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EFFECT OF VACUUM HEAT TREATMENT ON OXIDATION BEHAVIOR OF SPUTTERED NiCrAlY COATING 被引量:2
1
作者 M.H. Li X.F. Sun +3 位作者 Z.Y. Zhang H.R. Guan W.Y. Hu Z.Q 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 2002年第1期61-66,共6页
A bond coat for thermal barrier coating (TBC), NiCrAlY coating, is subjected to vac-uum heat treatment in order to remove internal stress before ceramic top coat is de-posited. The effect of vacuum heat treatment on t... A bond coat for thermal barrier coating (TBC), NiCrAlY coating, is subjected to vac-uum heat treatment in order to remove internal stress before ceramic top coat is de-posited. The effect of vacuum heat treatment on the oxidation behavior of the sputtered NiCrAlY coating has been investigated. The as-sputtered NiCrAlY coating consists of γ-Ni and b-NiAl phases. After vacuum heat treatment, the sputtered NiCrAlY coating mainly consists of γ'-Ni3Al, β-NiAl, γ-Ni, and trace of α-Al2O3 phases. The isothermal oxidation of sputtered NiCrAlY coating with and without vacuum heat treatment has been performed at 1000℃. It is shown that a-Al2O3 formed during vacuum heat treatment acts as nuclei for the formation of a-Al2O3, and the protective a-Al2O3 scale is formed more rapidly on the vacuum heat treated NiCrAlY coating than that formed on the untreated coating. Also the a-Al2O3 scale has a better adherence to the vacuum heat treated NiCrAlY coating. Therefore the vacuum heat treatment improves the oxidation resistance of sputtered NiCrAlY coating. 展开更多
关键词 vacuum heat treatment OXIDATION sputtered NiCrAlY coating
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Sputter Deposited Carbon Material based Fabry-Perot Sensor and Downhole Application
2
作者 WANG Yingying LIU Xiaohui +2 位作者 CHEN Xiaoan SUN Zhihui ZHAO Qingchao 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2022年第6期1143-1149,共7页
To prevent hydrogen-induced loss and achieve long-term effective parameters monitoring in harsh downhole environment,we proposed a Fabry-Perot sensor with vacuum sputter deposited carbon coating film,in which we emplo... To prevent hydrogen-induced loss and achieve long-term effective parameters monitoring in harsh downhole environment,we proposed a Fabry-Perot sensor with vacuum sputter deposited carbon coating film,in which we employed a deposition technology with a higher particle kinetic energy,closer substrate adhesion,and denser films,to deposit the coating film on the surface of the quartz capillary glass tube to protect the sensor from corrosion.The sensitivity and accuracy of the Fabry-Perot sensor with carbon film deposition can reach 369 nm/MPa and 0.02%FS,respectively.Meanwhile,the sensor has less hysteresis error and good pressure linearity of more than 0.99999 for repeatable pressure measurement.The downhole practice monitoring data indicated that this fiber-optic sensor exhibited excellent performance and the sputter deposited carbon coating can effectively decrease hydrogen loss. 展开更多
关键词 quartz substrate Fabry-Perot sensor vacuum sputtering carbon coating material
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高纯钽铌原料研究进展
3
作者 张衡 陈昆峰 薛冬峰 《无机盐工业》 CAS CSCD 北大核心 2024年第12期1-12,共12页
钽铌金属广泛应用于集成电路、航空航天、汽车、超导等领域,是不可或缺的战略材料。首先,介绍了钽铌资源分布、湿法冶金和高纯材料制备的内容,分析了国内外现状。文章指出世界钽铌资源主要分布在巴西、加拿大、澳大利亚和非洲地区等国家... 钽铌金属广泛应用于集成电路、航空航天、汽车、超导等领域,是不可或缺的战略材料。首先,介绍了钽铌资源分布、湿法冶金和高纯材料制备的内容,分析了国内外现状。文章指出世界钽铌资源主要分布在巴西、加拿大、澳大利亚和非洲地区等国家,中国钽铌资源品位低难利用,高度依赖进口。钽铌的湿法冶金方法分为碱法、酸法和氯化法,碱法有碱熔法和碱性水热法,酸法有硫酸法和氢氟酸法。而高纯氧化物的制备须经历浸出、萃取、分离提纯、过滤洗涤和煅烧过程。其次,阐述了利用真空电子束熔炼制备高纯钽铌和金属中杂质元素去除的方法,该法可使钽纯度在5 N(99.999%)以上,铌纯度在4 N(99.99%)以上。最后,对高纯钽铌原料在集成电路、人工晶体生长等领域的应用及需求进行了介绍,对高纯钽铌制备技术及产品的国内外企业进行了分析对比,指出了未来高纯钽铌原料发展方向。 展开更多
关键词 钽铌原料 湿法冶金 高纯钽铌制备 真空电子束熔炼 高纯靶材
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溅射镀膜单体机真空系统设计及性能分析
4
作者 许泽宇 胡明 +2 位作者 刘杰 顾子莺 赵德明 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第11期1000-1008,共9页
为了使溅射镀膜单体机的极限真空度达到5×10^(-4)Pa并提高其抽空效率,提出了新的溅射镀膜单体机真空系统设计方案。利用MOLFLOW+软件对所设计的真空系统进行了极限真空度验证,真空室内部气压均优于2.7×10^(-4)Pa;同时,建立了... 为了使溅射镀膜单体机的极限真空度达到5×10^(-4)Pa并提高其抽空效率,提出了新的溅射镀膜单体机真空系统设计方案。利用MOLFLOW+软件对所设计的真空系统进行了极限真空度验证,真空室内部气压均优于2.7×10^(-4)Pa;同时,建立了真空系统的抽气计算模型,求解得到抽空曲线,与实机试验结果进行比较,结果显示,计算模型获得的抽空曲线与试验测试值偏差小于5%,可用于高真空系统性能分析。 展开更多
关键词 磁控溅射 真空系统 抽气性能 抽空曲线
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退火温度对ITO/Cu/AZO透明导电薄膜结构及性能的影响
5
作者 孙冰成 张健 +1 位作者 张贤旺 于尉 《微纳电子技术》 CAS 2024年第11期155-162,共8页
采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电... 采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测试仪等表征手段,系统地研究了退火温度对ITO/Cu/AZO复合薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果显示,经过不同温度的真空退火处理,薄膜的晶体结构和导电性能得到显著改善和提高,薄膜可见光平均透过率随着退火温度的升高先增加后降低。对比发现,在气压5×10^(-3)Pa、温度150℃下退火制备的ITO/Cu/AZO结构薄膜表现出最佳的综合性能,薄膜具有较强的(222)和(440)晶面衍射峰,在400~800 nm光波范围平均透过率约为80.5%,电导率约为1.76×10^(3) S/cm,综合品质因数达到约2.12×10^(-3)/Ω。 展开更多
关键词 磁控溅射 真空热处理 氧化铟锡(ITO)薄膜 Al掺杂ZnO(AZO)薄膜 交替溅射法
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基于磁控溅射法生长hBN薄膜的MSM型真空紫外探测器(特邀)
6
作者 房万年 李强 +4 位作者 张启凡 陈冉升 李家兴 刘康康 云峰 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第7期21-30,共10页
针对目前大面积高质量六方氮化硼(hBN)薄膜的制备与转移存在均匀性、晶粒控制、无损转移等问题,采用射频磁控溅射技术成功在2英寸硅和蓝宝石介电衬底上沉积了hBN薄膜,拉曼光谱、X射线光电子能谱表征证实了薄膜具有明显的hBN特征。制备了... 针对目前大面积高质量六方氮化硼(hBN)薄膜的制备与转移存在均匀性、晶粒控制、无损转移等问题,采用射频磁控溅射技术成功在2英寸硅和蓝宝石介电衬底上沉积了hBN薄膜,拉曼光谱、X射线光电子能谱表征证实了薄膜具有明显的hBN特征。制备了hBN基金属-半导体-金属型光电探测器,并探究了电极材料、薄膜厚度以及叉指电极宽度和间距对探测性能的影响。优选出的Ni电极探测器具有极低的暗电流(<3 pA@100 V),对185 nm波长光具有明显光响应,响应度和比探测率分别为2.769 mA/W和2.969×10^(9)Jones。 展开更多
关键词 真空紫外探测 六方氮化硼 磁控溅射技术 金属-半导体-金属型光电探测器
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多功能复合磁控溅射平台的应用研究
7
作者 范志鹏 韩辉 张松林 《现代机械》 2024年第2期12-16,102,共6页
磁控溅射具有沉积温度低、薄膜致密且牢固等优点,广泛用于制备超硬膜等各种功能性薄膜,但也存在离化率和沉积速率较低、溅射平台功能较单一等缺陷,难以实现特种功能薄膜严苛的技术要求。为解决以上问题,设计了具有前后双开门、可安装多... 磁控溅射具有沉积温度低、薄膜致密且牢固等优点,广泛用于制备超硬膜等各种功能性薄膜,但也存在离化率和沉积速率较低、溅射平台功能较单一等缺陷,难以实现特种功能薄膜严苛的技术要求。为解决以上问题,设计了具有前后双开门、可安装多个不同类型的溅射阴极、离子源和行星工件转架可接高压脉冲偏压等的复合溅射平台,对真空镀膜室、水冷系统、整体绝缘的多工位工件转架和真空气路系统进行了优化设计,并通过理论计算、有限元分析校核了该设计的可行性。 展开更多
关键词 物理气相沉积 磁控溅射平台 溅射阴极 真空气路系统
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铜铟镓硒薄膜的真空制备工艺及靶材研究现状 被引量:13
8
作者 张冷 张维佳 +6 位作者 宋登元 张辉 张雷 马强 刘嘉 吴然嵩 马晓波 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第14期1990-1994,共5页
阐述了两种真空法制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜的工艺原理和工艺过程,比较和分析了两工艺的优缺点;介绍了溅射靶材的熔融铸造法和粉末冶金法,列举了靶材制备中所需的温度、压强、保温时间等参数。最后分析认为,用均匀细小的黄铜矿相CIGS粉末... 阐述了两种真空法制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜的工艺原理和工艺过程,比较和分析了两工艺的优缺点;介绍了溅射靶材的熔融铸造法和粉末冶金法,列举了靶材制备中所需的温度、压强、保温时间等参数。最后分析认为,用均匀细小的黄铜矿相CIGS粉末压制烧结成四元靶材,经溅射成膜后退火处理,可制备出优异的CIGS薄膜,具有更广阔的应用前景。 展开更多
关键词 CIGS 真空 薄膜 溅射靶
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金属铀膜的制备及应用现状 被引量:4
9
作者 易泰民 邢丕峰 +3 位作者 李朝阳 谢军 郑凤成 李国荣 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第12期905-910,共6页
介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状,包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积,脉冲激光气相沉积和溅射沉积,重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其... 介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状,包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积,脉冲激光气相沉积和溅射沉积,重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其表征方法。以及薄膜沉积过程中生长速率和厚度监控的常用方法。 展开更多
关键词 金属铀膜 蒸镀 磁控溅射
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反应磁控溅射法制备氧化钒薄膜 被引量:6
10
作者 刘凤举 余志明 +1 位作者 陈爽 方梅 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2221-2225,共5页
采用反应磁控溅射加真空退火分别在玻璃和Si(100)基底上制备氧化钒薄膜,利用X射线衍射和原子力显微镜分析其物相和表面形貌。结果表明:氧气体积分数低于15%时,玻璃上薄膜为低价钒氧化物,Si(100)上薄膜为V2O5(001)织构和V2O3(104)织构,高... 采用反应磁控溅射加真空退火分别在玻璃和Si(100)基底上制备氧化钒薄膜,利用X射线衍射和原子力显微镜分析其物相和表面形貌。结果表明:氧气体积分数低于15%时,玻璃上薄膜为低价钒氧化物,Si(100)上薄膜为V2O5(001)织构和V2O3(104)织构,高于20%时两基底上薄膜均为V2O5;玻璃上V2O5薄膜500℃下退火3h生成VO2,退火后薄膜粗糙度明显下降;Si(100)上V2O5薄膜500℃下退火2h生成V2O3(104)织构,退火后薄膜粗糙度变化不大。 展开更多
关键词 反应磁控溅射 真空退火 V2O3 VO2 V2O5
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全玻璃SS-AlN金属陶瓷真空太阳集热管 被引量:12
11
作者 章其初 陈革 +3 位作者 王双 池华敬 周旭 孟秀清 《真空》 CAS 北大核心 2010年第4期27-32,共6页
不锈钢-氮化铝(SS-AlN)金属陶瓷太阳选择性吸收涂层于1995年在实验室制备成功,采用真空磁控溅射沉积。太阳吸收复合膜采用干涉吸收型膜层结构,由不同金属含量的两层金属陶瓷层组成吸收层。金属陶瓷吸收层采用在镀膜室中SS和Al金属靶,在... 不锈钢-氮化铝(SS-AlN)金属陶瓷太阳选择性吸收涂层于1995年在实验室制备成功,采用真空磁控溅射沉积。太阳吸收复合膜采用干涉吸收型膜层结构,由不同金属含量的两层金属陶瓷层组成吸收层。金属陶瓷吸收层采用在镀膜室中SS和Al金属靶,在溅射气体Ar和反应气体N2中同时溅射运行,SS靶非反应溅射沉积SS金属组分,Al靶反应溅射沉积AlN陶瓷组分。实验室沉积的SS-AlN吸收涂层的太阳吸收比高达94%~96%,室温辐射比3.5%~4.0%。皇明公司2001年开始产业化生产全玻璃SS-AlN真空太阳集热管。我们开发了立式集热管连续镀膜线,第一条镀膜线于2007年调试成功,投入生产。集热管镀膜线真空系统长约41 m,高约3 m。每条线日产约为1.8~2.0万支。 展开更多
关键词 真空太阳集热管 太阳吸收涂层 金属陶瓷 磁控溅射 镀膜机 集热管镀膜线
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磁控溅射TiO_2膜的真空度对薄膜亲水性影响的实验研究 被引量:7
12
作者 巴德纯 常学森 +1 位作者 闻立时 刘坤 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期155-158,共4页
采用反应溅射技术可以制备出具有亲水作用的TiO2薄膜。这种TiO2薄膜断面呈现柱状晶体结构。薄膜表面出现不规则起伏。薄膜的晶相主体均为锐钛矿型。TiO2薄膜的光透射谱变化不大。这种TiO2薄膜经紫外光辐照后,可以降低水和TiO2薄膜表面... 采用反应溅射技术可以制备出具有亲水作用的TiO2薄膜。这种TiO2薄膜断面呈现柱状晶体结构。薄膜表面出现不规则起伏。薄膜的晶相主体均为锐钛矿型。TiO2薄膜的光透射谱变化不大。这种TiO2薄膜经紫外光辐照后,可以降低水和TiO2薄膜表面之间的接触角。不同工艺条件下制备的TiO2薄膜接触角相差很大。在纯氧条件下,薄膜制备的真空度对薄膜的亲水性有着决定性的影响。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 亲水特性 反应溅射 真空度
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基于PLC的真空溅射镀膜机控制系统设计 被引量:3
13
作者 刘进志 郝长生 刘希太 《煤矿机械》 北大核心 2008年第1期179-181,共3页
真空溅射镀膜技术及设备在当今和未来都拥有十分广阔的应用领域和发展前景。由于采用继电器-接触器的镀膜机存在一些缺陷和不足,设计了基于PLC的真空溅射镀膜机。几年的实践证明:改进后的镀膜机工作效率有很大提高,设备维修率也大大降低... 真空溅射镀膜技术及设备在当今和未来都拥有十分广阔的应用领域和发展前景。由于采用继电器-接触器的镀膜机存在一些缺陷和不足,设计了基于PLC的真空溅射镀膜机。几年的实践证明:改进后的镀膜机工作效率有很大提高,设备维修率也大大降低,它为同类系统的设计提供了参考。 展开更多
关键词 继电器-接触器控制 PLC控制 真空溅射镀膜机
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真空热处理对镍基单晶高温合金溅射NiCrAlY涂层抗氧化性能的影响 被引量:13
14
作者 李美姮 张重远 +4 位作者 孙晓峰 胡望宇 金涛 管恒荣 胡壮麒 《中国腐蚀与防护学报》 CAS CSCD 2002年第3期153-157,共5页
用磁控溅射法在镍基单晶高温合金基体上沉积NiCrAlY涂层 ,研究了真空热处理对涂层组织结构及抗氧化性能的影响 .结果表明 ,溅射NiCrAlY涂层主要由γ -Ni和 β -NiAl两相组成 ,元素分布均匀 ;经真空热处理后 ,涂层主要由γ′-Ni3 Al、β ... 用磁控溅射法在镍基单晶高温合金基体上沉积NiCrAlY涂层 ,研究了真空热处理对涂层组织结构及抗氧化性能的影响 .结果表明 ,溅射NiCrAlY涂层主要由γ -Ni和 β -NiAl两相组成 ,元素分布均匀 ;经真空热处理后 ,涂层主要由γ′-Ni3 Al、β -NiAl相和极少量的α-Al2 O3 相组成 ,元素分布变得不均匀 ,最外层富Al贫Cr .真空热处理可使溅射NiCrAlY涂层表面较早生成保护性能良好的α -Al2 O3 .10 0 0℃氧化 2 0 0h ,溅射涂层氧化膜有较大部分已经剥落 ,但真空热处理涂层的氧化膜仍较好地粘附在涂层基体上 .真空热处理使溅射NiCrAlY涂层表面生成的氧化膜粘附性更好 。 展开更多
关键词 真空热处理 镍基单晶高温合金 溅射 NICRALY涂层 抗氧化性
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氧化铝陶瓷金属化技术的研究进展 被引量:9
15
作者 马元远 王德苗 任高潮 《真空电子技术》 2007年第5期41-43,47,共4页
综述了Al2O3陶瓷金属化技术的国内外研究现状与进展,简要介绍了目前主要应用的几种金属化方法,并着重分析了真空溅射镀膜金属化技术中薄膜材料、膜层厚度以及工艺参数对金属化质量的影响。
关键词 AL2O3陶瓷 金属化 真空溅射
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氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜 被引量:3
16
作者 李有宏 宫泽祥 +1 位作者 龙振湖 纪纯新 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1996年第3期279-282,共4页
用氩离子束溅射聚四氟乙烯靶材,在黄铜上沉积聚四氟乙烯薄膜.用XPS和IRS分析方法确定了聚四氟乙烯高分子膜的存在,并依据沉积膜形成过程对沉积膜与靶材在IRS谱图上的差异给予了解释.结果表明。
关键词 离子束 溅射 真空沉积 薄膜 聚四氟乙烯 塑料
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基于PEM的反应磁控溅射镀膜机参数监控系统 被引量:3
17
作者 李锐 张军 +2 位作者 汪小芳 张道配 王斌华 《计算机测量与控制》 北大核心 2014年第10期3223-3226,共4页
实时在线监测磁控溅射反应气体的参数可有效保证镀膜质量;针对反应磁控溅射离子镀膜机反应气体的功能需求,分析了反应气体的控制原理,基于PEM方法提出了控制器方案和反应气体的参数监控方案,分析了监控系统的功能需求,自定义了串口通信... 实时在线监测磁控溅射反应气体的参数可有效保证镀膜质量;针对反应磁控溅射离子镀膜机反应气体的功能需求,分析了反应气体的控制原理,基于PEM方法提出了控制器方案和反应气体的参数监控方案,分析了监控系统的功能需求,自定义了串口通信协议,基于LabVIEW和串口设计了反应气体的参数监控系统系统,并与设计的控制器用于镀膜工艺试验;试验结果表明,基于PEM方法设计的反应气体参数监控系统功能正确,可为控制器和镀膜机提供参数调控依据,为提高硬质镀膜质量提供了一套有效的监控方法。 展开更多
关键词 磁控溅射 真空镀膜 串口通信 LabVIEW
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Low-E玻璃生产线伺服电机传动控制系统 被引量:5
18
作者 喻寿益 李晨 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期189-194,共6页
根据Low-E工程玻璃生产线传动系统的特点,提出一种基于西门子S7-400PLC和SEW伺服电机的分布式传动控制系统;描述系统的网络构架和底层伺服电机的控制策略。阐述伺服电机的选型方法和参数计算公式,设计伺服控制器的典型程序。该系统采用... 根据Low-E工程玻璃生产线传动系统的特点,提出一种基于西门子S7-400PLC和SEW伺服电机的分布式传动控制系统;描述系统的网络构架和底层伺服电机的控制策略。阐述伺服电机的选型方法和参数计算公式,设计伺服控制器的典型程序。该系统采用单CPU模块,双上位机管理,基于WINCC与STEP7的软件平台,实现生产线传动系统的实时监控。生产实践结果表明:基于该传动控制系统结构完备、功能丰富、工作稳定、性能优良,达到Low-E工程玻璃磁控溅射法生产工艺对生产线传动系统的性能要求,有利于实现生产线的自动化。 展开更多
关键词 LOW-E玻璃 西门子S7-400PLC 伺服电机 真空磁控溅射
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辅以动态氮离子轰击的氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜 被引量:2
19
作者 李有宏 龙振湖 +1 位作者 宫泽祥 任春生 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第2期208-211,共4页
用辅以动态氮离子轰击的氩离子束溅射沉积方法,在304不锈钢基材上沉积聚四氟乙烯薄膜.经XPS和IRS分析,确定了聚四氟乙烯膜的存在并进行了结构分析.划痕试验表明:这种方法制成的聚四氟乙烯膜与基材之间有较好的结合力.
关键词 薄膜 聚四氟乙烯 离子束溅射沉积 离子束轰击
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工艺参数对磁控溅射ZrN膜耐腐蚀性能的影响 被引量:1
20
作者 孙维连 程越 +2 位作者 王会强 李新领 孙铂 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2012年第5期42-43,62,共3页
为寻求真空磁控溅射ZrN膜耐蚀性与其溅射工艺间的规律,在1Cr18Ni9Ti不锈钢表面以不同的工艺参数真空磁控溅射了系列ZrN膜。通过中性盐雾试验确定了不同工艺参数所得ZrN膜的耐蚀性等级。结果表明:ZrN膜耐蚀性随N2流量的增加先增加,但超过... 为寻求真空磁控溅射ZrN膜耐蚀性与其溅射工艺间的规律,在1Cr18Ni9Ti不锈钢表面以不同的工艺参数真空磁控溅射了系列ZrN膜。通过中性盐雾试验确定了不同工艺参数所得ZrN膜的耐蚀性等级。结果表明:ZrN膜耐蚀性随N2流量的增加先增加,但超过15 mL/min后,膜的耐蚀性反而下降;ZrN膜耐蚀性随反应温度升高而增强;ZrN膜的耐蚀性随反应时间的增加越来越好,但超过15 min后,膜的耐蚀性不再增强;以ZrN膜的耐蚀性为依据,最佳溅射工艺参数为N2流量15 mL/min,反应时间15 min,反应温度200℃。 展开更多
关键词 真空磁控溅射 工艺参数 ZrN膜层 耐蚀性
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