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Effect of Substrate Bias on Microstructure and Properties of Tetrahedral Amorphous Carbon Films 被引量:1
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作者 Jiaqi ZHU Jiecai HAN Songhe MENG Qiang LI Manlin TAN 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第z1期109-111,共3页
The microstructure and properties of tetrahedral amorphous carbon (ta-C) films deposited by the filtered cathodic vacuum arc technology has been investigated by visible Raman spectroscopy, AFM and Nano-indentor. The R... The microstructure and properties of tetrahedral amorphous carbon (ta-C) films deposited by the filtered cathodic vacuum arc technology has been investigated by visible Raman spectroscopy, AFM and Nano-indentor. The Raman spectra have been fitted with a single skewed Lorentzian lineshape described by BWF function defining coupling coefficient, which characterizes the degree of asymmetry and is correlated with the sp3 content. When the substrate bias is -80 V, the sp3 content is the most and simultaneously the coupling coefficient is the least, following with the minimum root mean square surface roughness (Rq=0.23 nm) and the highest hardness (51.49 GPa), Young′s modulus (512.39 GPa), and critical scratching load (11.72 mN). As the substrate bias is increased or decreased, the sp3 content and other properties lower correspondingly. 展开更多
关键词 tetrahedral amorphous carbon Filtered cathodic VACUUM arc Substrate BIAS
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Optical Properties of Tetrahedral Amorphous Carbon Films and Their Potential for Lab-on-a-Chip 被引量:1
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作者 Katja Guenther Frank Sonntag +1 位作者 Teja Roch Andrés Fabián Lasagni 《Materials Sciences and Applications》 2015年第5期445-455,共11页
In this study, tetrahedral amorphous carbon (ta-C) films with thicknesses between several 100 nm and several micrometers have been deposited onto polished tungsten carbide and steel substrates by pulsed laser depositi... In this study, tetrahedral amorphous carbon (ta-C) films with thicknesses between several 100 nm and several micrometers have been deposited onto polished tungsten carbide and steel substrates by pulsed laser deposition (PLD) using an excimer laser (248 nm wavelength). We investigate the optical properties (e.g. the refractive index (n) and extinction coefficient (k) in the visible and near-infrared wavelength range) of these layers in dependence of the used laser ablation fluence on the target. It is shown that n of ~2000 nm thick ta-C films can be tuned, depending on the sp3-content, between n = 2.5 and 2.8 at a wavelength of 632 nm. Besides of this k reduces with the sp3-content and is as low as 0.03 at sp3-contents of more than 75%. We proof that this gives the opportunity to prepare coating with tailored optical properties. Furthermore, it is shown that the ta-C films have low background fluorescence in the wavelengths range of 380 - 750 nm, which make this thin films attractive for certain optical, medical and biotechnological applications. We present for the first time that one possible application is the use in Lab-on-a-Chip-systems (LOC). Within these systems, the ultrasensitive detection of fluorescence markers and dyes is a challenge. In order to increase the signal-to-noise-ratio, a setup was developed, that used the specific optical properties of ta-C films produced by PLD. We used the ta-C film as an integrated reflector that combined low background fluorescence, a low reflectivity at the excitation wavelength and the high reflectivity at the emission wavelength. We prove that this setup improves the detection of fluorescence photons. 展开更多
关键词 tetrahedral amorphous carbon PULSED Laser Deposition Thin Films DIAMOND-LIKE carbon LAB-ON-A-CHIP
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ENHANCING ADHESION OF TETRAHEDRAL AMORPHOUS CARBON FILMS
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作者 赵玉清 林毅 +2 位作者 王晓艳 王炎武 魏新宇 《Journal of Pharmaceutical Analysis》 SCIE CAS 2005年第1期33-35,39,共4页
Objective The high energy ion bombardment technique is applied to enhancing the adhesion of the tetrahedral amorphous carbon (TAC) films deposited by the filtered cathode vacuum arc (FCVA). Methods The abrasion method... Objective The high energy ion bombardment technique is applied to enhancing the adhesion of the tetrahedral amorphous carbon (TAC) films deposited by the filtered cathode vacuum arc (FCVA). Methods The abrasion method, scratch method, heating and shaking method as well as boiling salt solution method is used to test the adhesion of the TAC films on various material substrates. Results The test results show that the adhesion is increased as the ion bombardment energy increases. However, if the bombardment energy were over the corresponding optimum value, the adhesion would be enhanced very slowly for the harder material substrates and drops quickly, for the softer ones. Conclusion The optimum values of the ion bombardment energy are larger for the harder materials than that for the softer ones. 展开更多
关键词 tetrahedral amorphous carbon filtered cathode vacuum arc ion bombardment ADHESION
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Raman spectra of nitrogen-doped tetrahedral amorphous carbon from first principles
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作者 NIU Li ZHU JiaQi +2 位作者 GAO Wei HAN Xiao DU ShanYi 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2009年第23期4376-4380,共5页
The non-resonant vibrational Raman spectra of nitrogen-doped tetrahedral amorphous carbon have been calculated from first principles, including the generation of a structural model, and the calculation of vibrational ... The non-resonant vibrational Raman spectra of nitrogen-doped tetrahedral amorphous carbon have been calculated from first principles, including the generation of a structural model, and the calculation of vibrational frequencies, vibrational eigenmodes and Raman coupling tensors. The calculated Raman spectra are in good agreement with the experimental results. The broad band at around 500 cm-1 arises from mixed bonds. The T peak originates from the vibrations of sp3 carbon and the G peak comes from the stretching vibrations of sp2-type bonding of C=C and C=N. The simulation results indicate the direct contribution of N vibrations to Raman spectra. 展开更多
关键词 共振拉曼光谱 四面体非晶碳 氮掺杂 振动频率 莫尔 第一原理 结构模型 伸缩振动
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Tribological properties of multilayer tetrahedral amorphous carbon coatings deposited by filtered cathodic vacuum arc deposition
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作者 Young-Jun JANG Jae-Il KIM +1 位作者 WooYoung LEE Jongkuk KIM 《Friction》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第5期1292-1302,共11页
Tetrahedral amorphous carbon(ta‐C)has emerged as an excellent coating material for improving the reliability of application components under high normal loads.Herein,we present the results of our investigations regar... Tetrahedral amorphous carbon(ta‐C)has emerged as an excellent coating material for improving the reliability of application components under high normal loads.Herein,we present the results of our investigations regarding the mechanical and tribological properties of a 2‐μm‐thick multilayer ta‐C coating on high‐speed steel substrates.Multilayers composed of alternating soft and hard layers are fabricated using filtered a cathodic vacuum arc with alternating substrate bias voltages(0 and 100 V or 0 and 150 V).The thickness ratio is discovered to be 1:3 for the sp2‐rich and sp3‐rich layers.The results show that the hardness and elastic modulus of the multilayer ta‐C coatings increase with the sp3 content of the hard layer.The hardness reached approximately 37 GPa,whereas an improved toughness and a higher adhesion strength(>29 N)are obtained.The friction performance(μ=0.07)of the multilayer coating is similar to that of the single layer ta‐C thick coating,but the wear rate(0.13×10^(–6) mm^(3)/(N∙m))improved under a high load of 30 N.We further demonstrate the importance of the multilayer structure in suppressing crack propagation and increasing the resistance to plastic deformation(H3/E2)ratio. 展开更多
关键词 tetrahedral amorphous carbon(ta‐C) filtered cathodic vacuum arc deposition multilayer coatings alternating substrate bias voltage wear resistance plastic deformation resistance
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基片偏压对ta-C薄膜结构和摩擦因数的影响 被引量:3
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作者 韩亮 张涛 +1 位作者 刘德连 何亮 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2012年第10期10-15,共6页
利用磁过滤阴极电弧技术,通过改变基片负偏压(0~500 V)制备四面体非晶碳(ta-C)薄膜,研究基片负偏压对ta-C薄膜结构和摩擦因数的影响。研究表明,基片负偏压对ta-C薄膜的sp3键含量有很大影响,当负偏压为200 V时,ta-C薄膜的sp3键含量为85... 利用磁过滤阴极电弧技术,通过改变基片负偏压(0~500 V)制备四面体非晶碳(ta-C)薄膜,研究基片负偏压对ta-C薄膜结构和摩擦因数的影响。研究表明,基片负偏压对ta-C薄膜的sp3键含量有很大影响,当负偏压为200 V时,ta-C薄膜的sp3键含量为85%。在0~200 V范围内随着基片偏压的增大,表面粗糙度逐渐减小,在负偏压为200 V时,薄膜表面粗糙度最小,为0.18 nm左右;当负偏压超过200 V后,由于薄膜中石墨相增多,薄膜表面粗糙度将增大。随着基片偏压的逐渐增大,由于薄膜表面粗糙度的减小和在摩擦中石墨相自润滑层的形成,薄膜的摩擦因数大大降低,耐磨性提高。 展开更多
关键词 四面体非晶碳薄膜 基片偏压 摩擦因数
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Ni离子注入四面体非晶碳(ta-C)膜微观结构研究 被引量:1
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作者 覃礼钊 廖斌 +2 位作者 吴正龙 张旭 刘安东 《真空》 CAS 北大核心 2008年第5期49-53,共5页
高内应力是阻碍高性能超硬四面体非晶碳(tetrahedral amorphous carbon,ta-C)膜长厚和广泛应用的主要因素。为降低ta-C膜内应力,本文采用金属蒸汽真空弧(metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源注入技术,注入Ni离子到用磁过滤阴极真空弧(f... 高内应力是阻碍高性能超硬四面体非晶碳(tetrahedral amorphous carbon,ta-C)膜长厚和广泛应用的主要因素。为降低ta-C膜内应力,本文采用金属蒸汽真空弧(metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源注入技术,注入Ni离子到用磁过滤阴极真空弧(filtered cathodic vacuumarc,FCVA)沉积的ta-C膜中,制备出掺Ni膜(ta-C:Ni膜)。用XPS、XRD、Raman谱和SEM表征膜的微观结构。结果显示,膜sp3含量减小,发生了石墨化,石墨颗粒细化;Ni在膜中以单质Ni的形式存在,并且有Ni纳米晶体析出;膜表面均匀分布约10nm颗粒。对膜在结构上的变化作了讨论。 展开更多
关键词 Ni离子注入 四面体非晶碳(ta—C)膜 MEVVA源 微观结构
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脉冲偏压对磁过滤阴极电弧离子镀ta-C薄膜性能的影响 被引量:4
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作者 董中林 于振华 +4 位作者 施毅 李琦 杨木 王永庆 干蜀毅 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期78-82,共5页
在不同脉冲偏压值下采用90°弯管磁过滤阴极电弧离子镀于硅片表面制备四面体非晶碳膜(Ta-C),研究了脉冲偏压对薄膜硬度、沉积速率、表面形貌及键价结构的影响。结论表明,薄膜沉积速率随脉冲偏压值的增加呈先增后减趋势,偏压值与膜... 在不同脉冲偏压值下采用90°弯管磁过滤阴极电弧离子镀于硅片表面制备四面体非晶碳膜(Ta-C),研究了脉冲偏压对薄膜硬度、沉积速率、表面形貌及键价结构的影响。结论表明,薄膜沉积速率随脉冲偏压值的增加呈先增后减趋势,偏压值与膜层硬度值呈负相关性,高的偏压会抑制膜层中sp3键的形成,还能在一定程度上抑制大颗粒形成。本文研究内容为工业应用中通过脉冲偏压调整优化膜层综合性能提供参考。 展开更多
关键词 脉冲偏压 磁过滤 四面体非晶碳 sp^3键 硬度
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激光引弧磁过滤真空阴极电弧制备ta-C薄膜的结构与性能 被引量:2
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作者 郑宇 周晖 +4 位作者 张凯锋 冯兴国 张延帅 汪科良 郑玉刚 《真空与低温》 2020年第5期424-430,共7页
采用自主研制的激光引弧磁过滤真空阴极电弧沉积设备在不同工件台转速下制备了四面体非晶碳膜,通过改变工件台转速调节沉积速率,探讨了沉积速率对四面体非晶碳膜结构与性能的影响。结果表明,随着沉积速率的增加,四面体非晶碳膜硬度及弹... 采用自主研制的激光引弧磁过滤真空阴极电弧沉积设备在不同工件台转速下制备了四面体非晶碳膜,通过改变工件台转速调节沉积速率,探讨了沉积速率对四面体非晶碳膜结构与性能的影响。结果表明,随着沉积速率的增加,四面体非晶碳膜硬度及弹性模量随sp3键含量变化先增加后减小,最大值分别为48 GPa和300 GPa。薄膜的摩擦因数受沉积速率影响不大,均在0.14左右。薄膜的磨损率随着沉积速率的增加逐渐降低,最小为6×10-16 m3(/N·m)。研究发现在一定范围内调节沉积速率可以有效地提高四面体非晶碳膜的力学性能及耐磨性能。 展开更多
关键词 四面体非晶碳膜 激光引弧 磁过滤真空阴极电弧沉积 沉积速率
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新型Ta-C涂层铣刀切削性能研究 被引量:5
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作者 张而耕 黄彪 +1 位作者 何澄 周琼 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期125-130,共6页
目的研究Ta-C涂层刀具与普通类金刚石涂层刀具切削2A50铝合金时的性能对比。方法通过实验比较两刃、四刃Ta-C涂层铣刀和两刃、四刃普通类金刚石涂层铣刀,在干式切削条件下切削2A50铝合金的性能。通过相同切削条件下刀具切削距离的长短,... 目的研究Ta-C涂层刀具与普通类金刚石涂层刀具切削2A50铝合金时的性能对比。方法通过实验比较两刃、四刃Ta-C涂层铣刀和两刃、四刃普通类金刚石涂层铣刀,在干式切削条件下切削2A50铝合金的性能。通过相同切削条件下刀具切削距离的长短,比较刀具的使用寿命,并在显微镜下观察切屑的表面形貌,用表面粗糙度仪检测铝合金表面的粗糙度。结果两刃Ta-C涂层铣刀干式切削铝合金时的使用寿命最长,切削距离为116 m。Ta-C涂层铣刀与普通类金刚石涂层铣刀加工工件的表面粗糙度总体呈上升趋势,两刃Ta-C涂层铣刀加工出来的工件表面质量较好,工件表面粗糙度均值为0.692μm。结论相同刀刃数量且结合力良好的涂层铣刀相比较,Ta-C涂层铣刀较普通类金刚石涂层铣刀加工出来的工件表面粗糙度平均值低,同种涂层加工得到的切屑表面微观形貌无明显差别。Ta-C涂层铣刀与普通类金刚石涂层铣刀切削铝合金时,抑制粘刀效果都十分明显,但Ta-C涂层铣刀效果更优。 展开更多
关键词 ta-c涂层 类金刚石涂层 铝合金 切屑 表面粗糙度
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不同厚度四面体非晶碳薄膜的拉曼表征和内应力 被引量:4
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作者 朱嘉琦 韩杰才 +1 位作者 高巍 孟松鹤 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期59-63,共5页
为了探讨膜厚对四面体非晶碳薄膜拉曼结构表征和内应力的影响规律,进而确定应力与拉曼光谱之间的关系,采用过滤阴极真空电弧技术以相同的工艺条件在P(100)单晶抛光硅衬底上制备了从3nm^350nm不同厚度的四面体非晶碳薄膜。利用表面轮廓... 为了探讨膜厚对四面体非晶碳薄膜拉曼结构表征和内应力的影响规律,进而确定应力与拉曼光谱之间的关系,采用过滤阴极真空电弧技术以相同的工艺条件在P(100)单晶抛光硅衬底上制备了从3nm^350nm不同厚度的四面体非晶碳薄膜。利用表面轮廓仪和原子力显微镜测试膜厚,表面轮廓仪确定曲率半径并计算薄膜应力,共聚焦拉曼光谱表征薄膜的结构细节。实验发现,随着膜厚的增加,四面体非晶碳薄膜的应力持续下降,当膜厚超过30nm时,应力的下降趋势变得平缓,并保持在小于5GPa的较低水平。随着膜厚的增加,可见光拉曼光谱中衬底硅的一阶和二阶谱峰强度逐渐降低,在50nm^80nm膜厚范围,半高宽最窄,峰强最高,能够最有效地获得拉曼结构信息。随着膜厚的增加和应力的下降,非晶碳一阶谱峰的峰位表现为逐渐向低频偏移。 展开更多
关键词 四面体非晶碳 过滤阴极真空电弧 拉曼光谱 应力
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磁过滤阴极电弧技术沉积高sp^3键含量四面体非晶碳薄膜的工艺优化研究 被引量:5
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作者 韩亮 张涛 刘德连 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期203-207,共5页
通过对不同基片偏压下磁过滤器电流对四面体非晶碳(ta-C)薄膜sp3键含量影响的研究,探讨了磁过滤阴极电弧技术制备高sp3键ta-C薄膜优化工艺条件。在不同的基片偏压下,薄膜沉积率随着磁过滤器电流增大而增大。当基片偏压为200 V时,磁过滤... 通过对不同基片偏压下磁过滤器电流对四面体非晶碳(ta-C)薄膜sp3键含量影响的研究,探讨了磁过滤阴极电弧技术制备高sp3键ta-C薄膜优化工艺条件。在不同的基片偏压下,薄膜沉积率随着磁过滤器电流增大而增大。当基片偏压为200 V时,磁过滤器电流从5A增大至13 A,ID/IG从0.18增加到0.39;当基片偏压500V时,ID/IG从1.3增加到2.0;证明随着磁过滤器电流的增大,薄膜中的sp3键含量在减少,sp2键及sp2团簇在逐渐增加。研究表明除了基片偏压,ta-C薄膜sp3键含量与制备工艺中磁过滤电流也具有及其密切的关联.因此,基片偏压与磁过滤器电流是ta-C薄膜制备中需要优化的工艺条件。优化和选择合适的基片偏压与磁过滤器电流对ta-C薄膜的大规模工业化生产应用具有极其重要的意义。 展开更多
关键词 四面体非晶碳 拉曼光谱 sp3键 基片偏压 磁过滤器电流
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掺磷四面体非晶碳薄膜电极的电化学伏安特性 被引量:3
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作者 刘爱萍 朱嘉琦 +2 位作者 韩杰才 韩潇 吴化平 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1056-1060,共5页
采用过滤阴极真空电弧技术,以高纯磷烷气体为掺杂源制备掺磷四面体非晶碳(ta-C:P)薄膜.利用X射线光电子能谱和激光拉曼光谱表征薄膜的成分和结构,采用循环伏安和微分脉冲伏安分析薄膜的电化学行为.结果表明,磷的掺入没有引起薄膜非晶结... 采用过滤阴极真空电弧技术,以高纯磷烷气体为掺杂源制备掺磷四面体非晶碳(ta-C:P)薄膜.利用X射线光电子能谱和激光拉曼光谱表征薄膜的成分和结构,采用循环伏安和微分脉冲伏安分析薄膜的电化学行为.结果表明,磷的掺入没有引起薄膜非晶结构的明显变化,只是促进了sp^2杂化碳原子的团簇.经过酸预处理的ta-C:P薄膜在硫酸溶液中有宽的电势窗口和低的背景电流;对Cl^-有催化活性;薄膜表面电子传输速度快;对水溶液中Cu^(2+)和Cd^(2+)有检测活性.因此具有良好导电性的ta-C:P薄膜适于作为电极并有望用于污水中重金属离子的分析检测等领域. 展开更多
关键词 过滤阴极真空电弧 掺磷四面体非晶碳 电极 伏安行为
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纳米金增强掺磷四面体非晶碳膜的电化学活性 被引量:3
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作者 刘爱萍 朱嘉琦 韩杰才 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期363-369,共7页
采用电沉积法在过滤阴极真空电弧技术合成的掺磷四面体非晶碳(ta-C∶P)薄膜表面沉积纳米金团簇,制备纳米金修饰的掺磷非晶碳(Au/ta-C∶P)薄膜电极。利用X射线光电子能谱、拉曼光谱、扫描电子显微镜和电化学伏安法表征ta-C∶P和Au/ta-C∶... 采用电沉积法在过滤阴极真空电弧技术合成的掺磷四面体非晶碳(ta-C∶P)薄膜表面沉积纳米金团簇,制备纳米金修饰的掺磷非晶碳(Au/ta-C∶P)薄膜电极。利用X射线光电子能谱、拉曼光谱、扫描电子显微镜和电化学伏安法表征ta-C∶P和Au/ta-C∶P的微观结构、表面形貌和电化学行为。结果表明,-80V的脉冲偏压更利于磷原子进入碳的网络,并明显增加薄膜的电导率和电化学活性。纳米金团簇可增加ta-C∶P电极的有效面积,提高对铁氰化钾氧化还原反应的活性和电极可逆性,增强对多巴胺的催化活性。研究结果揭示ta-C∶P和Au/ta-C∶P薄膜在电分析及生物传感器方面的潜在应用。 展开更多
关键词 掺磷四面体非晶碳电极 纳米金团簇 过滤阴极真空电弧 电化学活性 巴多胺 生物传感器
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四配位非晶碳薄膜的研究进展 被引量:2
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作者 魏爱香 周友国 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 2000年第4期75-79,共5页
四配位非晶碳薄膜是近年来发展的一种新型宽带隙半导体材料 ,具有独特的物理和化学特性。本文对四配位非晶碳薄膜的研究意义 ,制备方法 ,形成机理 ,结构和性能表征及应用前景作较全面的介绍。
关键词 四配位非晶碳薄膜 制备方法 形成机理 结构 性能
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以四面体非晶碳为布拉格反射栅高声阻抗材料的固贴式薄膜体声波谐振器性能仿真分析 被引量:1
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作者 陆晓欣 朱嘉琦 +4 位作者 王赛 刘罡 刘远鹏 袁欣薇 霍施宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第14期1872-1875,共4页
为了提高固贴式薄膜体声波谐振器(SMR)的电学和声学品质,实现四面体非晶碳(ta-C)在体声波器件领域的新应用,建立了以ta-C为布拉格反射栅高声阻抗材料的SMR模型,利用MathCAD仿真研究布拉格反射栅层数对该SMR的谐振特性的影响以及ta-C中sp... 为了提高固贴式薄膜体声波谐振器(SMR)的电学和声学品质,实现四面体非晶碳(ta-C)在体声波器件领域的新应用,建立了以ta-C为布拉格反射栅高声阻抗材料的SMR模型,利用MathCAD仿真研究布拉格反射栅层数对该SMR的谐振特性的影响以及ta-C中sp3杂化含量和高/低声阻抗层厚度偏差对SMR的品质因子(Q值)的影响。结果表明层数的增加提高了SMR的品质;ta-C薄膜sp3杂化含量越高,达到饱和Q值所需层数越少,当含量为80%时,至少需要6层(3对)布拉格反射层使SMR达到优异Q值;距离压电堆越近的高/低声阻抗层,其厚度偏差对Q值的影响越大,从而实现了高频率(8GHz)低损耗的SMR的设计。 展开更多
关键词 固贴式薄膜体声波谐振器 四面体非晶碳 布拉格反射栅 品质因子
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脉冲磁过滤阴极弧等离子体制备四面体非晶碳膜 被引量:1
17
作者 张成武 李国卿 +1 位作者 柳翠 关秉羽 《真空》 CAS 北大核心 2004年第4期114-116,共3页
介绍了脉冲磁过滤阴极电弧法制备四面体非晶碳膜 (tetrahedral am orphous carbon即 ta- C) ,并对制得的薄膜表面形貌、硬度、电阻等进行了测试。结果表明 ,脉冲磁过滤阴极电弧法制备的 ta- C膜有优良的性能。拉曼光谱分析显示 ,制得的... 介绍了脉冲磁过滤阴极电弧法制备四面体非晶碳膜 (tetrahedral am orphous carbon即 ta- C) ,并对制得的薄膜表面形貌、硬度、电阻等进行了测试。结果表明 ,脉冲磁过滤阴极电弧法制备的 ta- C膜有优良的性能。拉曼光谱分析显示 ,制得的薄膜为非晶结构 ,有明显的 sp3结构特征 ,符合 ta- 展开更多
关键词 脉冲磁过滤阴极电弧法 四面体非晶碳膜 ta-c 拉曼光谱 偏压 类金刚石膜
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四面体非晶碳膜在牙科钴铬合金表面的制备及表征 被引量:1
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作者 陈钢 王忠义 张少锋 《口腔医学研究》 CAS CSCD 2014年第2期122-125,共4页
目的:在牙科钴铬合金表面制备四面体非晶碳膜,并对薄膜质量进行表征评价。方法:制备直径12mm、厚2mm的牙科钴铬合金试件,采用阴极真空等离子电弧镀系统在试件表面制备四面体非晶碳薄膜,随后表征分析镀膜的表面形貌、元素成分、化学键组... 目的:在牙科钴铬合金表面制备四面体非晶碳膜,并对薄膜质量进行表征评价。方法:制备直径12mm、厚2mm的牙科钴铬合金试件,采用阴极真空等离子电弧镀系统在试件表面制备四面体非晶碳薄膜,随后表征分析镀膜的表面形貌、元素成分、化学键组成。结果:钴铬合金试件镀膜的表面形貌和拉曼光谱曲线特征与四面体非晶碳膜一致,该薄膜由sp3键和sp2键碳原子组成,sp3键含量高于70%。结论:本实验的镀膜质量完全达到四面体非晶碳膜定义的制备标准。 展开更多
关键词 四面体非晶碳膜 钴铬合金 表面处理 表征
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掺硼四面体非晶碳膜的微观结构及光谱表征
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作者 张化宇 檀满林 +2 位作者 韩杰才 朱嘉琦 贾泽纯 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期180-184,共5页
分别采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同含硼量四面体非晶碳(ta-C:B)膜,并用X射线光电子能谱(XPS)、Raman光谱对薄膜的微观结构和化学键态进行了研究.XPS分析表明薄膜中B主要以石墨结构形式存在,随着B含量的增加,sp^3杂化碳的含量逐渐... 分别采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同含硼量四面体非晶碳(ta-C:B)膜,并用X射线光电子能谱(XPS)、Raman光谱对薄膜的微观结构和化学键态进行了研究.XPS分析表明薄膜中B主要以石墨结构形式存在,随着B含量的增加,sp^3杂化碳的含量逐渐减小,Ta-C:B膜的Raman谱线在含硼量较高时,其D峰和G峰向低频区偏移,且G峰的半峰宽变窄,表明B的引入促进了sp^2杂化碳的团簇化,减小了原子价键之间的变形,从而降低了薄膜的内应力. 展开更多
关键词 四面体非晶碳(ta-c) XPS RAMAN光谱
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X光电子谱辅助Raman光谱表征N含量对非晶金刚石薄膜的结构影响 被引量:3
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作者 陈旺寿 朱嘉琦 +2 位作者 韩杰才 田桂 檀满林 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期268-272,共5页
用过滤阴极真空电弧沉积系统制备掺N非晶金刚石(ta-C∶N)薄膜,通过在阴极电弧区和沉积室同时通入N2气实现非晶金刚石薄膜的N原子掺杂,并通过控制N2气流速制备不同N原子含量的ta-C∶N薄膜。用X射线光电子能谱(XPS)和Raman光谱分析N含量对... 用过滤阴极真空电弧沉积系统制备掺N非晶金刚石(ta-C∶N)薄膜,通过在阴极电弧区和沉积室同时通入N2气实现非晶金刚石薄膜的N原子掺杂,并通过控制N2气流速制备不同N原子含量的ta-C∶N薄膜。用X射线光电子能谱(XPS)和Raman光谱分析N含量对ta-C∶N薄膜微观结构的影响。XPS分析结果显示:当N2气流速从2 cm3.min-1增加到20 cm3.min-1时,薄膜中N原子含量从0.84 at.%增加到5.37 at.%,同时随薄膜中N原子含量的增加,XPS C(1s)芯能谱峰位呈现单调增加的趋势,XPS C(1s)芯能谱的半高峰宽也随着N含量的增加而逐渐变宽。在Raman光谱中,随N原子含量增加,G峰的位置从1 561.61 cm-1升高到1 578.81 cm-1。XPS C(1s)芯能谱和Raman光谱分析结果表明:随N含量的增加,XPS C(1s)芯能谱中sp2/sp3值和Raman光谱中ID/IG值均呈上升的趋势,两种结果都说明了随N原子含量增加,薄膜中sp2含量也增加,薄膜结构表现出石墨化倾向。 展开更多
关键词 ta-c∶N薄膜 过滤阴极真空电弧沉积(FCVA) XPS RAMAN光谱
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