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单芯片大功率RFLDMOS晶体管设计与实验
1
作者
刘武平
周星
+1 位作者
韩鹏宇
邓小川
《电子与封装》
2014年第2期42-44,共3页
传统射频LDMOS晶体管的源区采用重掺杂p+sinker结构,该结构会占据较大的芯片面积。文中采用槽型sinker结构,可将源区sinker面积减少1/3以上。通过流片实验,得到饱和电流为170 mA/mm、击穿电压120 V、截止频率和最大振荡频率分别为5.5 GH...
传统射频LDMOS晶体管的源区采用重掺杂p+sinker结构,该结构会占据较大的芯片面积。文中采用槽型sinker结构,可将源区sinker面积减少1/3以上。通过流片实验,得到饱和电流为170 mA/mm、击穿电压120 V、截止频率和最大振荡频率分别为5.5 GHz和10 GHz的RF LDMOS器件。在50 V工作电压、1 090 MHz频点下栅宽345 mm单芯片器件的最大输出功率362 W,功率增益15.6 dB,漏极效率38.1%。
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关键词
RF
LDMOS
槽型
sinker
击穿电压
功率增益
漏极效率
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职称材料
题名
单芯片大功率RFLDMOS晶体管设计与实验
1
作者
刘武平
周星
韩鹏宇
邓小川
机构
电子科技大学微电子与固体电子学院
出处
《电子与封装》
2014年第2期42-44,共3页
文摘
传统射频LDMOS晶体管的源区采用重掺杂p+sinker结构,该结构会占据较大的芯片面积。文中采用槽型sinker结构,可将源区sinker面积减少1/3以上。通过流片实验,得到饱和电流为170 mA/mm、击穿电压120 V、截止频率和最大振荡频率分别为5.5 GHz和10 GHz的RF LDMOS器件。在50 V工作电压、1 090 MHz频点下栅宽345 mm单芯片器件的最大输出功率362 W,功率增益15.6 dB,漏极效率38.1%。
关键词
RF
LDMOS
槽型
sinker
击穿电压
功率增益
漏极效率
Keywords
RF LDMOS
trench sinker
breakdown voltage
power gain
drain efficiency
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
被引量
操作
1
单芯片大功率RFLDMOS晶体管设计与实验
刘武平
周星
韩鹏宇
邓小川
《电子与封装》
2014
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