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UV/O_3氧化邻苯二甲酸二甲酯溶液研究
被引量:
6
1
作者
施银桃
李海燕
曾庆福
《武汉科技学院学报》
2003年第2期56-59,共4页
邻苯二甲酸二甲酯为环境优先控制污染物。本文采用紫外光-臭氧氧化法、单纯紫外光照及单纯臭氧氧化法处理邻苯二甲酸二甲酯废水。结果表明:单独紫外光照及单独臭氧化对邻苯二甲酸二甲酯溶液的TOC去除率很低,紫外光催化臭氧化可加速有机...
邻苯二甲酸二甲酯为环境优先控制污染物。本文采用紫外光-臭氧氧化法、单纯紫外光照及单纯臭氧氧化法处理邻苯二甲酸二甲酯废水。结果表明:单独紫外光照及单独臭氧化对邻苯二甲酸二甲酯溶液的TOC去除率很低,紫外光催化臭氧化可加速有机物的矿化。UV/O3较单独臭氧化TOC由单独臭氧化的33%可提高到100%。在同样时间条件下,UV/O3、单独O3、单独UV三者对邻苯二甲酸二甲酯矿化作用由大至小为:UV/O 、O、UV。
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关键词
邻苯二甲酸二甲酯
紫外光-臭氧氧化法
有机碳
废水处理
UV
O3
下载PDF
职称材料
紫外光/臭氧干法去除光刻胶
2
作者
谈凯声
祁宜芝
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第3期236-240,共5页
本文介绍紫外光/臭氧干法去除光刻胶的工作机理及实验装置;列出这种方法去除三种不同型号的国产负性光刻胶的去胶速率及利用俄歇光电子能谱仪分析去胶效果的能谱曲线;最后,对紫外光/臭氧干法去胶方法作了评价.
关键词
紫外光
臭氧
光刻胶
干法去胶
下载PDF
职称材料
题名
UV/O_3氧化邻苯二甲酸二甲酯溶液研究
被引量:
6
1
作者
施银桃
李海燕
曾庆福
机构
武汉科技学院环境科学研究所
出处
《武汉科技学院学报》
2003年第2期56-59,共4页
基金
教育部重点科技攻关项目(项目编号:教技司[2000]65号).
文摘
邻苯二甲酸二甲酯为环境优先控制污染物。本文采用紫外光-臭氧氧化法、单纯紫外光照及单纯臭氧氧化法处理邻苯二甲酸二甲酯废水。结果表明:单独紫外光照及单独臭氧化对邻苯二甲酸二甲酯溶液的TOC去除率很低,紫外光催化臭氧化可加速有机物的矿化。UV/O3较单独臭氧化TOC由单独臭氧化的33%可提高到100%。在同样时间条件下,UV/O3、单独O3、单独UV三者对邻苯二甲酸二甲酯矿化作用由大至小为:UV/O 、O、UV。
关键词
邻苯二甲酸二甲酯
紫外光-臭氧氧化法
有机碳
废水处理
UV
O3
Keywords
dimethyl phthalate
ultravioletlight
ozonation
oxidation
TOC
分类号
X703.1 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
紫外光/臭氧干法去除光刻胶
2
作者
谈凯声
祁宜芝
机构
中国科学院电子学研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第3期236-240,共5页
文摘
本文介绍紫外光/臭氧干法去除光刻胶的工作机理及实验装置;列出这种方法去除三种不同型号的国产负性光刻胶的去胶速率及利用俄歇光电子能谱仪分析去胶效果的能谱曲线;最后,对紫外光/臭氧干法去胶方法作了评价.
关键词
紫外光
臭氧
光刻胶
干法去胶
Keywords
ultravioletlight
Ozone
Photoresists
Dry depolymerization
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
UV/O_3氧化邻苯二甲酸二甲酯溶液研究
施银桃
李海燕
曾庆福
《武汉科技学院学报》
2003
6
下载PDF
职称材料
2
紫外光/臭氧干法去除光刻胶
谈凯声
祁宜芝
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989
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