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PDMS仿生疏水表面的制备 被引量:3
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作者 曹合适 张斌珍 赵龙 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2015年第5期329-333,共5页
基于紫外光刻工艺和微纳米结构转印技术制作出了一种MEMS仿生疏水表面,表面材料为聚二甲基硅氧烷(PDMS)。首先旋涂SU-8胶,利用紫外光刻技术制作出微型孔阵列模具,然后浇铸PDMS,固化后剥离,形成具有高粗糙度的PDMS薄膜,通过提高粗糙度改... 基于紫外光刻工艺和微纳米结构转印技术制作出了一种MEMS仿生疏水表面,表面材料为聚二甲基硅氧烷(PDMS)。首先旋涂SU-8胶,利用紫外光刻技术制作出微型孔阵列模具,然后浇铸PDMS,固化后剥离,形成具有高粗糙度的PDMS薄膜,通过提高粗糙度改善PDMS表面的疏水性能。采用共聚焦显微镜和接触角仪表征其形貌和疏水性能,与原始的PDMS表面相比,该仿生功能表面的疏水性能得到显著改善,静态接触角增幅高达35.7%。此方法制作仿生疏水表面工艺简单、周期短、成本低且各参数易于控制。 展开更多
关键词 疏水性 微纳米结构转印技术 光刻 聚二甲基硅氧烷(PDMS) 静态接触角
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锥齿轮副印痕的调整 被引量:1
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作者 王莹 李野 《机械工程师》 2018年第3期144-145,148,共3页
介绍了锥齿轮接触印痕,总结了锥齿轮接触印痕调整的原理和调整方法。
关键词 锥齿轮副 静态接触印痕 动态接触印痕
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