电压等 )直接相关 .利用 PDO方法可以避免冗繁地计算双积分公式 ,并可以容易地提取出重要的 展开更多
关键词 比例差分特性 比例差分算符 MOSFET 全电流模型
下载PDF
不同比重液单侧腰麻在老年人髋部手术中的麻醉效果观察 被引量:4
5
作者 陆雁 韦冠山 《中国临床新医学》 2015年第10期969-972,共4页
目的观察不同比重液单侧腰麻在老年人髋部手术中的麻醉效果及并发症。方法将60例择期行髋部手术的老年患者随机分为两组:轻比重组(A组)30例(0.75%布比卡因与灭菌注射用水混合);重比重组(B组)30例(0.75%布比卡因与5%葡萄... 目的观察不同比重液单侧腰麻在老年人髋部手术中的麻醉效果及并发症。方法将60例择期行髋部手术的老年患者随机分为两组:轻比重组(A组)30例(0.75%布比卡因与灭菌注射用水混合);重比重组(B组)30例(0.75%布比卡因与5%葡萄糖注射液混合)。两组均选择腰硬联合麻醉(CSEA),混合液含布比卡因8~15mg,推注速度0.1ml/s,注药完毕后维持穿刺体位不变至麻醉平面固定。观察麻醉起效时间、阻滞完全时间、持续时间、血流动力学变化及不良反应发生率。结果两组患者术中麻醉效果均满意,A组麻醉起效时间及平面固定时间均较B组延长(P〈0.01),而维持时间较B组短(P〈0.01)。与A组相比,B组血流动力学波动较大,需要辅助使用血管活性药,差异有统计学意义(P〈0.05)。结论轻比重与重比重单侧腰麻均可适用于老年髋部手术麻醉,但轻比重单侧腰麻的血流动力学更趋于稳定,更加安全可行。 展开更多
关键词 不同比重液 老年人 髋部手术 单侧腰麻
下载PDF
New Method for Determining Characteristic Parameters of Normal Distribution
6
作者 穆甫臣 谭长华 许铭真 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第11期1060-1063,共4页
By proportional differentiating cumulative distribution function of normal distribution,the spectroscopy characteristics are found.The characteristic parameters can be extracted directly from the height and position o... By proportional differentiating cumulative distribution function of normal distribution,the spectroscopy characteristics are found.The characteristic parameters can be extracted directly from the height and position of the spectroscopy peaks.On this basis,a new method for determining these parameters of normal distribution is developed.This method can be applied to microelectronics reliability study. 展开更多
关键词 正交分布 可靠性 pdo 比例差估计
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部