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Tin oxide(SnO_2) as effective electron selective layer material in hybrid organic–inorganic metal halide perovskite solar cells 被引量:2
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作者 Guang Yang Pingli Qin +1 位作者 Guojia Fang Gang Li 《Journal of Energy Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第4期962-970,共9页
The emergence of hybrid organic-inorganic metal halide perovskite solar cells (PSCs) causes a break through in the solar technology recently due to its fabrication processes. The dramatic enhancenlent in in 2009 to ... The emergence of hybrid organic-inorganic metal halide perovskite solar cells (PSCs) causes a break through in the solar technology recently due to its fabrication processes. The dramatic enhancenlent in in 2009 to the recent certified record PCE of 22.7% superior optoelectronic properties and the low-cost power conversion efficiency (PCE) of PSCs flom 3.8% ndicates huge potential of PSCs for future high efficiency and large scale photovoltaic manufacturing. The electron selective layer (ESL) plays an important role in electron extraction and hole blocking function in PSCs, and there have been great interest in developing efficient ESL materials. Recently, tin oxide (SnO2) as an ESL has attracted significant research attentions owing to its low temperature preparation processes as well as yielding high PCE and good stability of PSCs. In this perspective article, we focus on the development progress of SnO2 as an ESL m PSCs, and discuss the strategies for preparing SnO2 to achieve PSCs with high efficiency, less hysteresis and good device stability. 展开更多
关键词 tin oxide Electron selective layers Perovskite solar cells Low temperature preparation
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Study on influences of TiN capping layer on time-dependent dielectric breakdown characteristic of ultra-thin EOT high-k metal gate NMOSFET with kMC TDDB simulations
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作者 徐昊 杨红 +11 位作者 罗维春 徐烨峰 王艳蓉 唐波 王文武 祁路伟 李俊峰 闫江 朱慧珑 赵超 陈大鹏 叶甜春 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第8期347-351,共5页
The thickness effect of the TiN capping layer on the time dependent dielectric breakdown(TDDB) characteristic of ultra-thin EOT high-k metal gate NMOSFET is investigated in this paper.Based on experimental results,i... The thickness effect of the TiN capping layer on the time dependent dielectric breakdown(TDDB) characteristic of ultra-thin EOT high-k metal gate NMOSFET is investigated in this paper.Based on experimental results,it is found that the device with a thicker TiN layer has a more promising reliability characteristic than that with a thinner TiN layer.From the charge pumping measurement and secondary ion mass spectroscopy(SIMS) analysis,it is indicated that the sample with the thicker TiN layer introduces more Cl passivation at the IL/Si interface and exhibits a lower interface trap density.In addition,the influences of interface and bulk trap density ratio Nit/Not are studied by TDDB simulations through combining percolation theory and the kinetic Monte Carlo(kMC) method.The lifetime reduction and Weibull slope lowering are explained by interface trap effects for TiN capping layers with different thicknesses. 展开更多
关键词 high-k metal gate tin capping layer TDDB interface trap density
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A Study of Multi-Permeating TiN/Ti Alloying Layer Using Plasma Surface Alloying Technology
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作者 刘燕萍 徐晋勇 +6 位作者 隗小云 王建忠 高原 徐重 张广秋 葛袁静 张跃飞 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第2期213-216,共4页
TiN/Ti multi-permeating alloying layer has been formed on the low carbon steel by means of the double glow-discharge plasma surface alloying technique and hollow-cathode effect. The alloying layer was detected by axio... TiN/Ti multi-permeating alloying layer has been formed on the low carbon steel by means of the double glow-discharge plasma surface alloying technique and hollow-cathode effect. The alloying layer was detected by axiovert 25 CA optical microscope with computer analyzing software (LEC), GDA-2 glow discharge spectroscopy (GDS), X-ray diffraction (XRD) and galvanochemical method. The results showed that the thickness of TiN/Ti multi-permeating alloying layer was about 10μm, the content of Ti on the surface was up to 63.48 wt% and the content of N was up to 12.46 wt%. The atom Ti and N concentrations changed gradually across the depth of the alloying layer and the preferred orientation of TiN/Ti alloying layer was crystal surface (200). The multi-permeating alloying layer and substrate were combined through metallurgy. The surface appearances of the multi-permeating alloying layer were uniform and of a compact cellular structure. The hardness of the surface was about 1600-3000 HV0.1. The corrosion resistance of the permeating TiN/Ti alloying layer in 0.5 mol/L H2SO4 solution was greatly increased and the corrosion rate was only 0.3082 g/m^2. h. 展开更多
关键词 plasma surface technology tin multi-layer double glow discharge process diffusion structure corrosion resistance
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Improving wear resistance of magnesium alloy AZ91D by TiN-CrN multilayer coating
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作者 缪强 崔彩娥 +1 位作者 潘俊德 张平则 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第A03期1802-1805,共4页
Applying a novel method of arc-glow plasma depositing, a 2μm-thick coating with 12 sub-layers of TiN and CrN was deposited alternately on the surface of magnesium alloy AZ91D to improve its wear resistance. The wear ... Applying a novel method of arc-glow plasma depositing, a 2μm-thick coating with 12 sub-layers of TiN and CrN was deposited alternately on the surface of magnesium alloy AZ91D to improve its wear resistance. The wear behavior was investigated by test of ball on disc sliding. The composition and microstructure of the coating were also analyzed by means of X-ray diffraction (XRD) and glow discharge spectrum (GDS), and the morphology of TiN-CrN film was surveyed through scanning electronic microscopy (SEM) and atom force microscopy (AFM).The adhesion strength between film and matrix was evaluated by ways of stick-peeling test. The surface micro-hardness of the coating is above HK0.011 433, and the specific wear ratio of specimens coated with TiN-CrN films tested decreases greatly compared to that of the bare metal. 展开更多
关键词 镁合金 等离子体 涂层 有色金属 强度
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In Situ Synthesis of Titanium Nickel Intermetallic Compounds Layer and TiN Coating By Laser Cladding
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作者 ZHANG Cui-hong YANG Yong-qiang XU Wei-hong 《光机电信息》 2006年第5期33-39,共7页
Laser cladding,together with laser nitriding was used to synthesize a titanium nickel intermetallic compound layer on the nickel substrate and a TiN coating on the cladding layer. During the laser cladding, Ti and Ni ... Laser cladding,together with laser nitriding was used to synthesize a titanium nickel intermetallic compound layer on the nickel substrate and a TiN coating on the cladding layer. During the laser cladding, Ti and Ni powders were blown into the melting pool by a six-hole coaxial nozzle powder injection system. Exothermic reactions between Ti and Ni took place in the melting pool, and a cladding layer of titanium nickel intermetallic compounds was produced. Laser nitriding in a nitrogen-rich atmosphere followed the production of the cladding layer, and formed a golden yellow TiN layer over it. An optical and a scanning electron microscope were used to investigate the microstructures and measure the thicknesses of the cladding layer and the TiN layer. Phase identification was carried out by XRD. For the nitriding sample, the microhardness profile of the clad layer was tested. The optimal process parameters of the in situ synthesis of titanium nickel intermetallic compounds were obtained. 展开更多
关键词 钛镍金属间化合物 氮化碳涂层 激光覆层 激光渗氮 激光技术
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Preparation process and friction-abrasion property of TiN/TiB_2 multi-permeation layer
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作者 隗晓云 王建忠 +3 位作者 刘燕萍 徐晋勇 高原 徐重 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2005年第S3期411-414,共4页
A new technique was introduced that TiN permeation layer composed of diffusion and deposition layer was synthesized on the surface of Q235 steel using plasma point discharge and hollow cathode effect, and then TiB2 fi... A new technique was introduced that TiN permeation layer composed of diffusion and deposition layer was synthesized on the surface of Q235 steel using plasma point discharge and hollow cathode effect, and then TiB2 film was deposited (PVD) on newly-formed surface to create TiN/TiB2 multi-permeation layer. The thickness of this multi-permeation layer is above 10μm and the composition and hardness have graded distribution. It has metallurgical bonding with substrate and the bonding strength is high without any spallation phenomenon. In addition comparative research, between TiN/TiB2 multi-permeation layer and TiB2 film which is directly deposited (PVD) on Q235 steel substrate, on surface appearance, microhardness and friction-abrasion property was carried out. The results show that both of surface consist of uniform, compact and fine cellular structure. Surface microhardness of TiN/TiB2 multi-permeation layer is higher, reaching HV2600; but its average friction coefficient is lower, abrasion crack is shallower and wear resistance is better. 展开更多
关键词 tin/TiB2 point discharge hollow cathode effect multi-permeation layer friction-abrasion
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脉冲电沉积纳米Ni-TiN复合镀层 被引量:10
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作者 夏法锋 贾振元 +1 位作者 吴蒙华 李智 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期779-781,共3页
为了改善基体的耐磨性能,采用脉冲电沉积法,在不锈钢基体上制备纳米Ni-TiN复合镀层.研究了TiN粒子浓度、电流密度及搅拌速度等对复合镀层磨损量的影响.利用高分辨电子显微镜对复合镀层进行观察,并进行腐蚀试验测试.结果表明:纳米Ni-TiN... 为了改善基体的耐磨性能,采用脉冲电沉积法,在不锈钢基体上制备纳米Ni-TiN复合镀层.研究了TiN粒子浓度、电流密度及搅拌速度等对复合镀层磨损量的影响.利用高分辨电子显微镜对复合镀层进行观察,并进行腐蚀试验测试.结果表明:纳米Ni-TiN复合镀层的最佳工艺参数为TiN粒子的浓度4 g/L,电流密度4 A/dm2,搅拌速度2000 r/min.在纳米Ni-TiN镀层中,纳米TiN粒子的直径均不超过50 nm,镍晶粒得到细化;且该复合镀层具有优良的耐腐蚀性. 展开更多
关键词 Ni—tin 复合镀层 工艺参数 耐腐蚀性
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双辉渗镀TiN陶瓷层摩擦磨损性能的研究 被引量:3
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作者 刘燕萍 徐晋勇 +1 位作者 高原 徐重 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第16期1748-1751,共4页
采用一种新的制备TiN双层辉光渗金属技术,在钢铁材料表面直接复合而形成超硬耐磨TiN渗镀扩散陶瓷层。用Tapping AFM型原子力显微镜和LEC图像分析仪分析表面形貌;用GDS750型辉光放电光谱分析仪测定渗镀复合层试样成分;用Rigaku/max2500型... 采用一种新的制备TiN双层辉光渗金属技术,在钢铁材料表面直接复合而形成超硬耐磨TiN渗镀扩散陶瓷层。用Tapping AFM型原子力显微镜和LEC图像分析仪分析表面形貌;用GDS750型辉光放电光谱分析仪测定渗镀复合层试样成分;用Rigaku/max2500型X射线衍射仪(XRD)测定复合渗镀层的相结构;用WTM-1E可控气氛微型摩擦磨损试验仪对复合渗镀层的摩擦磨损性能进行研究。结果表明:这种制备TiN新工艺方法合成的渗镀TiN陶瓷层,其表面均匀致密,Ti和N原子由表层向内呈梯度分布,与一般表面沉积的TiN层不同,属于冶金扩散层结合;渗镀层厚度可达8μm以上,TiN层择优取向为(200)晶面;渗镀层硬度较高,达到HV0.12200,在干滑动摩擦磨损试验条件下具有较低的摩擦因数和优异的耐磨性能。 展开更多
关键词 辉光放电 tin 渗镀扩散 摩擦磨损性能
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钛合金表面电弧离子镀TiN/TiAlN多层复合涂层的组织及性能 被引量:7
9
作者 王宝云 李争显 +1 位作者 严鹏 杜继红 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期1407-1410,共4页
运用电弧离子镀技术,采用单独的钛、铝靶材,在TC4钛合金表面制备了TiN/TiAlN多层复合涂层,利用SEM、EDS对涂层微观组织进行了分析,并测试了涂层显微硬度和耐磨损性能。结果表明:多层复合涂层厚度约为2.5μm。经镀膜,试样表面粗糙度提高... 运用电弧离子镀技术,采用单独的钛、铝靶材,在TC4钛合金表面制备了TiN/TiAlN多层复合涂层,利用SEM、EDS对涂层微观组织进行了分析,并测试了涂层显微硬度和耐磨损性能。结果表明:多层复合涂层厚度约为2.5μm。经镀膜,试样表面粗糙度提高,Ra值为0.541μm。涂层表面Ti/Al原子比约为0.9。涂层表面显微硬度HV0.025为23.5GPa。由于涂层表面硬度高,且多层复合的微观结构使得涂层有优异的结合力与内聚力,使得复合涂层试样的磨损失重大大低于未处理的试样。 展开更多
关键词 钛合金 电弧离子镀 tin TIALN 复合涂层 磨损
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纳米TiN增强导卫板铸渗层的组织研究 被引量:9
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作者 谢敬佩 郭正 +2 位作者 邵星海 王文焱 李炎 《河南科技大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2012年第5期1-3,8,共4页
通过铸渗工艺在导卫板ZG35表面制备出纳米TiN高铬铸铁铸渗层,并借助扫描电镜、X射线衍射仪和透射电镜等方法研究了加入不同含量纳米TiN对铸渗层显微组织的影响。研究结果表明:铸渗层由奥氏体基体和(Cr,Fe)7C3碳化物组成,纳米TiN弥散分... 通过铸渗工艺在导卫板ZG35表面制备出纳米TiN高铬铸铁铸渗层,并借助扫描电镜、X射线衍射仪和透射电镜等方法研究了加入不同含量纳米TiN对铸渗层显微组织的影响。研究结果表明:铸渗层由奥氏体基体和(Cr,Fe)7C3碳化物组成,纳米TiN弥散分布于奥氏体基体中,能够细化组织并促进碳化物由紧凑的网状分布向不连续的网状分布转变。 展开更多
关键词 导卫板 铸渗层 纳米tin 微观组织
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TiN/Ti多层膜调制比对摩擦磨损行为影响的研究 被引量:12
11
作者 龚海飞 邵天敏 +1 位作者 张晨辉 徐军 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期758-762,共5页
考察了TiN/Ti多层膜调制比对其摩擦磨损行为的影响.采用磁过滤阴极弧沉积的方法制备了具有不同调制比的TiN/Ti多层膜,用扫描电镜和透射电镜对其层状结构及子层结构进行了观察和分析.用纳米压痕和SRV摩擦磨损试验的方法,对多层膜进行了... 考察了TiN/Ti多层膜调制比对其摩擦磨损行为的影响.采用磁过滤阴极弧沉积的方法制备了具有不同调制比的TiN/Ti多层膜,用扫描电镜和透射电镜对其层状结构及子层结构进行了观察和分析.用纳米压痕和SRV摩擦磨损试验的方法,对多层膜进行了纳米硬度和弹性模量测试以及摩擦磨损实验.结果表明,所制备的TiN/Ti多层膜层状结构清晰,与基底结合良好,调制比对多层膜的硬度和磨损特性影响较大,而对摩擦系数的影响却不明显.结合实验结果,讨论了硬度与弹性模量的比值(H/E值)对TiN/Ti多层膜耐磨性的影响. 展开更多
关键词 tin/TI 多层膜 层状结构 摩擦磨损
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双层辉光等离子渗金属技术制备TiN渗层及其耐NaOH溶液腐蚀性能 被引量:3
12
作者 王成磊 高原 卜根涛 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期74-77,共4页
采用双层辉光等离子渗金属技术在Q235钢表面上制备了TiN渗层;对渗层的组织、硬度、成分和相结构及其耐NaOH溶液腐蚀性能进行了研究。结果表明:该渗层是由TiN颗粒均匀分布的扩散层及表面TiN沉积层组成的梯度结构;渗层表面形貌为胞状组织... 采用双层辉光等离子渗金属技术在Q235钢表面上制备了TiN渗层;对渗层的组织、硬度、成分和相结构及其耐NaOH溶液腐蚀性能进行了研究。结果表明:该渗层是由TiN颗粒均匀分布的扩散层及表面TiN沉积层组成的梯度结构;渗层表面形貌为胞状组织,颗粒致密均匀,表面为金黄色,渗层厚度可达16μm,与基体实现了冶金结合;渗层表面钛和氮原子比为1∶1,表面显微硬度达到了3 120 HV;渗层中TiN(111)衍射峰强度最大,具有明显的择优取向;渗层在4%的NaOH溶液中的耐腐蚀性能比Q235钢的提高了26.8倍,与1Cr18Ni9Ti不锈钢的相当。 展开更多
关键词 双层辉光等离子渗金属 tin渗层 耐腐蚀性能
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钛合金表面电弧离子镀TiN/TiAlN多层复合涂层的组织及抗氧化性能研究 被引量:8
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作者 王宝云 李争显 +2 位作者 严鹏 杜继红 姬寿长 《钛工业进展》 CAS 2008年第2期32-36,共5页
运用电弧离子镀技术,采用独立的钛、铝靶材,在钛合金表面制备了TiN/TiAlN多层复合涂层,利用SEM、EDS对涂层微观组织结构进行了分析,并在800℃条件下测试了涂层抗氧化性能。结果表明:多层复合涂层厚度约为2.5μm。经镀膜,试样表面粗糙度... 运用电弧离子镀技术,采用独立的钛、铝靶材,在钛合金表面制备了TiN/TiAlN多层复合涂层,利用SEM、EDS对涂层微观组织结构进行了分析,并在800℃条件下测试了涂层抗氧化性能。结果表明:多层复合涂层厚度约为2.5μm。经镀膜,试样表面粗糙度有升高的趋势,Ra值由初始0.049μm升高到0.541μm。涂层表面以TiAlN+TiN相为主,经氧化后,涂层最表层的氮化物已发生分解,并生成了Al,Ti的氧化物,在高温时阻碍了氧向涂层内部扩散,使得涂层内部仍具有TiN和TiAlN的相结构。复合涂层经800℃,19 h空气氧化后,涂层表面仍保持完整,氧化增重率低于无涂层样品。氧化19 h后涂层增重率约为0.2 mg/cm2.h。 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin TiAlN:复合涂层 抗氧化
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等离子辉光合成TiN渗镀层耐腐蚀性能的研究 被引量:1
14
作者 隗晓云 王建忠 +3 位作者 刘燕萍 徐晋勇 高原 徐重 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2005年第6期16-20,共5页
介绍了一种同时利用等离子尖端放电、空心阴极效应和反应气相沉积技术,在碳钢表面形成具有扩散层和沉积层的TiN渗镀层新工艺技术。将该TiN渗镀试样与1Cr18Ni9Ti不锈钢和Q235钢在1mol/LH2SO4溶液和3.5%NaCl溶液中,分别进行电化学腐蚀对... 介绍了一种同时利用等离子尖端放电、空心阴极效应和反应气相沉积技术,在碳钢表面形成具有扩散层和沉积层的TiN渗镀层新工艺技术。将该TiN渗镀试样与1Cr18Ni9Ti不锈钢和Q235钢在1mol/LH2SO4溶液和3.5%NaCl溶液中,分别进行电化学腐蚀对比试验。结果表明:TiN渗镀层在酸性溶液中的耐蚀性能比1Cr18Ni9Ti不锈钢和Q235钢分别提高了1.4和4.2倍。在盐水中的耐蚀性能比Q235钢提高了182.6倍,但比1Cr18Ni9Ti不锈钢耐蚀性能稍差。渗镀TiN层耐酸性溶液腐蚀性能优于耐盐水腐蚀性能。 展开更多
关键词 等离子 辉光放电 tin渗镀层 电化学 耐蚀性能
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20CrNiMo表面针状空心阴极辉光放电制备TiN研究 被引量:1
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作者 陈飞 赫单 +1 位作者 陈家庆 周海 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期49-51,55,共4页
在真空炉内以针状钛丝为溅射源极,以氩气和氮气为放电气体,利用辉光放电现象、尖端放电和空心阴极效应在20CrNiMo表面复合渗镀合成TiN改性层,目的是提高20CrNiMo表面的耐磨性能。利用扫描电子显微镜(SEM)观察了改性层的截面形貌;测量了... 在真空炉内以针状钛丝为溅射源极,以氩气和氮气为放电气体,利用辉光放电现象、尖端放电和空心阴极效应在20CrNiMo表面复合渗镀合成TiN改性层,目的是提高20CrNiMo表面的耐磨性能。利用扫描电子显微镜(SEM)观察了改性层的截面形貌;测量了改性层的显微硬度并用XRD观察分析了改性层的相结构;采用MFT–4000型高速往复磨损试验机对渗镀改性层的摩擦磨损性能进行了研究。结果表明:在试验工艺条件下20CrNiMo试样表面制备的TiN改性层厚度约为40μm。改性后表面摩擦因数为0.169,较20CrNiMo基体的摩擦因数0.324明显减小,耐磨性能提高。 展开更多
关键词 tin改性层 辉光放电 针状空心阴极 耐磨性
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TiC/Ti(C,N)/TiN复合涂层在滑移区的高温微动磨损特性 被引量:2
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作者 刘捍卫 邱绍宇 +3 位作者 周彤 黄鵾鹏 朱旻昊 周仲荣 《核动力工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期414-418,共5页
采用化学气相沉积(CVD)技术,在1Cr13不锈钢基体上制备TiC/Ti(C,N)/TiN复合涂层。研究了该涂层从室温(25℃)到400℃的微动磨损特性,并与无涂层的1Cr13不锈钢基材比较。结果表明:在滑移区,温度对1Cr13不锈钢微动磨损影响较显著;随着温度上... 采用化学气相沉积(CVD)技术,在1Cr13不锈钢基体上制备TiC/Ti(C,N)/TiN复合涂层。研究了该涂层从室温(25℃)到400℃的微动磨损特性,并与无涂层的1Cr13不锈钢基材比较。结果表明:在滑移区,温度对1Cr13不锈钢微动磨损影响较显著;随着温度上升1Cr13不锈钢摩擦系数减少,磨损体积下降;而温度对TiC/Ti(C,N)/TiN复合涂层磨损体积影响不大,且磨损量均很小。TiC/Ti(C,N)/TiN涂层表现出比1Cr13不锈钢优异的抗微动磨损性能。但当该涂层被磨去后,产生的硬质磨屑形成磨粒磨损,反而对基体造成更大的损伤。 展开更多
关键词 微动磨损 高温 滑移区 1Cr13不锈钢 TiC/Ti(C N)/tin复合涂层
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Q235表面辉光等离子渗镀TiN耐蚀性研究 被引量:1
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作者 刘燕萍 闫志琴 郝兴明 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期193-195,共3页
利用等离子辉光放电溅射技术,在碳钢表面复合渗镀形成TiN扩散层和沉积层。表面成分检测渗镀层呈梯度材料分布,表面钛原子和氮原子之比,符合TiN相结构。渗镀层总深度约有15μm,表层TiN约有4μm。渗镀层成分检测表明,与基体之间呈梯度分布... 利用等离子辉光放电溅射技术,在碳钢表面复合渗镀形成TiN扩散层和沉积层。表面成分检测渗镀层呈梯度材料分布,表面钛原子和氮原子之比,符合TiN相结构。渗镀层总深度约有15μm,表层TiN约有4μm。渗镀层成分检测表明,与基体之间呈梯度分布。X射线衍射结果表明,渗镀层表面为TiN,其中(200)晶面的衍射峰最强,具有明显的择优取向。TiN复合层在H2S溶液中的腐蚀行为表明:辉光合成的TiN涂层可以提高材料在富液溶液中的耐蚀性能,与PVD沉积TiN试样和基体低碳钢试样相比耐蚀性分别提高了5.76,49.76倍。 展开更多
关键词 等离子辉光放电 tin 扩散层 耐蚀性
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钙钛矿太阳能电池纳米纤维改性电子传输层研究
18
作者 肖梓晨 何世豪 +8 位作者 邱诚远 邓攀 张威 戴维德仁 缑炎卓 李金华 尤俊 王贤保 林俍佑 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第7期828-834,I0006,I0007,共9页
二氧化锡(SnO_(2))由于具有高透光率、高电子迁移率、良好的紫外稳定性以及可低温加工等优势,作为电子传输材料在钙钛矿太阳能电池(PSC)中得到广泛应用。然而,用商业胶体溶液制备的SnO_(2)电子传输层仍然存在易团聚、缺陷多、能级不匹... 二氧化锡(SnO_(2))由于具有高透光率、高电子迁移率、良好的紫外稳定性以及可低温加工等优势,作为电子传输材料在钙钛矿太阳能电池(PSC)中得到广泛应用。然而,用商业胶体溶液制备的SnO_(2)电子传输层仍然存在易团聚、缺陷多、能级不匹配等问题,限制了器件性能和稳定性。本研究将一种高分子甲壳素纳米纤维(1,2-二苯甲酰氧基苯基甲壳素,DC)引入到SnO_(2)前驱液中来改善SnO_(2)薄膜质量,系统研究了DC对前驱液、薄膜和器件性能的影响。实验结果表明,DC添加剂能够有效抑制纳米颗粒团聚,使前驱液分散得更均匀。改善后的SnO_(2)薄膜的粗糙度更小,能更好地被钙钛矿溶液浸润,有利于SnO_(2)与钙钛矿层形成更紧密的接触。同时,SnO_(2)薄膜中的氧空位缺陷被有效钝化,缺陷占比降低至30%,进一步提升了薄膜质量。改进后SnO_(2)电子传输层与钙钛矿层的能级匹配性更好,载流子提取和传输性能得到优化。DC改性后的PSC性能得到显著提升,最优器件的光电转换效率达到19.11%。本工作不仅解决了SnO_(2)电子传输层在制备过程中的团聚问题,而且为提高PSC能提供了理论指导与方法。 展开更多
关键词 二氧化锡 电子传输层 钙钛矿太阳能电池 高分子 光电转换效率
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偏压对铀表面多弧离子镀Ti/TiN多层膜的结构及抗腐蚀性能影响研究 被引量:4
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作者 刘天伟 王小英 +2 位作者 江帆 唐凯 魏强 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1020-1024,共5页
在不同偏压下,利用多弧离子镀技术在U和Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜。利用X射线衍射仪和扫描电镜对多层膜的组织结构和薄膜界面形貌进行了分析。研究表明:脉冲偏压不但影响多层膜物相各衍射峰的强度,还诱导新相Ti2N的出现。制备的多... 在不同偏压下,利用多弧离子镀技术在U和Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜。利用X射线衍射仪和扫描电镜对多层膜的组织结构和薄膜界面形貌进行了分析。研究表明:脉冲偏压不但影响多层膜物相各衍射峰的强度,还诱导新相Ti2N的出现。制备的多层膜呈"犬牙"交错的层状、柱状结构生长。随脉冲偏压的增加,柱状晶结构细化,薄膜变得更加致密。通过50μg/g Cl-溶液腐蚀研究表明:Ti/TiN多层膜提高抗腐蚀性能源于层状失效,使得腐蚀介质到达基体更加困难,抗腐蚀性能优良。 展开更多
关键词 偏压 Ti/tin多层膜 结构 抗腐蚀性能
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铁基体等离子体增强磁控溅射离子镀Ti-TiN涂层的组织结构 被引量:2
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作者 王玉魁 王传恩 +2 位作者 张兴龙 韩会民 高路斯 《金属热处理学报》 CSCD 1995年第2期24-28,共5页
利用等离子体增强磁控溅射离子镀(PEMSIP),先在铁基体上镀一层很薄的钛中间层,继之沉积TiN。对膜层进行俄歇电子能谱(AES)分析和透射电镜(TEM)分析。结果表明,膜与基体之间有厚约50nm的过渡层;膜基界面处... 利用等离子体增强磁控溅射离子镀(PEMSIP),先在铁基体上镀一层很薄的钛中间层,继之沉积TiN。对膜层进行俄歇电子能谱(AES)分析和透射电镜(TEM)分析。结果表明,膜与基体之间有厚约50nm的过渡层;膜基界面处有FeTi相;中间层与后继膜交接处Ti2N与α-Ti有取向关系。 展开更多
关键词 等离子体增强 磁控溅射 离子镀 覆层
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