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A New Type of Multielements-Doped,Carbon-based Materials Characterized by High-thermoconductiv-ity,Low Chemical Sputtering,Low RES Yield and Exposure to Plasma
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作者 许增裕 刘翔 +4 位作者 谌继明 王明旭 宋进仁 翟更太 李承新 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2002年第3期1311-1317,共7页
Low-Z materials, such as carbon-based materials and Be, are major plasma-facing material (PFM) for current, even in future fusion devices. In this paper, a new type of multielement-doped carbon-based materials develop... Low-Z materials, such as carbon-based materials and Be, are major plasma-facing material (PFM) for current, even in future fusion devices. In this paper, a new type of multielement-doped carbon-based materials developed are presented along with experimental re-sults of their properties. The results indicate a decrease in chemical sputtering yield by one order of magnitude, a decrease in both thermal shock resistance and radiation-enhanced sublimation, an evidently lower temperature desorption spectrum, and combined properties of exposing to plasma. 展开更多
关键词 than GBS RES A New Type of Multielements-Doped Carbon-based Materials Characterized by High-thermoconductiv-ity Low Chemical sputtering Low RES yield and Exposure to Plasma
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离子发动机栅极材料差分溅射产额分布特性仿真
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作者 朱政羲 苗龙 +4 位作者 耿海 郭德洲 杨统勋 何梓豪 王宁飞 《航天器环境工程》 CSCD 2024年第4期450-458,共9页
针对离子发动机栅极溅射原子空间分布不明确导致栅极腐蚀模型预测偏差大的问题,采用SDTrimSP程序模拟离子轰击栅极材料的溅射过程;系统研究离子入射能量、入射角度以及离子种类对钼栅极材料差分溅射产额的影响。发现正入射条件下的差分... 针对离子发动机栅极溅射原子空间分布不明确导致栅极腐蚀模型预测偏差大的问题,采用SDTrimSP程序模拟离子轰击栅极材料的溅射过程;系统研究离子入射能量、入射角度以及离子种类对钼栅极材料差分溅射产额的影响。发现正入射条件下的差分溅射产额仿真结果与实验具有较好的一致性。重点关注斜入射条件下差分溅射产额在不同方位角下的分布轮廓,并通过Modified-Zhang公式对差分溅射产额进行拟合,以拟合结果作为材料边界条件输入溅射腐蚀—再沉积模型,较为真实地模拟了栅极材料的腐蚀过程。以上研究可为离子发动机栅极组件腐蚀形貌的精确预测提供参考。 展开更多
关键词 离子发动机 钼栅极材料 差分溅射产额 斜入射 腐蚀—再沉积模型
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Microstructures of TiN,TiAlN and TiAlVN coatings on AISI M2 steel deposited by magnetron reactive sputtering 被引量:5
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作者 王翠凤 欧士辅 邱锡荣 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第8期2559-2565,共7页
In order to study the effect of the microstructure with Al and V added TiN coatings, TiN, TiAlN and TiAlVN coatings were deposited on AISI M2 high-speed steels by magnetron reactive sputtering. The microstructures of ... In order to study the effect of the microstructure with Al and V added TiN coatings, TiN, TiAlN and TiAlVN coatings were deposited on AISI M2 high-speed steels by magnetron reactive sputtering. The microstructures of all the coatings were characterized by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM) and transmission electron microscopy (TEM). The results indicate that the addition of Al into TiN coatings reduces their lattice constant, but a further addition of V into TiAlN coatings increases their lattice constant. Moreover, the growth morphologies for TiN, TiAlN, and TiAlVN indicate that adding Al and V has a tendency to improve the columnar structure. The (111) and (200) orientations of TiN, TiAlN, and TiAlVN are identified. Theε(Fe3N-Fe2N) phase occurs because a small amount of Fe is present in the coatings. The interlayers of TiAlN and TiAlVN have the preferred (01 1 0) orientation. The texture (columnar) structure of the (111) and (200) orientations is observed in the TiAlN and TiAlVN coatings. An orientation relationship of (01 1 0)α-Ti//(110)T.M occurs between the interlayer and tempered martensite (T.M) in TiAlVN. 展开更多
关键词 COATING TiAlVN coating sputtering yield crystallographic relationship
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Particle-in-Cell/Monte Carlo Collision simulation of planar DC magnetron sputtering 被引量:2
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作者 赵华玉 牟宗信 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第4期1475-1479,共5页
In this paper a numerical simulation of a planar DC magnetron discharge is performed with the Particle-in Cell/Monte Carlo Collision (PIC/MCC) method. The magnetic field used in the simulation is calculated with fin... In this paper a numerical simulation of a planar DC magnetron discharge is performed with the Particle-in Cell/Monte Carlo Collision (PIC/MCC) method. The magnetic field used in the simulation is calculated with finite element method according to experimental configuration. The simulation is carried out under the condition of gas pressure of 0.665 Pa and voltage magnitude of 400V. Typical results such as the potential distribution, charged particle densities, the discharge current density and ion flux onto the target are calculated. The erosion profile from the simulation is compared with the experimental data. The maximum erosion position corresponds to the place where the magnetic field lines are parallel to the target surface. 展开更多
关键词 magnetron sputtering PIC/MCC sputtering yield
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Angular distribution of sputtered atoms induced by low-energy heavy ion bombardment 被引量:2
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作者 ZHANGLai ZHANGZhu-Lin 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2004年第6期340-343,共4页
The sputtering yield angular distributions have been calculated based on the ion energy dependence of to- tal sputtering yields for Ni and Mo targets bombarded by low-energy Hg+ ion. The calculated curves show excelle... The sputtering yield angular distributions have been calculated based on the ion energy dependence of to- tal sputtering yields for Ni and Mo targets bombarded by low-energy Hg+ ion. The calculated curves show excellent agreement with the corresponding Wehner’s experimental results of sputtering yield angular distribution. The fact clearly demonstrated the intrinsic relation between the ion energy dependence of total sputtering yields and the sput- tering yield angular distribution. This intrinsic relation had been ignored in Yamamura’s papers (1981,1982) due to some obvious mistakes. 展开更多
关键词 溅射当量 辐角分布 各向异性效应 原子物理学
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Deuterium Retention and Physical Sputtering of Low Activation Ferritic Steel
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作者 T.Hino K.Yamaguchi +3 位作者 Y.Yamauchi Y.Hirohata K.Tsuzuki Y.Kusama 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第2期2737-2740,共4页
Low activation materials have to be developed toward fusion demonstrationreactors. Ferritic steel, vanadium alloy and SiC/SiC composite are candidate materials of the firstwall, vacuum vessel and blanket components, r... Low activation materials have to be developed toward fusion demonstrationreactors. Ferritic steel, vanadium alloy and SiC/SiC composite are candidate materials of the firstwall, vacuum vessel and blanket components, respectively. Although changes of mechanical-thermalproperties owing to neutron irradiation have been investigated so far, there is little data for theplasma material interactions, such as fuel hydrogen retention and erosion. In the present study,deuterium retention and physical sputtering of low activation ferritic steel, F82H, wereinvestigated by using deuterium ion irradiation apparatus. After a ferritic steel sample wasirradiated by 1.7 keV D^+ ions, the weight loss was measured to obtain the physical sputteringyield. The sputtering yield was 0.04, comparable to that of stainless steel. In order to obtain theretained amount of deuterium, technique of thermal desorption spectroscopy (TDS) was employed to theirradiated sample. The retained deuterium desorbed at temperature ranging from 450 K to 700 K, inthe forms of DHO, D_2, D_2O and hydrocarbons. Hence, the deuterium retained can be reduced by bakingwith a relatively low temperature. The fluence dependence of retained amount of deuterium wasmeasured by changing the ion fluence. In the ferritic steel without mechanical polish, the retainedamount was large even when the fluence was low. In such a case, a large amount of deuterium wastrapped in the surface oxide layer containing O and C. When the fluence was large, the thickness ofsurface oxide layer was reduced by the ion sputtering, and then the retained amount in the oxidelayer decreased. In the case of a high fluence, the retained amount of deuterium became comparableto that of ferritic steel with mechanical polish or SS 316 L, and one order of magnitude smallerthan that of graphite. When the ferritic steel is used, it is required to remove the surface oxidelayer for reduction of fuel hydrogen retention. Ferritic steel sample was exposed to the environmentof JFT-2M tokamak in JAERI and after thatthe deuterium retention was examined. The result wasroughly the same as the case of deuterium ion irradiation experiment. 展开更多
关键词 ferritic steel fuel hydrogen retention sputtering yield first wall fusionreactor
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微型溅射离子泵的阳极筒长度对抽气特性的影响
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作者 耿健 王晓冬 +1 位作者 郭美如 任正宜 《东北大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第11期1596-1603,共8页
基于粒子云网格法与蒙特卡罗法,使用VSim软件对微型溅射离子泵内部潘宁放电的工作过程进行了分析.建立了二维仿真模型并得到了氮气离子入射阴极板时的入射能量、入射角度和入射位置等参数.将非垂直溅射产额理论与仿真得到的结果相结合,... 基于粒子云网格法与蒙特卡罗法,使用VSim软件对微型溅射离子泵内部潘宁放电的工作过程进行了分析.建立了二维仿真模型并得到了氮气离子入射阴极板时的入射能量、入射角度和入射位置等参数.将非垂直溅射产额理论与仿真得到的结果相结合,分析了阴极板上溅射产额的分布规律.根据离子入射参数与溅射产额,计算得到了微型溅射离子泵对氮气的抽速.计算值与实验结果一致性好并且该方法可以给出溅射离子泵抽速阈值对应的压力.仿真结果中增加阳极筒长度可以降低微型溅射离子泵抽速阈值对应的压力,并通过实验证明. 展开更多
关键词 潘宁放电 等离子体模拟 蒙特卡罗 溅射产额 抽速
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纳米氮化钛薄膜对高频陶瓷窗片二次电子发射率的影响研究
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作者 赵毅红 李芳芳 +4 位作者 王博锋 叶成聪 缪雨龙 陈海波 陈荣发 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第11期960-966,共7页
纳米TiN薄膜可用来抑制高频陶瓷窗片的二次电子倍增,缩短器件高功率老炼时间,提高微波发射性能。文章通过专用真空镀膜设备,采用同轴圆柱靶和平面靶的直流磁控反应溅射方法,通过优化制备工艺参数,在陶瓷窗片的表面成功制备了纳米氮化钛(... 纳米TiN薄膜可用来抑制高频陶瓷窗片的二次电子倍增,缩短器件高功率老炼时间,提高微波发射性能。文章通过专用真空镀膜设备,采用同轴圆柱靶和平面靶的直流磁控反应溅射方法,通过优化制备工艺参数,在陶瓷窗片的表面成功制备了纳米氮化钛(TiN)薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)等现代分析手段进行了测试分析,结果表明:纳米TiN薄膜表面晶粒细小,致密度较好;晶面(111)和(200)特征衍射峰峰型规整,峰宽细窄;Ti/N原子计量比接近于1∶1。随着薄膜沉积时间增加,二次电子发射系数(SEY)逐渐增大,溅射时间8.4 s时,SEY为1.72;随着基体偏压的增加,电离效率增加,SEY不断降低,当偏压为350 V时,SEY为1.89;随着N2流量增加,SEY发生变化,当N2流量为38 mL/min时,SEY为1.83。 展开更多
关键词 磁控反应溅射 纳米TiN 薄膜 高频陶瓷窗片 二次电子发射率
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霍尔推力器放电通道溅射腐蚀计算 被引量:4
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作者 李敏 汤海滨 +3 位作者 王立君 郭宁 李娟 任军学 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期2757-2762,共6页
为了预示霍尔推力器的寿命,建立了推力器粒子束放电通道的2维电磁场模型,模拟的推进剂为氙。利用PIC方法跟踪粒子在电磁场中的运动。磁场的求解采用拉普拉斯方程,电场的求解采用泊松方程。电子由阴极喷入通道,并在电磁场中与原子发生电... 为了预示霍尔推力器的寿命,建立了推力器粒子束放电通道的2维电磁场模型,模拟的推进剂为氙。利用PIC方法跟踪粒子在电磁场中的运动。磁场的求解采用拉普拉斯方程,电场的求解采用泊松方程。电子由阴极喷入通道,并在电磁场中与原子发生电离碰撞生成离子。在跟踪离子的过程中记录下撞击到内外壁面的离子个数、角度和能量。利用记录下的参数进行腐蚀计算,得到当溅射阈值能量分别为10,20,30,40,50eV时通道壁面的腐蚀速率。推力器放电通道出口附近的最大腐蚀速率约为1.7×10-9 m/s。 展开更多
关键词 霍尔推力器 电磁场 腐蚀速率 溅射产额 粒子跟踪
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基于Sigmund理论的溅射产额计算及分析 被引量:12
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作者 陈明 王君 +1 位作者 陈长琦 刘珍 《真空》 CAS 北大核心 2007年第2期44-47,共4页
溅射产额是表征溅射效应的重要参数。Sigmund的线性级联碰撞理论在溅射产额计算中获得了广泛的应用和发展。本文对Sigmund理论进行简单介绍,并对基于Sigmund理论的各种经验公式进行分析。在此基础上,对不同条件下的溅射产额进行了计算,... 溅射产额是表征溅射效应的重要参数。Sigmund的线性级联碰撞理论在溅射产额计算中获得了广泛的应用和发展。本文对Sigmund理论进行简单介绍,并对基于Sigmund理论的各种经验公式进行分析。在此基础上,对不同条件下的溅射产额进行了计算,通过计算结果,对各种公式的使用范围进行了讨论。 展开更多
关键词 Sigmund理论 溅射产额 入射离子能量
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霍尔推力器放电室壁面溅射产额研究 被引量:3
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作者 张志远 严立 +1 位作者 王平阳 吴建军 《推进技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第3期476-480,共5页
霍尔推力器放电室壁面经受低能量(不大于300e V)离子的溅射是影响其寿命的关键因素之一。为了获得放电室壁面材料(BNSi O2)的溅射产额随离子入射角度和能量的变化规律,采用真实霍尔推力器提供275e V的氙离子在真空舱内轰击靶材,利用称... 霍尔推力器放电室壁面经受低能量(不大于300e V)离子的溅射是影响其寿命的关键因素之一。为了获得放电室壁面材料(BNSi O2)的溅射产额随离子入射角度和能量的变化规律,采用真实霍尔推力器提供275e V的氙离子在真空舱内轰击靶材,利用称重法获得实验参数下的溅射产额。为了克服单纯依靠实验测量耗时耗钱且更低能量的离子溅射实验测量误差会陡然增大的缺点,采用前面实验结果修正了基于蒙特卡罗(MC)方法的SRIM软件溅射产额计算参数,并采用文献实验结果对不同能量下的模拟结果进行验证。在此基础上,用SRIM软件较为详细地考察了入射离子能量低于300e V时入射角度和能量对霍尔推力器放电室壁面材料溅射产额的影响规律。结果表明,溅射产额随离子入射角度先增大后减小,而随入射离子能量则呈现增大的趋势,但当能量小于100e V时,溅射产额逐渐趋于一个非常小的数值。 展开更多
关键词 霍尔推力器 溅射产额 实验测量 数值模拟
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蒙特卡罗模拟单元素靶的溅射产额角分布 被引量:3
12
作者 李欣年 王传珊 +1 位作者 罗文芸 江炳尧 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1996年第1期12-17,共6页
用蒙特卡罗方法模拟能量为27keVAr+轰击Ag和Cd单元素靶的力学运动,以研究级联碰撞产生的溅射原子的空间分布情况,对计算结果进行适当的数学处理,以得出微分溅射产额角分布.计算结果和实验值作了比较,并讨论了两种单元... 用蒙特卡罗方法模拟能量为27keVAr+轰击Ag和Cd单元素靶的力学运动,以研究级联碰撞产生的溅射原子的空间分布情况,对计算结果进行适当的数学处理,以得出微分溅射产额角分布.计算结果和实验值作了比较,并讨论了两种单元素靶的微分产额角分布. 展开更多
关键词 蒙特卡罗模拟 级联理论 溅射 溅射产额角分布
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GaAs/GaAlAs光阴极的XPS深度剖析 被引量:1
13
作者 冯刘 张连东 +5 位作者 刘晖 程宏昌 高翔 陈高善 史鹏飞 苗壮 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期803-807,共5页
GaAs光阴极是一种高性能光阴极,它由GaAs/GaAlAs外延片和玻璃基底粘接而成。为了了解外延片的元素深度分布和各层的均匀性,利用X射线光电子能谱和Ar离子刻蚀来进行深度剖析。结果表明,由于送样过程中曾短暂暴露大气,因而GaAs光阴极表面... GaAs光阴极是一种高性能光阴极,它由GaAs/GaAlAs外延片和玻璃基底粘接而成。为了了解外延片的元素深度分布和各层的均匀性,利用X射线光电子能谱和Ar离子刻蚀来进行深度剖析。结果表明,由于送样过程中曾短暂暴露大气,因而GaAs光阴极表面吸附有少量C、O污染,并且GaAs表层被氧化;GaAs层中的Ga、As元素含量非常均匀,约为3∶2,富Ga;而GaAlAs层中的Ga、Al和As含量比约为1∶1∶2,Ga略少于Al,但稍大于Ga0.42Al0.58As的比例。Ar离子枪采用3kV、1μA模式,刻蚀面积1 mm×1 mm,结合C-V测试得到的各层厚度数据,可以计算出该模式下各层的刻蚀速率,GaAs层的刻蚀速率约为1.091 nm/s,而GaAlAs层约为0.790 nm/s,并且推算出GaAs的溅射产额为4.00,GaAlAs的溅射产额为2.90。 展开更多
关键词 深度剖析 GAAS X射线光电子能谱 刻蚀速率 溅射产额
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光谱法控制ITO膜沉积速率 被引量:1
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作者 黄士勇 王德苗 +1 位作者 任高潮 陈抗生 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第3期328-330,共3页
用磁控反应溅射方法制备ITO膜时,溅射速率不断变化,并且等离子体也发出较强的具有较宽光谱的光.报导了用调整特征光谱强度来控制溅射速率的新方法。
关键词 光谱法 溅射速率 ITO膜 氧化铟锡 薄膜
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双群模型在偏滤器材料溅射研究中的应用 被引量:1
15
作者 邓柏权 严建成 黄锦华 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期144-148,共5页
为了估计偏滤器靶板材料的腐蚀速率和寿命 ,应用基于离子输运双群模型的溅射理论计算了聚变带电粒子H+ 、D+ 、T+ 和α粒子轰击Mo、W和Li偏滤器靶板表面的溅射产额 ,并与蒙特卡罗方法的计算结果作了比较。这些数据对估计对等离子体部件... 为了估计偏滤器靶板材料的腐蚀速率和寿命 ,应用基于离子输运双群模型的溅射理论计算了聚变带电粒子H+ 、D+ 、T+ 和α粒子轰击Mo、W和Li偏滤器靶板表面的溅射产额 ,并与蒙特卡罗方法的计算结果作了比较。这些数据对估计对等离子体部件的寿命和堆芯等离子体中的杂质水平是有意义的。 展开更多
关键词 偏滤器材料 溅射产额 双群模型 腐蚀速率 寿命 聚变堆材料
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聚焦离子束加工微锥形结构的制造误差分析 被引量:1
16
作者 徐宗伟 申雪岑 +3 位作者 李云涛 李康 林枫 贾瑞丽 《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第9期827-833,共7页
聚焦离子束(FIB)纳米制造技术已经成为微纳米尺度功能器件加工的一种重要方法,利用聚焦离子束直写加工可实现复杂二维微纳结构的高精度制造.然而由于离子溅射产额随入射角度非线性变化规律、再沉积现象及离子束能量分布特性的综合影响,... 聚焦离子束(FIB)纳米制造技术已经成为微纳米尺度功能器件加工的一种重要方法,利用聚焦离子束直写加工可实现复杂二维微纳结构的高精度制造.然而由于离子溅射产额随入射角度非线性变化规律、再沉积现象及离子束能量分布特性的综合影响,FIB在三维结构加工中会存在复杂形貌误差.针对FIB加工凹面中存在的典型平底现象这一形貌误差进行了分析和实验研究,通过仿真分析和FIB加工直径4,μm锥形凹坑结构的实验验证,阐明了聚焦离子束高斯能量分布特性与溅射产额规律耦合是产生平底现象的主要原因,为FIB三维结构加工的误差的修正提供了重要的基础和依据. 展开更多
关键词 聚焦离子束 微纳制造 直写加工 三维结构加工 高斯分布 溅射产额
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采用壳层效应屏蔽长度Monte Carlo方法计算溅射产额 被引量:2
17
作者 李之杰 王泽辉 +1 位作者 川村孝一 山村泰道 《计算物理》 CSCD 北大核心 2002年第4期290-292,共3页
使用ACAT模拟程序计算了不同离子碰撞在单原子材料上的溅射产额 .采用山村等人提出的考虑壳层效应的理论屏蔽长度 ,原子间作用势用Moli啨re势 .并将计算结果与实验数据和山村等的经验公式进行了比较 .
关键词 MONTECARLO模拟 溅射产额 壳层效应 屏蔽长度 原子间作势 数值计算
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磁控溅射制备AlN薄膜的蒙特卡罗模拟 被引量:2
18
作者 佟洪波 柳青 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期98-100,共3页
应用蒙特卡罗程序TRIM对Ar+轰击AlN的微观过程进行了模拟。对不同能量以及不同角度下Ar+轰击AlN引起的溅射产额进行了系统的研究。随着入射离子能量的逐渐增加,AlN的溅射产额呈上升趋势。AlN的溅射产额随入射角增加而逐渐升高,在75°... 应用蒙特卡罗程序TRIM对Ar+轰击AlN的微观过程进行了模拟。对不同能量以及不同角度下Ar+轰击AlN引起的溅射产额进行了系统的研究。随着入射离子能量的逐渐增加,AlN的溅射产额呈上升趋势。AlN的溅射产额随入射角增加而逐渐升高,在75°左右达到峰值,超过75°后,溅射产额急剧下降。实验发现垂直入射时和斜入射时,Al和N两元素的分溅射产额的比值变化规律有着明显的不同。 展开更多
关键词 ALN薄膜 溅射产额 蒙特卡罗模拟
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反应溅射中的溅射产额研究 被引量:4
19
作者 王敬义 何笑明 +1 位作者 王宇 陶甫廷 《微细加工技术》 2002年第2期33-37,57,共6页
分析了溅射产额的影响因素 ,并建立了产额模型。该模型能反映各种宏观工艺参数 ,便于工程应用。对钛靶的计算结果表明与实验结果相符。
关键词 反应溅射 溅射产额 离子能量
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用新局域模型计算高Z靶的溅射产额 被引量:1
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作者 李之杰 王泽辉 +1 位作者 川村孝一 山村泰道 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期57-60,共4页
用ACAT模拟程序计算了不同离子碰撞在单原子材料上的溅射产额。计算中采用山村等人提出的包括壳效应的新电子能量损失局域模型 ,原子间作用势使用Moli啨re势?扑愕玫降慕峁胧笛槭莺蜕酱宓鹊木楣浇斜冉?。
关键词 蒙特卡罗模拟 溅射产额 电子能量损失局域模型 原子间作用势 高工靶 离子溅射 计算 聚变堆材料
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