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曲折形三层等宽FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB多层膜巨磁阻抗效应研究
1
作者
余先育
曹莹
+4 位作者
周勇
丁文
商干兵
周志敏
高孝裕
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期23-26,共4页
采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了曲折形三层等宽FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB多层膜。在1.40MHz下,研究了多层膜材料的巨磁阻抗(GMI)效应随外加磁场的变化关系。结果表明:在频率为5MHz、磁场强度为12kA/m下,横向和纵向GMI效...
采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了曲折形三层等宽FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB多层膜。在1.40MHz下,研究了多层膜材料的巨磁阻抗(GMI)效应随外加磁场的变化关系。结果表明:在频率为5MHz、磁场强度为12kA/m下,横向和纵向GMI效应分别达-23.5%和-16.8%。薄膜材料的纵向、横向GMI效应随外加磁场变化呈现先增后降,而纵向表现尤为明显。
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关键词
电子技术
巨磁阻抗效应
三层等宽结构
fecunbsib/
cu
/fecunbsib
薄膜
微细加工技术
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职称材料
题名
曲折形三层等宽FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB多层膜巨磁阻抗效应研究
1
作者
余先育
曹莹
周勇
丁文
商干兵
周志敏
高孝裕
机构
上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期23-26,共4页
基金
国家863计划资助项目(2004AA302042)
国家自然科学基金资助项目(50275096
+1 种基金
10402023)
上海市纳米专项资助项目(0352nm014)
文摘
采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了曲折形三层等宽FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB多层膜。在1.40MHz下,研究了多层膜材料的巨磁阻抗(GMI)效应随外加磁场的变化关系。结果表明:在频率为5MHz、磁场强度为12kA/m下,横向和纵向GMI效应分别达-23.5%和-16.8%。薄膜材料的纵向、横向GMI效应随外加磁场变化呈现先增后降,而纵向表现尤为明显。
关键词
电子技术
巨磁阻抗效应
三层等宽结构
fecunbsib/
cu
/fecunbsib
薄膜
微细加工技术
Keywords
electronic technology
giant magneto-impedance
trilayer fecunbsib/cu/fecunbsib film
microfabrication
分类号
O484.43 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
曲折形三层等宽FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB多层膜巨磁阻抗效应研究
余先育
曹莹
周勇
丁文
商干兵
周志敏
高孝裕
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2006
0
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