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高温扩散工艺制备带隙可调的β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)薄膜
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作者 谭黎 张俊 +3 位作者 张敏 赵荣力 邓朝勇 崔瑞瑞 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第2期281-288,共8页
β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)因其优异的抗击穿及带隙可调节性在现代功率器件及深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用前景,然而传统直接生长工艺的复杂性和难度限制了其进一步的发展。因此,本文采用较为简单的高温扩散工艺在c面蓝宝... β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)因其优异的抗击穿及带隙可调节性在现代功率器件及深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用前景,然而传统直接生长工艺的复杂性和难度限制了其进一步的发展。因此,本文采用较为简单的高温扩散工艺在c面蓝宝石衬底上成功制备了β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)纳米薄膜。利用X射线衍射、原子力显微镜、扫描电子显微镜和紫外-可见分光光度计对其进行了表征。由于高温下蓝宝石衬底中的Al原子向Ga_(2)O_(3)层扩散,β-Ga_(2)O_(3)薄膜将转变为Al、Ga原子比例不同的β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)薄膜。实验结果显示:当退火温度从1 010℃增加到1 250℃时,薄膜中Al的平均含量从0.033增加到0.371;当退火温度从950℃增加到1 250℃时,薄膜的厚度从186 nm增加到297 nm,粗糙度从2.31 nm增加到15.10 nm;当退火温度从950℃增加到1 190℃时,薄膜的带隙从4.79 eV增加至5.96 eV。结果表明高温扩散工艺能够有效调节β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)薄膜的光学带隙,为β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)基新型光电子器件提供了实验基础。 展开更多
关键词 β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3) Ga_(2)O_(3) AL掺杂 半导体薄膜 高温扩散 可调带隙 磁控溅射
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Band-gap tunable(Ga_(x)In_(1−x))_(2)O_(3)layer grown by magnetron sputtering
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作者 Fabi ZHANG Jinyu SUN +11 位作者 Haiou LI Juan ZHOU Rong WANG Tangyou SUN Tao FU Gongli XIAO Qi LI Xingpeng LIU Xiuyun ZHANG Daoyou GUO Xianghu WANG Zujun QIN 《Frontiers of Information Technology & Electronic Engineering》 SCIE EI CSCD 2021年第10期1370-1378,共9页
Multicomponent oxide(Ga_(x)In_(1−x))_(2)O_(3)films are prepared on(0001)sapphire substrates to realize a tunable band-gap by magnetron sputtering technology followed by thermal annealing.The optical properties and ban... Multicomponent oxide(Ga_(x)In_(1−x))_(2)O_(3)films are prepared on(0001)sapphire substrates to realize a tunable band-gap by magnetron sputtering technology followed by thermal annealing.The optical properties and band structure evolution over the whole range of compositions in ternary compounds(Ga_(x)In_(1−x))_(2)O_(3)are investigated in detail.The X-ray diffraction spectra clearly indicate that(Ga_(x)In_(1−x))_(2)O_(3)films with Ga content varying from 0.11 to 0.55 have both cubic and monoclinic structures,and that for films with Ga content higher than 0.74,only the monoclinic structure appears.The transmittance of all films is greater than 86%in the visible range with sharp absorption edges and clear fringes.In addition,a blue shift of ultraviolet absorption edges from 380 to 250 nm is noted with increasing Ga content,indicating increasing band-gap energy from 3.61 to 4.64 eV.The experimental results lay a foundation for the application of transparent conductive compound(Ga_(x)In_(1−x))_(2)O_(3)thin films in photoelectric and photovoltaic industry,especially in display,light-emitting diode,and solar cell applications. 展开更多
关键词 (Ga_(x)In_(1−x))_(2)O_(3)films Band-gap tunable magnetron sputtering
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Zn-Al涂层腐蚀电化学行为研究 被引量:7
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作者 刘毅 魏世丞 +1 位作者 王玉江 徐滨士 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第B04期226-229,共4页
通过电化学交流阻抗谱(EIS)研究了Zn-Al涂层在铜加速醋酸盐雾试验中的腐蚀行为,建立了等效电路模型并分析了相关电化学参数随时间的变化规律。采用扫描电镜及能谱仪分析了涂层腐蚀后的形貌及成分组成,阐释了电化学参数的演变规律。结果... 通过电化学交流阻抗谱(EIS)研究了Zn-Al涂层在铜加速醋酸盐雾试验中的腐蚀行为,建立了等效电路模型并分析了相关电化学参数随时间的变化规律。采用扫描电镜及能谱仪分析了涂层腐蚀后的形貌及成分组成,阐释了电化学参数的演变规律。结果表明,盐雾试验中Zn-Al涂层的腐蚀由电化学反应控制逐渐转变为扩散控制,最后进入基体腐蚀阶段。 展开更多
关键词 Zn-Al涂层 腐蚀 电化学交流阻抗
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可调谐相对论磁控管调谐带宽的优化 被引量:1
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作者 邹焕 李家胤 +4 位作者 李天明 汪海洋 张廷伟 李浩 于秀云 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第8期1153-1158,共6页
在以10腔旭日结构为方案的可调谐相对论磁控管中,分析了热腔下对磁控管性能有重要影响的零模成分与模式隔离因素,结合零模成分的形成原因以及轴向频率分量对调谐范围的影响,提出了调整大、小腔等效阻抗和体积,开放阳极端面,从而减小零... 在以10腔旭日结构为方案的可调谐相对论磁控管中,分析了热腔下对磁控管性能有重要影响的零模成分与模式隔离因素,结合零模成分的形成原因以及轴向频率分量对调谐范围的影响,提出了调整大、小腔等效阻抗和体积,开放阳极端面,从而减小零模分量及增加调谐带宽的措施。CST模拟表明,通过这些优化,可调谐相对论磁控管的调谐带宽从最初的380 MHz提高到900 MHz。 展开更多
关键词 相对论磁控管 调谐带宽 零模分量 高功率微波 频率调谐 旭日型磁控管
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LaAlO_3(110)基片上BST薄膜的制备及性能研究 被引量:1
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作者 王波 杨传仁 +3 位作者 陈宏伟 张继华 余桉 张瑞婷 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2009年第1期106-108,122,共4页
采用射频磁控溅射法在LaAlO3(110)单晶基片上制备了钛酸锶钡薄膜材料。薄膜在800℃退火30 min,结晶优良,薄膜与基片匹配良好,同时由于基片的诱导作用,薄膜在(110)方向有一定的择优取向。测得薄膜的剩余极化强度Pr=1.37μC/cm2,矫顽电场... 采用射频磁控溅射法在LaAlO3(110)单晶基片上制备了钛酸锶钡薄膜材料。薄膜在800℃退火30 min,结晶优良,薄膜与基片匹配良好,同时由于基片的诱导作用,薄膜在(110)方向有一定的择优取向。测得薄膜的剩余极化强度Pr=1.37μC/cm2,矫顽电场强度EC=31.7 kV/cm。对比不同频率下的偏压特性,100 kHz时薄膜具有最高的优值因子F,为23.4。对介电损耗在1 MHz时的增大,作出了初步的解释。 展开更多
关键词 钛酸锶钡(BST) 射频磁控溅射 调谐率 优值因子
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反应磁控溅射制备带隙可调Si_(1-x)Ge_x薄膜
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作者 杨锁龙 刘毅 +4 位作者 罗丽珠 蒋春丽 徐钦英 王小英 刘永刚 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期1568-1573,共6页
采用反应磁控溅射法制备非晶硅锗(Si1-x Gex)半导体薄膜,并对其组分、结构、光学性质及影响光学性质的因素进行研究。结果表明:该方法简单、成本低,且制备的非晶Si1-x Gex薄膜成分均匀、表面质量好、光学吸收系数高、带隙可调。另外提... 采用反应磁控溅射法制备非晶硅锗(Si1-x Gex)半导体薄膜,并对其组分、结构、光学性质及影响光学性质的因素进行研究。结果表明:该方法简单、成本低,且制备的非晶Si1-x Gex薄膜成分均匀、表面质量好、光学吸收系数高、带隙可调。另外提高氢气分压可使薄膜带隙升高,而低于300℃的衬底温度调节对薄膜的带隙影响不明显,退火温度对薄膜的带隙也有影响,高于800℃退火时,薄膜开始微晶化且光学带隙迅速减小。 展开更多
关键词 硅锗薄膜 光学带隙 可调 反应磁控溅射 影响
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Au/Si基片上沉积Bi_(1.5)Zn_(1.0)Nb_(1.5)O_7薄膜介电性能的研究 被引量:1
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作者 齐增亮 蒋书文 李言荣 《微纳电子技术》 CAS 2008年第5期268-270,297,共4页
采用磁控溅射法在Au/Si基片上制备了铌酸锌铋BZN(Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7)薄膜。在基片温度200℃、本底真空1×10^-3Pa条件下,BZN靶溅射0.5h,作为自缓冲层;然后在400℃下溅射1.5h,薄膜总厚度为200nm,650℃原位真空退火1h。XRD... 采用磁控溅射法在Au/Si基片上制备了铌酸锌铋BZN(Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7)薄膜。在基片温度200℃、本底真空1×10^-3Pa条件下,BZN靶溅射0.5h,作为自缓冲层;然后在400℃下溅射1.5h,薄膜总厚度为200nm,650℃原位真空退火1h。XRD分析显示该薄膜为〈222〉单一取向,结晶良好;AFM扫描显示表面平整;测试表明不同频率下薄膜的性能没有大的改变。实验证明,选用电阻率较小的Au电极材料有利于器件性能的提高,实验得到介电常数可调率约20%、损耗为0.002-0.004。 展开更多
关键词 铌酸锌铋(BZN)薄膜 射频磁控溅射 介电性能 可调率 损耗
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粉末靶材射频磁控溅射法制备BaSn_(0.15)Ti_(0.85)O_3薄膜及其性能研究 被引量:1
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作者 肖渊渊 黄玉音 朱归胜 《中国科技论文》 CAS 北大核心 2013年第3期260-262,共3页
采用粉末靶材射频磁控溅射技术在Pt/SiO2/Si基片上制备了厚度为300nm的BaSn0.15Ti0.85O3薄膜。薄膜的沉积速度达到40nm/min,比采用传统陶瓷靶材射频磁控溅射技术的沉积速度高出1个数量级。在10kHz~1MHz的测试条件下,薄膜的介电常数随... 采用粉末靶材射频磁控溅射技术在Pt/SiO2/Si基片上制备了厚度为300nm的BaSn0.15Ti0.85O3薄膜。薄膜的沉积速度达到40nm/min,比采用传统陶瓷靶材射频磁控溅射技术的沉积速度高出1个数量级。在10kHz~1MHz的测试条件下,薄膜的介电常数随着频率的增加而减少,介电损耗均小于0.02;在-5~5V的偏置电压下,介电可调比达到59.3%。实验结果表明采用粉末靶材射频磁控溅射技术可以实现高品质铁电薄膜的快速沉积。 展开更多
关键词 BaSn0 15Ti0 85O3薄膜 射频磁控溅射法 粉末靶材 介电可调
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溅射气压对Bi_(1.5)Mg_(1.0)Nb_(1.5)O_7薄膜结构及介电性能的影响 被引量:1
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作者 黎彬 赵华 +1 位作者 杨天应 蒋书文 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2011年第11期12-15,共4页
采用射频磁控溅射法在Pt/Si基片上沉积了铌酸铋镁(Bi1.5Mg1.0Nb1.5O7,BMN)薄膜。研究了溅射气压对BMN薄膜结构、表面形貌、化学成分及介电性能的影响。结果表明,制备的薄膜具有立方焦绿石结构。高溅射气压下制备的BMN薄膜晶粒的平均尺... 采用射频磁控溅射法在Pt/Si基片上沉积了铌酸铋镁(Bi1.5Mg1.0Nb1.5O7,BMN)薄膜。研究了溅射气压对BMN薄膜结构、表面形貌、化学成分及介电性能的影响。结果表明,制备的薄膜具有立方焦绿石结构。高溅射气压下制备的BMN薄膜晶粒的平均尺寸比低溅射气压下制备的薄膜晶粒的大。薄膜的介电调谐率及相对介电常数随溅射气压的升高而增大。且随着溅射气压的升高,薄膜中各元素含量逐渐接近理论值。在基片温度为675℃,溅射气压为5 Pa,体积比??(O2:Ar)为15:85的条件下制备得到的BMN薄膜在1.6×106 V/cm外加电场下的介电调谐率为26%,介质损耗约0.8%;在5.0×105 V/cm外加电场下其漏电流密度不超过6×10–8 A/cm2。 展开更多
关键词 铌酸铋镁(BMN)薄膜 射频磁控溅射 介电调谐率 介质损耗
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基于CHIPIC软件的旭日型可调谐相对论磁控管的研究
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作者 赵桂莲 刘大刚 +1 位作者 李天明 刘腊群 《现代电子技术》 北大核心 2016年第5期140-142,146,共4页
理论推导了相对论磁控管中电子与高频场的互作用机理,采用CST软件研究冷腔状态下磁控管的π模频率,采用CHIPIC软件对磁控管进行三维粒子模拟研究,对比了10腔旭日型可调谐相对论磁控管冷热腔仿真及实验结果,验证了CHIPIC软件模拟此类器... 理论推导了相对论磁控管中电子与高频场的互作用机理,采用CST软件研究冷腔状态下磁控管的π模频率,采用CHIPIC软件对磁控管进行三维粒子模拟研究,对比了10腔旭日型可调谐相对论磁控管冷热腔仿真及实验结果,验证了CHIPIC软件模拟此类器件的正确性。研究结果表明,仿真结果与实验数据基本一致,频谱比较纯,输出比较稳定,为以后拓展旭日型可调谐相对论磁控管的调谐带宽奠定了基础。 展开更多
关键词 相对论磁控管 旭日型可调谐磁控管 CHIPIC 互作用机理
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旭日型可调谐相对论磁控管的研究与优化设计
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作者 赵桂莲 刘大刚 +1 位作者 李天明 刘腊群 《现代电子技术》 北大核心 2016年第18期142-145,共4页
理论推导了相对论磁控管中电子与高频场的互作用机理,分析了相对论磁控管阴极发射面高度、工作电压和磁场对其工作效率及调谐带宽的影响,得出进一步提高磁控管效率及调谐带宽的条件。对比了10腔旭日型可调谐相对论磁控管仿真及实验结果... 理论推导了相对论磁控管中电子与高频场的互作用机理,分析了相对论磁控管阴极发射面高度、工作电压和磁场对其工作效率及调谐带宽的影响,得出进一步提高磁控管效率及调谐带宽的条件。对比了10腔旭日型可调谐相对论磁控管仿真及实验结果,通过仿真手段进一步优化了该磁控管,提高了输出效率、拓展了调谐带宽。研究结果表明,优化后的10腔旭日型可调谐相对论磁控管具有37%的调谐带宽,电子转换效率最高达到17.9%,输出功率在1.1 GW以上。 展开更多
关键词 相对论磁控管 旭日型可调谐磁控管 互作用机理 电子转换效率
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Ar/O_2对磁控溅射法制备Bi_(1.5)MgNb_(1.5)O_7薄膜结构与性能的影响
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作者 高虹 朱明康 +1 位作者 吕忆农 刘云飞 《南京工业大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2014年第3期1-6,共6页
采用射频磁控溅射法在不同Ar/O2流速比下制备铌镁酸铋(Bi1.5MgNb1.5O7,BMN)薄膜。通过X线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和阻抗分析仪分别对薄膜的相结构、表面形貌和介电性能进行表征。结果表明:经过700℃O2气氛下退火处理,BMN薄膜形... 采用射频磁控溅射法在不同Ar/O2流速比下制备铌镁酸铋(Bi1.5MgNb1.5O7,BMN)薄膜。通过X线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和阻抗分析仪分别对薄膜的相结构、表面形貌和介电性能进行表征。结果表明:经过700℃O2气氛下退火处理,BMN薄膜形成立方焦绿石单相结构。当Ar/O2流速比为2∶1时溅射薄膜的表面粗糙度较小,漏电流较低,具有高的介电常数、低的介电损耗(1 MHz的测试频率下介电常数和介电损耗分别为158和0.4%),并且在0.8 MV/cm的外加电场下介电可调率和优质因子分别为16.4%和36。 展开更多
关键词 BI1 5MgNb1 5O7薄膜 磁控溅射 介电性能 AR O2流速比 调谐率
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磁控溅射生长Cd_xZn_(1-x)O薄膜的表面形貌、结晶特性和光学性能研究
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作者 郭建成 潘石 +2 位作者 孙成伟 吴世法 孙伟 《电子显微学报》 CAS CSCD 2006年第4期316-319,共4页
本文采用射频反应磁控溅射方法,在Si(100)上制备了不同Cd含量的CdxZn1-xO的薄膜。利用电子探针(EPMA)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)对薄膜的成分、表面形貌和晶体结构进行系统表征。结果表明:CdxZn1-xO(0≤x≤0.179)薄膜具有c轴... 本文采用射频反应磁控溅射方法,在Si(100)上制备了不同Cd含量的CdxZn1-xO的薄膜。利用电子探针(EPMA)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)对薄膜的成分、表面形貌和晶体结构进行系统表征。结果表明:CdxZn1-xO(0≤x≤0.179)薄膜具有c轴择优取向,随着Cd含量增加,薄膜半峰宽(FWHM)变大,表面粗糙度增加,当x=0.108时出现相分离。透射光谱测试表明,通过调节Cd含量实现了对CdxZn1-xO的薄膜能带的调节。 展开更多
关键词 CdxZn1-xO薄膜 磁控溅射 能带调节
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Al_2O_3陶瓷基片上Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜可调介电性能的研究
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作者 王元 蒋书文 陈湘亮 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第B04期223-225,229,共4页
采用磁控溅射方法在Al2O3陶瓷基片上溅射生长Ba0.7Sr0.3TiO3(BST)薄膜,使用光刻工艺制作平板结构的BST薄膜可变电容。研究了溅射条件对BST薄膜可调介电性能和介电损耗的影响。结果表明,在溅射气压为4Pa、O2:Ar比为30:70、基片温度... 采用磁控溅射方法在Al2O3陶瓷基片上溅射生长Ba0.7Sr0.3TiO3(BST)薄膜,使用光刻工艺制作平板结构的BST薄膜可变电容。研究了溅射条件对BST薄膜可调介电性能和介电损耗的影响。结果表明,在溅射气压为4Pa、O2:Ar比为30:70、基片温度800℃下制备的BST薄膜具有较高的介电调谐率(约52%)和较低的损耗(约0.8%),BST薄膜可变电容的品质因素随频率升高而降低,在1~100MHZ频率范围内品质因素从125下降为42。 展开更多
关键词 BST薄膜 AL2O3 陶瓷基片 磁控溅射 可变电容
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Cd掺杂BZCN薄膜的制备及其介电性能
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作者 张凯 蒋书文 +2 位作者 程鹏 张鹰 齐增亮 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期33-35,共3页
用射频磁控溅射法,在Pt/Si基片上制备了立方烧绿石结构的Cd掺杂Bi1.5Zn0.7Cd0.3Nb1.5O7(BZCN)薄膜。研究了衬底温度对薄膜结构、表面形貌以及介电性能的影响。结果表明,沉积温度为600℃,退火温度为700℃制备的薄膜,在测试频率为100 kHz... 用射频磁控溅射法,在Pt/Si基片上制备了立方烧绿石结构的Cd掺杂Bi1.5Zn0.7Cd0.3Nb1.5O7(BZCN)薄膜。研究了衬底温度对薄膜结构、表面形貌以及介电性能的影响。结果表明,沉积温度为600℃,退火温度为700℃制备的薄膜,在测试频率为100 kHz,测试电场强度为1.33×106 V/cm的条件下,介电可调率达到11.8%,tanδ小于0.004 2。 展开更多
关键词 无机非金属材料 Cd掺杂BZCN薄膜 射频磁控溅射 介电性能 介电可调率
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低损耗掺杂BST薄膜的射频磁控溅射沉积及其阻抗特性研究 被引量:1
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作者 陈含笑 盛苏 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期4126-4129,共4页
利用射频磁控溅射法和快速热退火处理,在高电阻Si基片上制备了具有较低介电损耗的MgO掺杂Ba_(0.25)Sr_(0.75)TiO_3(BST)铁电薄膜。通过XRD和SEM,分别对BST铁电薄膜的微结构和表面形貌进行了分析。利用铁电分析仪和低频阻抗分析仪分别测... 利用射频磁控溅射法和快速热退火处理,在高电阻Si基片上制备了具有较低介电损耗的MgO掺杂Ba_(0.25)Sr_(0.75)TiO_3(BST)铁电薄膜。通过XRD和SEM,分别对BST铁电薄膜的微结构和表面形貌进行了分析。利用铁电分析仪和低频阻抗分析仪分别测试了BST薄膜样品的铁电特性和介电性能。研究表明,MgO掺杂的BST薄膜的介电损耗要低于纯的BST薄膜,并且在掺杂浓度为5%(摩尔分数)时,获得最佳的实验结果。在室温和250 Hz的条件下,测得700℃退火的BST铁电薄膜样品的矫顽电场强度(E_C)和剩余极化强(P_r)分别为1.15 V/cm和4.06μC/cm^2,介电常数和介电损耗因子分别为370和0.005。 展开更多
关键词 可调谐微波器件 铁电薄膜 磁控溅射 介电损耗 铁电性能
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晶粒尺寸和膜厚对磁控溅射法制备Bi_(1.5)Mg_(1.0)Nb_(1.5)O_7薄膜介电性能的影响(英文) 被引量:1
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作者 晏子敬 吕忆农 +3 位作者 刘云飞 高虹 马成建 蒋晓威 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期1287-1292,共6页
采用磁控溅射法在Pt/Ti/Si O2/Si基底上制备立方焦绿石结构Bi1.5Mg1.0Nb1.5O7薄膜。通过控制750℃下后退火时间来控制薄膜的平均晶粒尺寸,用沉积时间控制膜厚。研究不同晶粒尺寸和膜厚对BMN薄膜相结构、微观形貌和介电性能的影响。结果... 采用磁控溅射法在Pt/Ti/Si O2/Si基底上制备立方焦绿石结构Bi1.5Mg1.0Nb1.5O7薄膜。通过控制750℃下后退火时间来控制薄膜的平均晶粒尺寸,用沉积时间控制膜厚。研究不同晶粒尺寸和膜厚对BMN薄膜相结构、微观形貌和介电性能的影响。结果表明,当BMN薄膜平均晶粒尺寸为45 nm、膜厚为430 nm时,薄膜介电性能提高显著,1 MHz下介电常数为112.4,介电损耗为0.001 82,在0.93 MV/cm外加电场条件下,介电调谐率为27.7%。 展开更多
关键词 铌镁酸铋薄膜 磁控溅射 晶粒尺寸 膜厚 介电性能 调谐率
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