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Research on C_3N_4 Superhard Compound Thin Film and Its Application
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作者 Wu Da-wei +2 位作者 Peng Li-li 《Wuhan University Journal of Natural Sciences》 CAS 2003年第01A期54-58,共5页
By combination of DC reactive magnetron sputter i ng with multiple arcplating, the alternating C 3 N 4 /TiN compo und film is deposited onto HSS. The core level binding energy and the contents o f carbon and n... By combination of DC reactive magnetron sputter i ng with multiple arcplating, the alternating C 3 N 4 /TiN compo und film is deposited onto HSS. The core level binding energy and the contents o f carbon and nitrogen are characterized by X\|ray photoelectron spectrum. X\|ray diffraction(XRD) shows that compound thin film contains hard crystalline phases of α \|C 3 N 4 and β \|C 3 N 4 . The Knoop microhardne ss in the load range of 50.5\|54.1 GPa is measured. According to acoustic emissi on scratch test, the critical load values for the coatings on HSS substrates are in the range of 40\|80 N. The metal coated with C 3 N 4 /TiN compound f ilms has a great improvement in the resistance against corrosion. Many tests sho w that such a coating has a very high wearability. Compared with the uncoated an d TiN coated tools, the C 3 N 4 /TiN coated tools have a much longer cut ting life. 展开更多
关键词 C 3N 4 superhard thin film High Speed Steel (HSS) coated cutting tool
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Structure and Properties of TiB_2 Thin Films Deposited at Low Temperatures Using RF Magnetron Sputtering
2
作者 戴伟 张同俊 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2008年第5期666-669,共4页
The TiB2 thin films were deposited on steel substrates using RF magnetron sputtering technique with the low normalized substrate temperature (0.1〈Ts/Tm〈0.2). Microstructure of these films was obtained by field emi... The TiB2 thin films were deposited on steel substrates using RF magnetron sputtering technique with the low normalized substrate temperature (0.1〈Ts/Tm〈0.2). Microstructure of these films was obtained by field emission scanning electron microscope (FESEM) and the grazing incidence X-ray diffraction (GIXRD) characterization, while the composition of films was obtained using Auger emission spectroscopy (AES) analysis. It was found that the TiB2 thin films were overstoichiometric with the B/Ti ratio at 2.33 and the diffusion of Ti and B atoms on the substrate surface was greatly improved at 350 ℃. Moreover, a new dense structure, named "equiaxed" grain structure was observed by FESEM at this substrate temperature, Combined with FESEM and AES analysis, it was suggested that the "equiaxed" grain structure was located in Zone 2 at the normalized substrate temperature as low as 0.18. 展开更多
关键词 TiB2 thin films structure zones 1 2 T equiaxed structure superhard coating auger electron spectroscopy
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偏压占空比对磁控溅射制备AlMgB薄膜的影响研究
3
作者 王校苗 党玲岩 田野 《河北北方学院学报(自然科学版)》 2023年第7期1-6,共6页
采用JGP-450型三靶磁控溅射系统制备超硬AlMgB薄膜。研究脉冲偏压占空比复合参数对AlMgB薄膜的沉积速率、表面形貌、微观结构及机械性能的影响。实验中,采用3D表面轮廓仪、原子力显微镜、傅里叶变换红外光谱仪及纳米压痕技术对薄膜的厚... 采用JGP-450型三靶磁控溅射系统制备超硬AlMgB薄膜。研究脉冲偏压占空比复合参数对AlMgB薄膜的沉积速率、表面形貌、微观结构及机械性能的影响。实验中,采用3D表面轮廓仪、原子力显微镜、傅里叶变换红外光谱仪及纳米压痕技术对薄膜的厚度、形貌、结构、机械性能进行表征。结果显示:当脉冲偏压占空比复合参数为300V-10%时,AlMgB薄膜表现出最佳的机械性能,此时,薄膜的硬度及弹性模量分别达到41.2GPa,392.3GPa,薄膜中B_(12)二十面体的含量最高,并且该条件下沉积的薄膜均方根粗糙度最小,薄膜表面最光滑平整,达到原子级别的光滑程度。同时实验表明在较高或者较低的脉冲偏压占空比复合条件下均不利于薄膜的生长,不利于薄膜内部形成B_(12)结构。值得一提的是,在实验过程中制得的薄膜均表现出良好的膜基结合力,薄膜的质量良好,说明适当施加偏压有利于加强薄膜的附着能力。 展开更多
关键词 磁控溅射 AlMgB薄膜 超硬 脉冲偏压-占空比 B12
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NbN基陶瓷硬质薄膜研究现状与进展
4
作者 陆昆 赵立军 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2023年第9期55-63,共9页
主要综述了NbN单层膜、NbN基复合薄膜及多层薄膜的研究现状,详细叙述了NbN单层薄膜、NbN基复合薄膜和多层薄膜的微结构、力学性能、抗氧化性能、耐腐蚀性能和摩擦磨损性能,并重点阐述了NbN多晶结构、元素掺杂对NbN基复合薄膜的性能影响... 主要综述了NbN单层膜、NbN基复合薄膜及多层薄膜的研究现状,详细叙述了NbN单层薄膜、NbN基复合薄膜和多层薄膜的微结构、力学性能、抗氧化性能、耐腐蚀性能和摩擦磨损性能,并重点阐述了NbN多晶结构、元素掺杂对NbN基复合薄膜的性能影响和多层膜的超硬效应机理。指出复合、多层陶瓷薄膜具有单一NbN薄膜无法实现的优点,复合、多层陶瓷膜将依然是未来NbN基陶瓷硬质薄膜的研究方向,最后对NbN基陶瓷硬质薄膜的发展和应用前景进行了展望。 展开更多
关键词 NbN薄膜 微结构 力学性能 摩擦磨损性能 超硬效应
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纳米复合超硬薄膜的研究现状 被引量:14
5
作者 赵红雨 范秋林 +2 位作者 宋力昕 施尔畏 胡行方 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期9-16,共8页
自1994年Veprek等人提出纳米复合超硬薄膜的概念以来,以其优异的力学性能和化学性能而成为当今材料科学领域的研究热点之一.本文将介绍纳米复合超硬薄膜的概念、设计思想、超硬机制、制备技术及工艺、性能和应用前景,及其发展趋势.
关键词 超硬薄膜 纳米复合结构 CVD 磁控溅射
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超硬膜的研究进展 被引量:5
6
作者 肖兴成 江伟辉 +1 位作者 宋力昕 胡行方 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第5期705-710,共6页
本文简要总结了近年来超硬膜研究领域中的一些最新进展,包括超硬膜硬度的理论研究和轻元素组成的超硬膜、纳米复合膜、纳米多层膜以及它们力学性能增强效应的理论解释.对超硬膜以后的发展趋势提出了自己的一些见解.
关键词 超硬膜 硬度 力学性能 增强效应 薄膜
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刀具涂层技术的新进展 被引量:21
7
作者 吴大维 刘传胜 +2 位作者 傅德君 彭友贵 范湘军 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期574-576,共3页
:概述了一些具有应用前景的刀具硬质涂层新材料和多元、复合多层超硬薄膜的应用 ;介绍了超高硬度涂层材料 :低压气相合成金刚石、立方氮化硼和β-C3N4的研究进展 。
关键词 涂层刀具 超硬薄膜 多元复合膜 涂层工艺
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高速钢镀氮化碳超硬涂层及其应用研究 被引量:5
8
作者 吴大维 曾昭元 +3 位作者 刘传胜 张友珍 彭友贵 范湘军 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期279-283,共5页
本文采用DC 反应磁控溅射和电弧离子镀相结合的方法在高速钢上沉积氮化碳-氮化钛复合膜,经X射线衍射分析,复合膜中存在a-C3N4和b-C3N4的硬质相。复合膜的显微硬度 HK=50.5—54.1GPa,它与高速钢基体的附着力,用划痕试验测得临界载荷Lc=40... 本文采用DC 反应磁控溅射和电弧离子镀相结合的方法在高速钢上沉积氮化碳-氮化钛复合膜,经X射线衍射分析,复合膜中存在a-C3N4和b-C3N4的硬质相。复合膜的显微硬度 HK=50.5—54.1GPa,它与高速钢基体的附着力,用划痕试验测得临界载荷Lc=40—80N。多种刀具试用证实,该涂层具有很高的耐磨性,与未涂层和镀TiN的刀具相比,大幅度提高了刀具的耐用度。 展开更多
关键词 氮化碳 超硬薄膜 高速工具钢 涂层刀具 氮化钛 复合膜 电弧离子镀 DC反应磁控溅射
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金属氮化物和碳化物硬质涂层的研究及应用进展 被引量:9
9
作者 宋慧瑾 鄢强 李玫 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI CAS 2014年第2期491-493,496,共4页
利用超硬涂层进行材料防护是提高材料性能的一种经济、实用性途径,也是提高模具寿命的重要手段。按金属氮化物和碳化物耐磨硬质涂层材料的不同,综述了耐磨涂层的研究进展,介绍了其制备方法,展望了防护涂层的发展趋势。
关键词 超硬薄膜 硬质涂层 金属氮化物 金属碳化物
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低温PVD法制备多组分超硬薄膜研究 被引量:6
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作者 彭志坚 齐龙浩 +2 位作者 刘大鹏 李文治 苗赫濯 《材料科学与工程》 CSCD 北大核心 2003年第1期110-116,共7页
对薄膜淀积的各种PVD技术和新型薄膜研究进展进行了综述 ,讨论了多组分硬质薄膜低温制备存在的问题 ,指出了解决的办法 ;归纳了影响多组分硬质薄膜在三维基体上均匀、均质淀积的因素 ,重点讨论了基体旋转与靶源配置问题 ;指出了用低温PV... 对薄膜淀积的各种PVD技术和新型薄膜研究进展进行了综述 ,讨论了多组分硬质薄膜低温制备存在的问题 ,指出了解决的办法 ;归纳了影响多组分硬质薄膜在三维基体上均匀、均质淀积的因素 ,重点讨论了基体旋转与靶源配置问题 ;指出了用低温PVD法淀积多组分超硬薄膜研究方向。 展开更多
关键词 低温PVD法 制备 多组分超硬薄膜 物理气相沉积
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超硬薄膜研究的新进展 被引量:3
11
作者 李成明 孙晓军 +2 位作者 张增毅 唐伟忠 吕反修 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期2-5,共4页
本文介绍了碳系列薄膜、纳米多层及纳米复合超硬薄膜近年来所取得的研究成果 ,重点是氮化物纳米多层与复合超硬薄膜的研究状况 ,并对纳米多层膜在应用中存在的问题提出了解决的思路 。
关键词 硬度 超硬薄膜 纳米多层与复合薄膜
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高速钢刀具镀氮化碳超硬涂层研究 被引量:7
12
作者 吴大维 吴越侠 +1 位作者 彭友贵 范湘军 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第24期2154-2157,共4页
为了在高速钢刀具上制备先进的氮化碳超硬涂层,采用DC反应磁控溅射和电弧离子镀相结合的方法在高速钢上沉积氮化碳—氨化钛复合膜,经X射线衍射分析,复合膜中存在α—C_3N_4和β—C_3N_4两种硬质相。复合膜的显微硬度(HK)为50.5~54.1GPa... 为了在高速钢刀具上制备先进的氮化碳超硬涂层,采用DC反应磁控溅射和电弧离子镀相结合的方法在高速钢上沉积氮化碳—氨化钛复合膜,经X射线衍射分析,复合膜中存在α—C_3N_4和β—C_3N_4两种硬质相。复合膜的显微硬度(HK)为50.5~54.1GPa,用划痕试验测量它与高速钢基体的附着力,测得临界载荷L_c=40~80N,多种刀具试用证实,该涂层具有很高的耐磨性,与未涂层和镀TiN的刀具相比,大幅度提高了刀具的耐用度。 展开更多
关键词 超硬涂层 氮化碳 高速工具钢 涂层刀具
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氮化碳薄膜制备及性能研究进展 被引量:2
13
作者 肖兴成 宋力昕 胡行方 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第3期343-351,共9页
本文对氮化碳的结构及制备工艺如溅射、化学气相沉积、离子束辅助沉积、激光烧蚀等作了较为详细的总结与分析,对各种制备工艺条件下的氮化碳的性能包括力学、电学及光学性能进行了讨论,并对今后的发展趋势提出了自己的见解.
关键词 氮化碳 超硬膜 制备 工艺 性能
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脉冲偏压电弧离子镀制备C_(1-x-y)N_xZr_y超硬复合薄膜 被引量:3
14
作者 李红凯 林国强 董闯 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期517-521,共5页
用脉冲偏压电弧离子镀方法在保持石墨靶弧流恒定的条件下,通过同步改变锆靶弧流与氮流量,在硬质合金基体上制备了一系列不同成分的C1-x-yNxZry复合薄膜.随着锆靶弧流与N流量增加,薄膜中Zr与N含量都呈线性增加,同时C含量快速减少.Raman... 用脉冲偏压电弧离子镀方法在保持石墨靶弧流恒定的条件下,通过同步改变锆靶弧流与氮流量,在硬质合金基体上制备了一系列不同成分的C1-x-yNxZry复合薄膜.随着锆靶弧流与N流量增加,薄膜中Zr与N含量都呈线性增加,同时C含量快速减少.Raman光谱显示所制备的薄膜具有DLC特征,而XRD结果显示薄膜中还存在有明显的ZrN晶体相,说明本实验所制备的薄膜属于在DLC非晶基体上匹配有ZrN晶体相的碳基复合薄膜.随Zr与N含量增加,薄膜硬度先增大后降低,当x=0.19,y=0.28时薄膜具有最高硬度值,为43.6GPa,达到了超硬薄膜的硬度值. 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 超硬复合薄膜 脉冲偏压 电弧离子镀
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第一性原理计算fcc-Nb_(1-x)Si_xN的调幅分解 被引量:1
15
作者 牛建钢 丁振君 +2 位作者 高巍 谢飞 田晓 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第14期78-80,共3页
通过第一性原理计算方法计算了三元固溶体fcc-Nb1-xSixN的总能,在此基础上计算了其分离能和调幅分解线。结果表明,fcc-Nb1-xSixN是亚稳相,能经调幅分解机制分解为fcc-NbN和fcc-SiN。组元相形成的应变能小于分离能,不会抑制fcc-Nb1-xSix... 通过第一性原理计算方法计算了三元固溶体fcc-Nb1-xSixN的总能,在此基础上计算了其分离能和调幅分解线。结果表明,fcc-Nb1-xSixN是亚稳相,能经调幅分解机制分解为fcc-NbN和fcc-SiN。组元相形成的应变能小于分离能,不会抑制fcc-Nb1-xSixN的共格调幅分解。fcc-Nb1-xSixN的Si含量为渗透阈值时不会发生调幅分解。fcc-SiN可能较快转变为β-Si3N4,从而抑制fcc-Nb1-xSixN的共格调幅分解。 展开更多
关键词 超硬薄膜 氮化物 调幅分解 第一性原理
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新型超硬C-N薄膜材料 被引量:2
16
作者 张贵锋 杨振江 耿东生 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 1998年第4期48-53,共6页
C-N薄膜是目前国际上刚刚兴起的一种新型超硬材料。理论上,它的体模量和硬度比金刚石还要高。在半导体和抗磨涂层等领域有着广阔的应用前景。文中介绍了新型C-N薄膜材料的发展概况、几种典型的制备方法、结构及性能特点,分析了... C-N薄膜是目前国际上刚刚兴起的一种新型超硬材料。理论上,它的体模量和硬度比金刚石还要高。在半导体和抗磨涂层等领域有着广阔的应用前景。文中介绍了新型C-N薄膜材料的发展概况、几种典型的制备方法、结构及性能特点,分析了C-N膜的发展方向及其应用前景。 展开更多
关键词 碳氮簿膜 超硬材料 C-N簿膜 合成工艺 应用
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降低超硬类金刚石薄膜应力的方法 被引量:21
17
作者 赵栋才 任妮 《真空与低温》 2006年第1期1-8,共8页
在参考他人最近十几年研究的基础上,总结了降低超硬类金刚石薄膜内应力的几种方法,包括热退火、掺杂、加脉冲偏压、沉积多层膜等。退火在降低应力的同时可保持类金刚石薄膜很高的硬度,其他各种方法在降低应力时都以降低一定的硬度为代价。
关键词 类金刚石薄膜 DLC 内应力 超硬膜
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射频磁控溅射超硬TiB2薄膜的T区结构特征 被引量:4
18
作者 戴伟 张同俊 +2 位作者 杨君友 孙荣幸 许聚良 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期697-699,683,共4页
用磁控溅射技术在钢基片上沉积出具有T区结构的TiB2薄膜,研究基片偏压对薄膜的影响。使用X射线衍射技术和扫描电镜分析薄膜的特性。发现在本研究工艺条件下,所有的薄膜均呈(001)晶面择优生长。当基片偏压在-50 V时,薄膜的硬度为50 GPa,... 用磁控溅射技术在钢基片上沉积出具有T区结构的TiB2薄膜,研究基片偏压对薄膜的影响。使用X射线衍射技术和扫描电镜分析薄膜的特性。发现在本研究工艺条件下,所有的薄膜均呈(001)晶面择优生长。当基片偏压在-50 V时,薄膜的硬度为50 GPa,抗塑性变形的能力为0.65 GPa。加大基片偏压,导致薄膜晶粒尺寸减小,同时薄膜的硬度和抗塑性变形的能力也下降。扫描电镜分析显示,基片温度对T区结构的影响是明显的,提高基片温度,当Ts/Tm=0.18时,薄膜中出现"等轴"结构。 展开更多
关键词 TiB2薄膜 超硬涂层 磁控溅射 薄膜区域结构模式 等轴结构
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CN超硬膜的制备及性能 被引量:2
19
作者 程宇航 吴一平 +1 位作者 陈建国 乔学亮 《材料导报》 EI CAS CSCD 1996年第6期40-44,共5页
CN膜是一种超硬新材料,其性能特点及制备方法已成为材料科学研究的热点。概述了CN膜的制备方法,并介绍了CN膜结构及性能的研究概况。
关键词 超硬材料 CN膜 制备 薄膜
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纳米超硬多层膜研究现状及发展趋势 被引量:3
20
作者 唐普洪 宋仁国 +1 位作者 柴国钟 陈小明 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期18-21,共4页
分别从溅射法和蒸发法两个方面评述了近年来纳米多层膜制备工艺的最新进展,在此基础上介绍了脉冲激光沉积(PLD)工艺制备纳米超硬多层膜的新方法。对典型的超硬膜TiN、(Ti,Zr)N、(Ti,Al)N、TiN/SiO2、B1-SiC、TiN/SiN4进行了简单回顾,并... 分别从溅射法和蒸发法两个方面评述了近年来纳米多层膜制备工艺的最新进展,在此基础上介绍了脉冲激光沉积(PLD)工艺制备纳米超硬多层膜的新方法。对典型的超硬膜TiN、(Ti,Zr)N、(Ti,Al)N、TiN/SiO2、B1-SiC、TiN/SiN4进行了简单回顾,并对其硬度、残余应力、摩擦磨损和抗氧化性能等方面做了详细的比较。最后,简述了纳米超硬多层膜表征的一般手段,并展望了发展前景。 展开更多
关键词 纳米超硬多层膜 脉冲激光沉积 制备 表征
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