1
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光刻版数据处理中的工艺涨缩问题 |
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
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《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
5
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2
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光胶做挡光层的紫外光刻掩膜用于高聚物芯片表面选择性光化学改性 |
孔泳
陈恒武
云晓
郝振霞
方肇伦
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《分析化学》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
2
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3
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65nm工艺节点下的光刻掩模版优化算法 |
熊伟
张进宇
Tsai Min-Chun
王燕
余志平
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《计算机辅助设计与图形学学报》
EI
CSCD
北大核心
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2008 |
2
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4
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基于有限状态机模型的光刻版图自动布局系统 |
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
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《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
6
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5
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光刻版图形处理过程的计算机仿真 |
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
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《微纳电子技术》
CAS
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2004 |
2
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6
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掩模制作中的邻近效应 |
杜惊雷
石瑞英
崔铮
郭永康
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《微纳电子技术》
CAS
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2002 |
2
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7
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光掩模现状与展望 |
孙锋
肖力
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《电子与封装》
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2006 |
3
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8
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光刻版清洗工艺及设备研究 |
刘永进
刘玉倩
宋文超
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《电子工业专用设备》
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2013 |
2
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9
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全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍 |
宋文超
刘永进
王刚
张利军
侯为萍
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《电子工业专用设备》
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2014 |
1
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10
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N_2、Ar气体对磁控溅射沉积掩膜铬膜性能的影响 |
陈长琦
王凤丹
王君
王旭迪
干蜀毅
胡新源
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《真空》
CAS
北大核心
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2004 |
0 |
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11
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光掩模激光修补技术 |
冯伯儒
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《微细加工技术》
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1994 |
2
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12
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温湿度对制版图形缺陷的影响 |
任芳
刘嵘侃
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《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
0 |
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13
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光刻版清洗工艺及设备研究 |
刘永进
刘玉倩
宋文超
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《电子工业专用设备》
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2013 |
0 |
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14
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石英玻璃在光刻技术中的应用 |
王佳佳
王友军
王鑫
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《中国建材科技》
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2012 |
0 |
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15
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基于时序分析的光刻版清洗机运行效率提升方法 |
侯为萍
高建利
刘玉倩
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《电子工业专用设备》
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2013 |
0 |
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16
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5009激光图形发生器曝光实验 |
蒋玉贺
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《微处理机》
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2014 |
0 |
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17
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全自动光刻版清洗机介绍 |
宋文超
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《清洗世界》
CAS
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2014 |
0 |
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193nm光学掩模与x射线掩模技术比较 |
谢常青
叶甜春
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《半导体情报》
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1999 |
0 |
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19
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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用 |
黄河
朱晓
朱长虹
朱广志
李跃松
张沛
万承华
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《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
3
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20
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掩模版制作工艺中典型问题探析 |
叶红
吴会龙
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《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
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2009 |
2
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