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ELECTRONIC STRUCTURES OF (CdSe)_n/(ZnSe)_m STRAINED-LAYER SUPERLATTICES 被引量:2
1
作者 HL. Huang J.H Xing G.L. Liu and G.Y Zhang(Department of Electrouic Science and Engineering, Liaoning University Shenyang 110036, China)(Department of Physics, Liaoning University Shenyang 110036, China)(Shenyang Polytechnic University Shenyan 110023, Chin 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 1997年第1期10-16,共7页
The electronic structures of (CdSe)n/(ZnSe)m strained-lager soperfattice (SLS) were investigated by the recursion method in the tight-bindiop opproximation. The total,local, and partial density of states were calculat... The electronic structures of (CdSe)n/(ZnSe)m strained-lager soperfattice (SLS) were investigated by the recursion method in the tight-bindiop opproximation. The total,local, and partial density of states were calculated for n=1, m=5.The total density of states (TDOS) for bulk CdSe, ZnSe and n=1, 3, m=1, 3, 5, for SLS were investigated.Fermi energy, the band gap, the valence of an atom, and the ionization potential and the electron affinity were discassed. 展开更多
关键词 density of state strained layer superlattice CdSe/ZnSe Fermi energy band gap
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InSb/InAsSb Strained Layer Superlattice Grown by MBE
2
作者 谢国柱 高新江 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1992年第4期363-366,共4页
叙述了采用国产 MBE 装置,在 GaAs 或 InSb 衬底上生长 InSb,InAsSb薄膜材料一些基础研究工作。采用二步生长法在 GaAs 衬底上生长优质 InSb 薄膜,厚度4.8μm,其室温迁移率达到4.3×10~4cm^2V·s,载流子浓度为2.4×10^(18)c... 叙述了采用国产 MBE 装置,在 GaAs 或 InSb 衬底上生长 InSb,InAsSb薄膜材料一些基础研究工作。采用二步生长法在 GaAs 衬底上生长优质 InSb 薄膜,厚度4.8μm,其室温迁移率达到4.3×10~4cm^2V·s,载流子浓度为2.4×10^(18)cm^(-3),77K 时载流子浓度为7.49×10^(15)cm^(-3);并在生长各种类型 InAsSb 超晶格材料的基础上,首次生长了 InAs_(0·05)Sb_(0·95)/InSb 应变层超晶格结构材料,其周期厚度为21nm,InSb 应变层与 InSb 层之间的共格度为0.65,本文还将叙述制作 InAsSb 长波红外探测器的具体工艺及其一些想法。 展开更多
关键词 超晶格 INSB薄膜 红外探测器
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Photoluminescence Properties of Si_(1-x)Ge_x/Si Strained Layer Structures
3
作者 PENG Yingcai(Hebei University, Baoding 071002. CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1996年第3期168-174,共7页
The investigation on optical properties of Si1-xGex/Si strained layer structures has been carried out actively in recent years. The photoluminescence has become a brisker subject in the studies of its various optical ... The investigation on optical properties of Si1-xGex/Si strained layer structures has been carried out actively in recent years. The photoluminescence has become a brisker subject in the studies of its various optical properties. A research development on photoluminescence properties of some new Si1-x Gex/Si strained layer structures is introduced. 展开更多
关键词 strained layer superlattices Photoluminescence Properties Optoelectronic Devices Quantum Wells
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TRANSIENT PHOTOLUMINESCENCE SPECTRA OF Ⅱ-Ⅵ WIDE GAP ZnSe/ZnS STRAINED-LAYER SUPERLATTICES
4
作者 崔捷 王海龙 +4 位作者 干福熹 黄旭光 蔡志岗 李庆行 余振新 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1992年第20期1696-1699,共4页
Ⅰ. INTRODUCTION The coulomb interaction between electron and hole has been enhanced in the quasi-two-dimensional (2D)electronic system in quantum well or superlattice structure, especially by the potential confinemen... Ⅰ. INTRODUCTION The coulomb interaction between electron and hole has been enhanced in the quasi-two-dimensional (2D)electronic system in quantum well or superlattice structure, especially by the potential confinement effect along z direction. The exciton binding energy of 2D 展开更多
关键词 strained-layer superlattice LUMINESCENCE DUE to EXCITON recombination TIME-RESOLVED spectrum
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MEASUREMENTS OF REFRACTIVE INDICES OF Ⅱ-Ⅵ WIDE GAP SEMICONDUCTOR STRAIN ED-LAYER SUPERLATTICES
5
作者 崔捷 陈云良 +1 位作者 王海龙 干福熹 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1992年第6期461-463,共3页
I. INTRODUCTION The wide gap semiconductor superlattioes and quantum wells fabricated by ZnS, ZnSe and ZnTe are expected to be greatly useful in the optoelectronics area in the visible region. 600-700 nm wavelength op... I. INTRODUCTION The wide gap semiconductor superlattioes and quantum wells fabricated by ZnS, ZnSe and ZnTe are expected to be greatly useful in the optoelectronics area in the visible region. 600-700 nm wavelength optoelectronic devices with these structures have attracted much interest for the use in high-density optical information systems. 展开更多
关键词 strained-layer superlattice refractive index
原文传递
石墨、炭黑及白炭黑在橡胶中的微观结构分析 被引量:13
6
作者 谢泉 刘让苏 +2 位作者 徐仲榆 彭平 张友玉 《电子显微学报》 CAS CSCD 1998年第2期172-175,共4页
本文用SEM技术对石墨、炭黑及白炭黑三种导电粒子在导电硅橡胶中的结构分布形态进行了分析,结果发现:石墨在橡胶基体中均匀分布,且不聚集。炭黑和白炭黑在橡胶基体中都有聚集成环球的现象,当炭黑和白炭黑共存时,其聚集程度增大... 本文用SEM技术对石墨、炭黑及白炭黑三种导电粒子在导电硅橡胶中的结构分布形态进行了分析,结果发现:石墨在橡胶基体中均匀分布,且不聚集。炭黑和白炭黑在橡胶基体中都有聚集成环球的现象,当炭黑和白炭黑共存时,其聚集程度增大,由此可见,白炭黑对炭黑的聚集有影响。此外,有关导电粒子对导电硅橡胶导电机制的影响也进行了分析。 展开更多
关键词 SEM技术 导电粒子 液体硅橡胶 导电机制
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Ge_xSi_(1-x)/Si超晶格红外探测器最佳结构 被引量:5
7
作者 李国正 张浩 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1995年第3期242-244,共3页
通过对GexSi1-x/Si超晶格机理的研究,算出了GexSi1-x/Si超晶格红外探测器的最佳结构参数,以对1.3μm红外光有最大的利用率。
关键词 半导体材料 异质结 红外探测器 应变层超晶格
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(GaN)_n/(AlN)_n应变层超晶格的电子结构 被引量:1
8
作者 王新华 王玲玲 +2 位作者 王怀玉 邓辉球 黄维清 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1934-1938,共5页
以FreeStanding条件生长的超晶格原胞为计算模型,运用LCAORecursion方法研究了(GaN)n/(AlN)n(001)应变层超晶格的电子结构.由计算结果分析了GaN/AlN应变层超晶格中Ga,Al和N之间的成键情况及其带隙Eg随超晶格层数n的变化趋势;当超晶格中... 以FreeStanding条件生长的超晶格原胞为计算模型,运用LCAORecursion方法研究了(GaN)n/(AlN)n(001)应变层超晶格的电子结构.由计算结果分析了GaN/AlN应变层超晶格中Ga,Al和N之间的成键情况及其带隙Eg随超晶格层数n的变化趋势;当超晶格中存在空位时,带隙中将形成缺陷能级.最后分析了在超晶格中引入Mg掺杂后对超晶格电子结构的影响. 展开更多
关键词 Recursion方法 (GaN)n/(AlN)n 应变层超晶格 电子结构 缺陷能级
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应变层超晶格GaN-AlN的电子结构 被引量:1
9
作者 何国敏 王仁智 郑永梅 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期13-19,共7页
采用有效质量理论6带模型,计算了应变层超晶格GaNAlN(001)的电子结构,具体计算不同应变状态的价带子能带色散曲线、光吸收曲线。分析了应变状态以及重轻空穴和自旋轨道分裂带相互作用对子带结构的影响。
关键词 有效质量理论 空穴子带 应变层超晶格
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Ge_xSi_(1-x)/Si应变层超晶格光伏特性研究 被引量:1
10
作者 朱文章 刘士毅 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1992年第2期134-138,共5页
采用电容耦合法测量了Ge_xSi_(1-x)/Si应变层超晶格在不同温度下的光伏特性.在Ⅱ型能带排列的样品中观测到价带-导带子带和价带子带-导带光跃迁的4个峰.对所有样品测得的光伏截止波长都比理论预期值小.还对光电压随温度的变化作了初步解释.
关键词 光伏效应 半导体 应变层超晶格
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Ge_xSi_(1-x)/Si应变层和超晶格及其临界厚度 被引量:1
11
作者 罗江财 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1993年第1期35-40,47,共7页
异质外延层的性能和质量,往往取决于异质结构的特性。文章讨论了Ge_xSi-(1-x)/Si 应变层和应变层超晶格中的应变、位错和临界厚度,并比较了实验结果。
关键词 应变层 超晶格 临界厚度 外延生长
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LP-MOVPE生长InGaAs应变超晶格
12
作者 杨树人 刘宝林 +3 位作者 陈伯军 刘式墉 崔敬忠 陈光华 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1994年第1期72-75,共4页
本文探讨了LP-MOVPE法在GaAs和InP衬底上生长21个周期的InGaAs/GaAs和20个周期的InGaAs/InP两种应变超晶格的条件,并用X射线衍射分析了这两种应变超晶格,分析观察到三级卫星峰和六级卫星峰。
关键词 LP-MOVPE 铟镓砷 应变超晶格
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Ge_(0.6)Si_(0.4)/Si 应变超晶格光电探测器中的光场分析
13
作者 李国正 刘淑平 张浩 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第8期29-33,共5页
首次对Ge0.6Si0.4/Si应变超晶格光探测器中的光场分布进行了分析和研究,发现这种应变超晶格在总厚度L=340nm的情况下,周期数M≥15.5才能传输单模光波.另外,还计算了Ge0.6Si0.4/Si应变超晶格... 首次对Ge0.6Si0.4/Si应变超晶格光探测器中的光场分布进行了分析和研究,发现这种应变超晶格在总厚度L=340nm的情况下,周期数M≥15.5才能传输单模光波.另外,还计算了Ge0.6Si0.4/Si应变超晶格表面及传播一定距离后的光场分布,发现光在其中传播500μm后已衰减到很小. 展开更多
关键词 超晶格 光电探测器 光场分析
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X射线双晶衍射研究LP-MOVPE生长的InGaAs/GaAs应变超晶格
14
作者 崔敬忠 陈光华 +5 位作者 甘润今 张仿清 杨树人 刘宝林 陈佰军 刘式墉 《兰州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1996年第3期58-61,共4页
用金属有机气相外延(LP-MOVPE)生长了一系列具有不同应变、不同周期以及不同缓冲层的InGaAs/GaAs应变超晶格.用X射线双晶衍射方法得到了样品的摇摆曲线.结合计算机模拟得到了样品的应变、组分等结构参数.
关键词 气相外延生长 超昌格 半导体 INGAAS 砷化镓
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电场对ZnCdSe-ZnSe应变超晶格光致发光的影响
15
作者 郑著宏 关郑平 +2 位作者 张吉英 申德振 范希武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期354-356,共3页
n=1重空穴激子和施主-受主(D-A)对的光致发光在常压MOCVD生长的Zn0.85Cd0.15Se-ZnSe应变超晶格中被观测到了.激子和施主-受主对发光峰值位置随着增加正向偏置电压都相继产生蓝移和红移.这是由量子... n=1重空穴激子和施主-受主(D-A)对的光致发光在常压MOCVD生长的Zn0.85Cd0.15Se-ZnSe应变超晶格中被观测到了.激子和施主-受主对发光峰值位置随着增加正向偏置电压都相继产生蓝移和红移.这是由量子限制斯塔克效应引起的,究竟是蓝移还是红移则取决于由肖特基势垒引起的内部自建电场与外加正向电压引起的外电场之间的竞争. 展开更多
关键词 应变超晶格 电场 光致发光 锌镉硒 硒化锌
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(CdTe—ZuTe)/ZnTe/GaAs(100)超晶格结构的X射线测定
16
作者 钟福民 陈京一 +2 位作者 朱南昌 李杰 袁诗鑫 《应用科学学报》 CAS CSCD 1993年第4期333-336,共4页
用X射线衍射,并结合X射线动力学衍射理论模型的计算机模拟方法,对(CdTe-ZnTe)/ZnTe/GaAs(100)应变超晶格材料的结构进行了研究,得到了其结构参数和信息.
关键词 X射线衍射 超晶格 测定 半导体材料
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超晶格(CdTe-ZnTe)/ZnTe/GaAs(001)红外材料的X射线测定
17
作者 钟福民 陈京一 +2 位作者 朱南昌 李杰 袁诗鑫 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第1期59-64,共6页
用X射线衍射并结合X射线动力学衍射理论模型的计算机模拟方法,对简单和复杂两种结构的(CdTe-ZnTe)/ZnTe/GaAs(001)应变超晶格材料的结构和完整性进行了研究,得到了它的结构参数.
关键词 X射线衍射 计算机模拟 红外材料
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(ZnSe)_n/(ZnS)_m应变层超晶格的光吸收系数
18
作者 李志杰 潘学铃 《沈阳工业大学学报》 EI CAS 1997年第1期81-84,共4页
用Lutting┐Kohn有效质量理论研究了[0,0,1]方向生长的(ZnSe)n/(ZnS)m应变层超晶格的光吸收系数,并与前人实验结果比较和讨论.
关键词 应变层超晶格 光吸收系数 硫化锌 硒化锌 超晶格
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InAs/GaInSb应变层超晶格材料的界面结构
19
作者 邱永鑫 李美成 赵连城 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1316-1319,1323,共5页
介绍了InAs/GaInSb应变层超晶格材料的界面结合类型及其对材料界面结构和光电性能的影响,分析了在超晶格界面处的原子置换和扩散现象。同时,总结了分子束外延生长过程中控制InAs/GaInSb超晶格界面结构的生长工艺,指出采用原子迁移增强(M... 介绍了InAs/GaInSb应变层超晶格材料的界面结合类型及其对材料界面结构和光电性能的影响,分析了在超晶格界面处的原子置换和扩散现象。同时,总结了分子束外延生长过程中控制InAs/GaInSb超晶格界面结构的生长工艺,指出采用原子迁移增强(MEE)外延生长技术,可以有效地抑制界面处原子的置换和扩散现象。 展开更多
关键词 应变层超晶格 InAs/GaInSb 界面结构 分子束外延
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应变补偿InGaN/AlGaN超晶格改善近紫外LED性能
20
作者 尹以安 章勇 +1 位作者 范广涵 李述体 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2015年第8期42-46,共5页
通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替... 通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替代量子阱中的Ga N垒层,二是作p型层的接触层。实验发现,该结构的应用不但可以减弱量子阱的Stark效应和抑制电子泄露,而且降低p型接触层的欧姆接触电阻。且发现不用电子阻挡层情况下,其输出功率、PL光谱和I-V特性等都得到极大改善。 展开更多
关键词 应变平衡 InGaN/AlGaN超晶格 应变补偿 极化效应 p型欧姆接触电阻 近紫外LED
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