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UV/O_3氧化邻苯二甲酸二甲酯溶液研究 被引量:6
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作者 施银桃 李海燕 曾庆福 《武汉科技学院学报》 2003年第2期56-59,共4页
邻苯二甲酸二甲酯为环境优先控制污染物。本文采用紫外光-臭氧氧化法、单纯紫外光照及单纯臭氧氧化法处理邻苯二甲酸二甲酯废水。结果表明:单独紫外光照及单独臭氧化对邻苯二甲酸二甲酯溶液的TOC去除率很低,紫外光催化臭氧化可加速有机... 邻苯二甲酸二甲酯为环境优先控制污染物。本文采用紫外光-臭氧氧化法、单纯紫外光照及单纯臭氧氧化法处理邻苯二甲酸二甲酯废水。结果表明:单独紫外光照及单独臭氧化对邻苯二甲酸二甲酯溶液的TOC去除率很低,紫外光催化臭氧化可加速有机物的矿化。UV/O3较单独臭氧化TOC由单独臭氧化的33%可提高到100%。在同样时间条件下,UV/O3、单独O3、单独UV三者对邻苯二甲酸二甲酯矿化作用由大至小为:UV/O 、O、UV。 展开更多
关键词 邻苯二甲酸二甲酯 紫外光-臭氧氧化法 有机碳 废水处理 UV O3
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紫外光/臭氧干法去除光刻胶
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作者 谈凯声 祁宜芝 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第3期236-240,共5页
本文介绍紫外光/臭氧干法去除光刻胶的工作机理及实验装置;列出这种方法去除三种不同型号的国产负性光刻胶的去胶速率及利用俄歇光电子能谱仪分析去胶效果的能谱曲线;最后,对紫外光/臭氧干法去胶方法作了评价.
关键词 紫外光 臭氧 光刻胶 干法去胶
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