高抗冲薄壁注塑聚丙烯专用料的工业生产

采用新型工艺技术方法生产高抗冲薄壁注塑聚丙烯专用料K1870-E,在保证原有薄壁注塑聚丙烯专用料高流动性、高刚性的基础上,加入微量乙烯从根本上改变聚丙烯高分子链结构,使其透光性得到有效提升,同时乙烯丙烯共聚而成的橡胶相结构可有效提升产品的冲击性能,此外加入专用成核剂产品透明度及韧性可进一步提高,使产品兼具刚韧平衡性。同时在原有单一改性剂二异丁基二甲氧基硅的基础上,引入氢调性能更优的另一种改性剂四乙氧基硅烷共同作为外给电子体,通过调配不同进料比例在不影响产品等规度的前提下降低聚合反应釜中氢气组分含量,达到彻底解决使用单一改性剂时氢气含量高导致聚合反应釜压力无法控制的技术瓶颈,最终实现高抗冲薄壁注塑聚丙烯树脂的长周期连续化工业生产。高抗冲薄壁注塑聚丙烯专用料K1870-E熔融指数为70g/10min,产品乙烯含量为0.5%(质量分数),简支梁缺口冲击强度(23℃)达2.5kJ/m^(2),雾度达48%。

环境二号卫星多光谱图像的薄云检测及去除

在遥感图像中,大面积的薄云会使得地物信息被遮蔽,从而对后续图像的判读以及应用产生极大的影响。为消除卫星图像中薄云对下垫面的影响,开发了针对多光谱图像的薄云检测与去除算法。该算法首先利用蓝绿波段合成外推波段,通过暗像元搜索,生成薄云厚度图(HTM)和薄云掩膜图,进而得到无云区像元与云区像元;再计算图像每个波段的HTM,利用外推波段的HTM与每个波段的HTM求得每个波段的线性回归系数,由该系数对图像进行薄云去除。将该方法应用于环境减灾二号(HJ-2A/B)卫星的多光谱图像,研究结果表明,对不同地表类型,薄云去除后图像质量均得到明显的提升,能够清晰地展现出薄云下覆盖的地物信息,并且不影响无云区域的图像质量。利用该算法进行薄云去除后,卫星多光谱图像的清晰度、对比度和标准差都有显著的提升,为后续图像应用提供了质量保障。

基于Landsat影像自身特征的薄云自动探测与去除

为有效地去除Landsat云的影响,恢复云区地物信息,基于单景Landsat影像的自身特征,通过利用影像中无云区地物的band1和band3高度相关特性确定晴空线,使用修改的最优化薄云变换算法计算受云影响的像元相对于晴空线的偏离距离(HOT),依据HOT的大小实现云的自动探测.对HOT图像进行阈值分割,将云从薄到厚进行分级;然后利用近红外和短波红外波段对云区和非云区的地物进行自动聚类,并根据云的等级和地物类型将云区可见光影像和对应地物的无云区影像进行匹配,实现薄云的去除.试验结果表明,云的探测快速准确,薄云的去除效果较好.

改善沉积氮化硅薄膜对FFS-TFT透明电极ITO影响的研究

研究了在FFS-TFT制作工艺中,沉积非晶氮化硅薄膜对透明金属ITO的影响。结果表明沉积氮化硅薄膜的硅烷流量对ITO的透过率有着很大影响,降低硅烷的流量可以阻止薄雾状姆拉的产生。通过优化氮化硅薄膜沉积条件,先在透明导电金属ITO薄膜上面使用低流量硅烷沉积一薄层氮化硅作为缓冲层,然后使用高流量的硅烷在其上再沉积氮化硅薄膜,这样不仅解决了薄雾状姆拉,同时还以提高氮化硅的沉积速率,满足生产需求。

表面具有微纳结构的AZO薄膜制备及性能研究

采用磁控溅射法及线棒刮涂法在玻璃衬底上室温生长微纳结构铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜,使底层AZO薄膜工作压强从1.5Pa调整到0.1Pa。通过扫描电子显微镜(SEM)、X线衍射(XRD)仪、霍尔效应测试系统、分光光度计及光电雾度仪研究了AZO薄膜的表面形貌、晶体结构、电学性能和光学性能。研究结果表明,降低底层AZO薄膜工作压强对微纳结构AZO薄膜光电性能有显著的影响。底层AZO薄膜工作压强0.2Pa时,薄膜表现最低电阻率为6.17×10-4Ω·cm,可见光波段平均光学透光率为82.3%。随着底层AZO薄膜工作压强的降低,薄膜表面形貌、生长形态和晶粒大小发生较大变化,并得到具有陷光作用、优良光电性能的微纳结构AZO薄膜。

薄膜晶体管透明电极铟锡氧化物雾状不良的分析研究

对FFS-TFT制作工艺中,与氮化硅膜层接触的透明电极ITO发生的雾状不良进行分析研究。通过扫描电子显微镜、宏观/微观显微镜和背光源测试设备对样品进行分析。结果显示接触层的等离子体界面处理对ITO的透过率和膜质特性有较大影响,可导致严重的雾状不良发生和刻蚀工艺中的膜层下端过度刻蚀的问题。通过在透明电极ITO上面沉积微薄的过渡缓冲膜层,并优化界面等离子体处理条件,可以改善雾状不良。

飞秒激光制作薄角膜瓣和角膜上皮下混浊发生、裸眼视力相关性

目的探讨飞秒激光制作薄角膜瓣和角膜上皮下混浊发生、裸眼视力相关性。方法随机选取2013年3月至2016年3月我科屈光门诊的患者178例,依据薄角膜瓣制作方法将这些患者分为两组,即飞秒激光组(n=89)和机械角膜刀组(n=89),对两组患者的角膜上皮下混浊发生、裸眼视力进行统计分析。结果飞秒激光组患者术后角膜上皮下混浊发生率10.1%(9/89)显著低于机械角膜刀组19.1%(17/89)(P<0.05),术后角膜上皮下混浊发生在术后2周比例显著低于机械角膜刀组(P<0.05),发生在术后1个月比例显著高于机械角膜刀组(P<0.05),平均直径显著短于机械角膜刀组(P<0.05),术后1 d、2周、1个月、3个月、6个月的裸眼视力均显著高于机械角膜刀组(P<0.05)。结论飞秒激光制作薄角膜瓣和角膜上皮下混浊发生、裸眼视力密切相关。

直流射频耦合制备微纳结构AZO薄膜及其性能研究

采用直流射频耦合磁控溅射法结合线棒刮涂法在玻璃衬底上室温生长微纳结构铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜,底层AZO薄膜射频功率占比从50%调整到90%。通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、霍尔效应测试系统、紫外可见分光光度计、光电雾度仪重点研究了AZO薄膜的表面形貌、晶体结构、电学性能和光学性能。研究结果表明,提高底层AZO薄膜射频功率占比对微纳结构AZO薄膜光电性能有显著的影响,底层AZO薄膜射频功率占比80%时薄膜表现最低电阻率5.32×10^(-4)Ω·cm,可见光波段平均光学雾度36.3%。随着底层AZO薄膜射频功率占比的增加,薄膜表面形貌、生长形态和结晶性能发生较大变化,并得到具有陷光作用且光电性能优良的微纳结构AZO薄膜。

不同复合助剂对聚丙烯薄壁注塑料性能的影响

为提高聚丙烯薄壁注塑料的加工性能,对不同复合助剂在聚丙烯薄壁注塑料中的应用进行了实验。分别采用DSC3500型差示扫描量热仪、CM-5型测色计、GT-7200-MIA型熔体流动速率测定仪等设备对不同复合助剂应用配方的结晶温度、结晶度、黄变指数、熔体流动速率、力学性能、雾度等指标进行表征。结果表明:含抗氧剂626和水滑石的复合助剂配方多次加工稳定性优异;含成核剂C的复合助剂配方结晶温度最高,可达到127.41℃;水滑石与成核剂有一定协同,可促进聚丙烯结晶,提高相应力学性能。

ZnO基透明导电膜研究热点与发展趋势分析

在简要论述Zn O基透明导电膜发展现状基础上,重点讨论近年来Zn O薄膜的最新研究热点,包括在提高迁移率和载流子浓度、功函数、光学特性及表面形貌调控、湿热稳定性、柔性导电膜及超薄高性能薄膜制备等方面的最新研究动态.同时,分析了透明导电薄膜技术的应用及发展趋势,为实现Zn O基透明导电薄膜在薄膜太阳能电池、平板显示器等领域的实际应用提供理论依据与实验参考.

IWO缓冲层对MOCVD-ZnO：B薄膜性能的影响研究

金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术生长的绒面ZnO透明导电(ZnO-TCO)薄膜应用于Si基薄膜太阳电池上能够形成"陷光结构",以提高薄膜太阳电池效率和稳定性。本文将电子束反应蒸发技术生长的掺W的In2O3(In2O3:W,(IWO)薄膜作为缓冲层,应用于MOCVD-ZnO:B薄膜与玻璃之间,可促进ZnO:B薄膜的生长,并且有效提升薄膜的光散射特性。当IWO缓冲层厚度为20nm时,获得的IWO/ZnO:B薄膜的电阻率为2.07×10-3Ω.cm,迁移率为20.9cm2.V-1.s-1,载流子浓度为1.44×1020 cm-3;同时,薄膜具有的透过率大于85%,且在550nm处绒度较ZnO:B薄膜提高了约9.5%,在800nm处绒度较ZnO:B薄膜提高了约4.5%。

准分子激光双面式原位与上皮瓣下角膜磨镶术治疗高度近视评价

目的比较准分子激光双面式切削原位角膜磨镶术（Both-sideLasik，BSL）和准分子激光角膜上皮瓣下磨镶术（LASEK）治疗薄角膜高度近视的临床效果，两种手术方法的优缺点。方法应用BSL和LASEK治疗近视度数〉-8．00D，角膜厚度471～546μm的患者。BSL组45例51只眼，近视球镜度数为-8．25-13．25D，平均-9．71D。LASEK组39例67只眼，近视球镜度数-8．25—12．75D，平均-9．26D。分别于术后10d、1、3、6、12个月检查裸眼视力，矫正视力，屈光度和角膜雾样混浊（Haze）等，并进行比较。结果BSL组术后反应轻，裸眼视力恢复快，术后10d、1、3、6、12个月裸眼视力达到术前最佳矫正视力的比例，BSL组分别为为72．55％、80.39％、84．31％1．31％、78A3％和68．63％，LASEK组分别为47．76％、65．67％、71．64％、70．15％和61．19%，未出现矫正视力下降2行及以上者。两组屈光度均由手术早期的过矫逐渐转变为后期的欠矫，LASEK组发生Haze的比例明显高于BSL组，差异有统计学意义（P〈0．05），但多为0．5-1级Haze，术中、术后无严重并发症。结论准分子激光双面式切削原位角膜磨镶术治疗薄角膜高度近视安全、有效，与LASEK相比，其角膜雾样混浊发生率更低，且程度轻，视力恢复更快。

PIN型和NIP型硅薄膜太阳电池中绒面陷光结构和陷光性能研究

对于硅薄膜太阳电池来说,无论是PIN型还是NIP型太阳电池,采用绒面陷光结构来提高入射光的有效利用率是提高太阳电池效率的重要方法之一.本文采用标度相干理论对PIN和NIP型电池的绒面结构的陷光性能进行了数值模拟.结果表明:PIN电池中前电极和NIP电池中背电极衬底粗糙度分别为160和40nm时可获得理想的陷光效果;在不同粗糙度背电极衬底上制备a-SiGe:H电池发现,使用40和61.5nm背电极可获得相当的短路电流密度,理论分析和实验得到了一致的结果.