AAO模板制备中高纯铝电化学抛光工艺的研究

研究了高纯铝片在硫酸-磷酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺。确定了电化学抛光体系的配方。探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响。获得了最佳抛光工艺参数:Ja=25A/dm2,θ=85～93°C,t=10～15min,机械搅拌。新的环保型电化学抛光体系为制备优良的AAO模板奠定了基础。