锗掺杂类金刚石薄膜特性研究

为了降低类金刚石（DIE）薄膜的应力，使用脉冲真空电弧离子镀（PVAD）和电子束热蒸发相结合的复合沉积技术，在Si基底上制备了一系列不同锗含量（原子百分比）的Ge-DIE薄膜样片，研究了锗含量对DIE薄膜光学特性和力学特性的影响。研究结果表明：在1-5肿波段，当锗掺杂含量小于25％时，对DIE薄膜光学常数的影响不大；随着Ge含量的增加，DIE薄膜的折射率和消光系数都略微增大。随着DLC薄膜中ce含量的增加，薄膜的内应力和硬度均有所降低。当DLC薄膜中Ge含量约为8％时，Ge-DLC薄膜的内应力从6．3降至3．0GPa，而硬度仅从3875减小为3640kgf/mm2，几乎保持不变。硅基底上单面沉积Ge的含量为8％的DIE薄膜在红外3-5ban波段的透过率峰值约为63．15％。

离子束溅射参数与Ta_2O_5薄膜特性的关联性

离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度计和椭圆偏振仪测量Ta2O5薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,再利用全光谱反演计算的方法获得薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度。Ta2O5薄膜的应力通过测量基底镀膜前后的表面变形量计算得到。实验结果表明:基板温度是影响Ta2O5薄膜特性的共性关键要素,其他工艺参数的选择与需求的薄膜特性相关。研究结果对于制备不同应用的Ta2O5薄膜制备工艺参数选择具有指导意义。

同时测量几个弹性光学系数的一种简便方法

本文采用自己设计的光路,根据关于各向异性材料的几个弹性光学系数的定义,推得了它们与干涉条纹变化数的关系。以聚碳酸脂、环氧树脂及有机玻璃为例,测量了它们沿主应力σ_1及σ_2方向的折射率随外力的变化规律,从而完全得到了与它们有关的几个弹性光学系数。

一种用焦散线确定材料弹性光学系数的新方法

采用内插法将光学各向异性材料的问题转化成准光学各向同性材料的问题,提出了一种用焦散线确定材料弹性光学系数的新方法.以有机玻璃、环氧树脂及聚碳酸脂为例,运用文中所述原理和方法测量了它们的弹性光学系数,并将所得结果与有关资料所给结果进行了比较.