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HF在α-AlF_3(0001)表面吸附的密度泛函理论研究 被引量:2
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作者 刘瑞 滕波涛 +2 位作者 全洁丽 郎佳健 罗孟飞 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第2期271-278,共8页
利用密度泛函理论系统研究了不同覆盖度下HF在3F、2F、1F与AI终端的α-AIF_3(0001)表面的吸附行为,分析了HF与不同终端表面相互作用的电子机制.计算结果表明:HF在3F终端的α-AIF_3(0001)表面物理吸附;在2F及1F终端表面化学吸附,形成AI—... 利用密度泛函理论系统研究了不同覆盖度下HF在3F、2F、1F与AI终端的α-AIF_3(0001)表面的吸附行为,分析了HF与不同终端表面相互作用的电子机制.计算结果表明:HF在3F终端的α-AIF_3(0001)表面物理吸附;在2F及1F终端表面化学吸附,形成AI—F键和FHF结构,使HF分子活化,可以参加下一步的氟化反应;在AI终端表面解离吸附形成AI—F与AI—H键.3F、2F、1F及AI终端表面配位不饱和数目分别为0、1、2与3配位.不同覆盖度研究表明,在2F终端表面上,吸附一个HF分子使表面AI配位达到饱和,后续吸附的HF为物理吸附;而在1F与AI终端表面仍可化学吸附.因此,推测α-AIF_3暴露不同终端表面中Al原予配位不饱和数越高,其对HF吸附与活化能力越强,可能的氟化催化反应活性越高.差分电荷密度与电子态密度分析表明,HF与3F终端α-AIF_3(0001)表面发生弱相互作用,而与2F、1F与AI终端表面形成较强的电子相互作用. 展开更多
关键词 氟化氢 α-alf_3(0001) 密度泛函理论 差分电荷密度 电子态密度
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α-Al_2O_3(0001)表面弛豫及其对表面电子态的影响 被引量:8
2
作者 杨春 余毅 +1 位作者 李言荣 刘永华 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第5期537-542,共6页
在周期边界条件下的κ空间中 ,采用基于密度泛函理论的局域密度近似平面波超软赝势法 ,对最外表面终止层为单层Al的α Al2 O3 超晶胞 (2× 2 ) (0 0 0 1)表面结构进行了弛豫与电子结构计算研究 .结果表明 ,最外表面Al-O层有较大的弛... 在周期边界条件下的κ空间中 ,采用基于密度泛函理论的局域密度近似平面波超软赝势法 ,对最外表面终止层为单层Al的α Al2 O3 超晶胞 (2× 2 ) (0 0 0 1)表面结构进行了弛豫与电子结构计算研究 .结果表明 ,最外表面Al-O层有较大的弛豫 ,明显地影响了表面原子与电子结构 ,布居分析表明表面电子有更大的几率被定域在O原子的周围 ,表现出O的表面态 .进一步分析了表面弛豫前后表面电子密度、态密度变化 ,表面能级分裂主要来自于O的 2 p轨道电子态变化 .通过对比弛豫前后的表面电子局域函数 (ELF)图 ,分析了表面成键特性 . 展开更多
关键词 表面弛豫 态密度 a-Al2O3 电子密度
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α-Al_2O_3基片(0001)表面及其对ZnO吸附位置研究 被引量:2
3
作者 杨春 李言荣 +3 位作者 陶佰万 刘兴钊 张鹰 刘永华 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期5-10,共6页
建立了一种 2× 2α Al2 O3 (0 0 0 1)基片表面吸附ZnO模型 ,在周期边界条件下的k空间中 ,采用基于密度泛函理论的局域密度近似平面波超软赝势法 ,对α Al2 O3 (0 0 0 1)基片表面结构及其ZnO分子在表面最初吸附生长位置进行了计算... 建立了一种 2× 2α Al2 O3 (0 0 0 1)基片表面吸附ZnO模型 ,在周期边界条件下的k空间中 ,采用基于密度泛函理论的局域密度近似平面波超软赝势法 ,对α Al2 O3 (0 0 0 1)基片表面结构及其ZnO分子在表面最初吸附生长位置进行了计算研究。由于较大的表面弛豫 ,使得氧原子全部暴露于基片最外表面 ,明显地表现出O原子电子表面态 ;驰豫后的表面能对ZnO分子产生较强的化学吸附 ,表面电子结构将发生明显的变化 ,其表面最优吸附生长点的方位正好偏离α Al2 O3 (0 0 0 1)表面氧六角对称 30° ;并计算了这些吸附生长点处Zn与表面O的结合能。 展开更多
关键词 α-A12O3基片 氧化锌薄膜 局域密度近似平面波超软赝势法 吸附生长 半导体
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Si(100)和蓝宝石(0001)衬底上3C-SiC的Raman研究(英文) 被引量:4
4
作者 孙国胜 罗木昌 +5 位作者 王雷 赵万顺 孙艳玲 曾一平 李晋闽 林兰英 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期421-425,共5页
单晶Si和蓝宝石 (0 0 0 1)是两种重要的 3C SiC异质外延衬底材料 ,然而 ,由于Si及蓝宝石和 3C SiC之间大的晶格失配度和热膨胀系数失配度 ,在 3C SiC中会产生很大的内应力 ,直接影响 3C SiC的电学特性。Raman散射测试是一个功能很强的... 单晶Si和蓝宝石 (0 0 0 1)是两种重要的 3C SiC异质外延衬底材料 ,然而 ,由于Si及蓝宝石和 3C SiC之间大的晶格失配度和热膨胀系数失配度 ,在 3C SiC中会产生很大的内应力 ,直接影响 3C SiC的电学特性。Raman散射测试是一个功能很强的测试方法 ,其强度、宽度、Raman位移等有关Raman参数可以给出有关SiC晶体质量的信息 ,其中包括内应力。利用背散射几何构置的Raman方法研究了Si(10 0 )和蓝宝石 (0 0 0 1)衬底上LPCVD方法生长的SiC外延薄膜 ,在生长的所有样品中均观察到了典型的 3C SiC的TO和LO声子峰 ,在3C SiC/Si材料中 ,这两个声子峰分别位于 970 3cm-1和 796 0cm-1,在 3C SiC/蓝宝石材料中 ,分别位于96 5 1cm-1和 80 1 2cm-1,这一结果表明这两种外延材料均为 3C SiC晶型。利用一个 3C SiC自由膜作为无应力标准样品 ,并根据 3C SiC/Si和 3C SiC/蓝宝石的TO和LO声子峰Raman位移相对于自由膜的移动量 ,得到 3C SiC中的内应力约分别为 1GPa和 4GPa。实验发现在这两种材料的TO声子峰的Raman位移移动方向相反 ,通过比较 3C SiC、Si和蓝宝石的热膨胀系数 ,预期Si衬底上的 3C SiC外延膜受到的应力为张应力 ,而蓝宝石衬底上 3C SiC受到的应力则为压应力。 展开更多
关键词 3C-SIC 碳化硅 拉曼光谱 RAMAN光谱 蓝宝石(0001)衬底 晶格失配度 热膨胀系数失配度 背散射
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α-Al_2O_3(0001)表面吸附ZnO的DFT研究 被引量:3
5
作者 杨春 李金山 李言荣 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1897-1900,共4页
建立了α-Al2 O3( 0 0 0 1 ) 2× 1表面薄片吸附模型 ,采用基于 DFT动力学赝势方法 ,对 Zn O分子的吸附生长进行了计算 .详细地研究了 Zn O分子在表面吸附的成键方式以及表面化学键特性 .在较稳定的吸附位上 ,Zn O化学键 [( 0 .1 85... 建立了α-Al2 O3( 0 0 0 1 ) 2× 1表面薄片吸附模型 ,采用基于 DFT动力学赝势方法 ,对 Zn O分子的吸附生长进行了计算 .详细地研究了 Zn O分子在表面吸附的成键方式以及表面化学键特性 .在较稳定的吸附位上 ,Zn O化学键 [( 0 .1 85± 0 .0 1 ) nm]与最近邻的表面 Al— O键有 3 0°的偏转角度 ,Zn在表面较稳定的化学吸附位置偏离表面 O六角对称约 3 0°.通过吸附能量、原子布居数和态密度的分析 ,Zn O的 O2 -与表面上的Al3+形成的化学键表现出强离子键特征 ;而 Zn2 +同基片表面 O2 展开更多
关键词 氧化锌薄膜 吸附生长 表面吸附 化学吸附 DFT动力学赝势法 α- 三氧化二铝(0001)表面
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AlN在α-Al_2O_3(0001)表面吸附过程的理论研究 被引量:1
6
作者 余毅 冯玉芳 +1 位作者 黄平 杨春 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期484-488,共5页
采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势法,对α-Al2O3(0001)表面吸附AlN进行了动力学模拟计算,研究了AlN分子在a-Al2O3(0001)表面吸附成键过程、吸附能量与成键方位。计算表明吸附过程经历了物理吸附、化学吸附与稳定态形成的过程,其化... 采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势法,对α-Al2O3(0001)表面吸附AlN进行了动力学模拟计算,研究了AlN分子在a-Al2O3(0001)表面吸附成键过程、吸附能量与成键方位。计算表明吸附过程经历了物理吸附、化学吸附与稳定态形成的过程,其化学结合能达到4.844eV。吸附后AlN化学键(0.189±0.010nm)与最近邻的表面Al-O键有30°的偏转角度,Al在表面较稳定的化学吸附位置正好偏离表面O六角对称约30°,使得AlN与蓝宝石之间的晶格失配度降低。 展开更多
关键词 a-Al2O3(0001)表面 ALN薄膜 密度泛函理论 吸附
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DFT Study of the Effect of Temperature on ZnO Adsorbed on α-AI_2 O_3(0001)Surface
7
作者 杨春 余毅 李来才 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第2期137-142,共6页
The adsorption and the growth of ZnO on α-Al2O3(0001) surface at various temperatures were theoretically calculated by using a plane wave pseudopotentials (USP) method based on density functional theory.The avera... The adsorption and the growth of ZnO on α-Al2O3(0001) surface at various temperatures were theoretically calculated by using a plane wave pseudopotentials (USP) method based on density functional theory.The average adsorption energy of ZnO at 400, 600 and 800 ℃ is 4.16±0.08, 4.25±0.11 and 4.05±0.23 eV respectively. Temperature has a remarkable effect on the structure of the surface and the interface of ZnO/α-Al2O3(0001). It is found that the Zn-hexagonal symmetry deflexion does not appear during the adsorption growth of ZnO at 400 ℃, and that the ZnO[10^-10] is parallel with the [10^-10] of the α-Al2O3(0001), which is favorable for forming ZnO film with the Zn-terminated surface. It is observed from simulation that there are two kinds of surface structures in the adsorption of ZnO at 600 ℃: one is the ZnO surface that has the Zn-terminated structure, and whose [10^-10] parallels the [10^-10] of the substrate surface, and the other is the ZnO[10^-10] //sapphire [11-20] with the O-terminated surface. The energy barrier of the phase transition between these two different surface structures is about 1.6 eV, and the latter is more stable. Therefore,the suitable temperature for the thin film growth of ZnO on sapphire is about 600 ℃, and it facilitates the formation of wurtzite structure containing Zn-O-Zn-O-Zn-O double-layers as a growth unit-cell. At 600 ℃, the average bond length of Zn-O is 0.190±0.01 nm, and the ELF value indicates that the bond of (substrate)-O-Zn-O has a distinct covalent character, whereas the (Zn)O-Al (substrate) shows a clear character of ionic bond. However, at a temperature of 800 ℃, the dissociation of Al and O atoms on the surface of the α-Al2O3(0001) leads to a disordered surface and interface structure. Thus, the Zn-hexagonal symmetry structure of the ZnO film is not observed under this condition. 展开更多
关键词 ZNO α-Al2O30001 surface ADSORPTION Density functional calculations
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α-Al_2O_3(0001)表面电子结构的理论研究
8
作者 余毅 薛卫东 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期825-828,共4页
采用基于密度泛函理论的局域密度近似平面波超软赝势法 ,在周期边界条件下的k空间中 ,对最外表面终止层为单层Al的α Al2 O3( 0 0 0 1 )表面结构进行了弛豫与电子结构计算研究 .通过分析表面弛豫前后表面电子密度、态密度变化 ,表明表... 采用基于密度泛函理论的局域密度近似平面波超软赝势法 ,在周期边界条件下的k空间中 ,对最外表面终止层为单层Al的α Al2 O3( 0 0 0 1 )表面结构进行了弛豫与电子结构计算研究 .通过分析表面弛豫前后表面电子密度、态密度变化 ,表明表面能级分裂主要来自于O的2 p轨道电子态变化 ,α Al2 O3( 0 0 0 1 )表面明显地表现出O的表面态 .通过电子局域函数图 ,进一步分析了表面成键与表面电子分布特性 . 展开更多
关键词 α-Al2O3(0001)表面 电子密度 态密度
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石墨烯在Al_2O_3(0001)表面生长的模拟研究 被引量:5
9
作者 李锦锦 李多生 +2 位作者 洪跃 邹伟 何俊杰 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第21期341-347,共7页
基于密度泛函理论的广义梯度近似法,对用化学气相沉积法在蓝宝石(α-Al_2O_3)(0001)表面上生长石墨烯进行理论研究.研究结果表明:CH_4在α-Al_2O_3(0001)表面上的分解是吸热过程,由CH_4完全分解出C需要较高能量及反应能垒,这些因素不利... 基于密度泛函理论的广义梯度近似法,对用化学气相沉积法在蓝宝石(α-Al_2O_3)(0001)表面上生长石墨烯进行理论研究.研究结果表明:CH_4在α-Al_2O_3(0001)表面上的分解是吸热过程,由CH_4完全分解出C需要较高能量及反应能垒,这些因素不利于C在衬底表面的存在.在α-Al_2O_3(0001)表面,石墨烯形核的活跃因子并不是通常认为的C原子,而是CH基团.通过CH基团在α-Al_2O_3(0001)表面上的迁移聚集首先形成能量较低的(CH)_x结构.模拟研究(CH)_x对揭示后续石墨烯的形核生长机理具有重要意义. 展开更多
关键词 CH4 蓝宝石(α-Al2O3)(0001) 吸附分解 密度泛函理论
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拓扑半金属α2-Ti 3Al(0001)表面的电子结构理论研究
10
作者 徐梦秋 杨珊珊 +2 位作者 史倩艺 李应发 廖杨芳 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第8期1562-1567,共6页
采用基于密度泛函理论的第一性原理方法对α2-Ti 3Al(0001)表面的电子结构进行计算。结果表明:(1)α2-Ti 3Al(0001)表面的表面能为2.03 J/m 2,表面功函数为4.265 eV;(2)表面的总态密度在费米能级处达到极大值,系统呈现金属性,与块体的... 采用基于密度泛函理论的第一性原理方法对α2-Ti 3Al(0001)表面的电子结构进行计算。结果表明:(1)α2-Ti 3Al(0001)表面的表面能为2.03 J/m 2,表面功函数为4.265 eV;(2)表面的总态密度在费米能级处达到极大值,系统呈现金属性,与块体的半金属差异明显,Ti-s、Ti-p和Al-s轨道受层数的影响较小,而Ti-d和Al-p轨道受层数的影响较大,均在费米能级处出现极大值;(3)能带结构未呈现块体的节线环,而是在费米能级附近以下的Γ点,出现一个类电子型的三带交叉点,在费米能级以上的Γ点,出现一个类空穴型的两带交叉点。 展开更多
关键词 拓扑半金属 α2-Ti 3Al(0001) 电子结构 第一性原理 能带结构 态密度
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α-Al_2O_3(0001)基片表面结构与能量研究 被引量:17
11
作者 杨春 李言荣 +4 位作者 薛卫东 陶佰万 刘兴钊 张鹰 黄玮 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第9期2268-2273,共6页
对α Al2 O3( 0 0 0 1)晶体表层三种不同终止原子结构的计算模型 ,在三维周期边界条件下的κ空间中 ,采用超软赝势平面波函数描述多电子体系 .应用基于密度泛函理论的局域密度近似 ,计算了不同表层结构的体系能量 ,表明最表层终止原子... 对α Al2 O3( 0 0 0 1)晶体表层三种不同终止原子结构的计算模型 ,在三维周期边界条件下的κ空间中 ,采用超软赝势平面波函数描述多电子体系 .应用基于密度泛函理论的局域密度近似 ,计算了不同表层结构的体系能量 ,表明最表层终止原子为单层Al的表面结构最稳定 .对由 10个原子组成的菱形原胞进行了结构优化 ,得到晶胞参数值(a0 =0 4 8178nm)与实验报道值误差小于 1 3% .进一步计算了超晶胞 ( 2× 2 )表面弛豫 ,弛豫后原第 2层O原子层成为最表层 ;对不同表层O ,Al原子最外层电子进行了布居分析 ,表面电子有更大的概率被定域在O原子的周围 。 展开更多
关键词 α-Al2O3(0001)基片 表面结构 能量 电子表面态 电子功能薄膜材料 超晶胞 表面弛豫 超软赝势
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GaN/Al_2O_3(0001)的匹配机制及氮化的作用 被引量:5
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作者 徐科 邓佩珍 +2 位作者 邱荣生 徐军 方祖捷 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期369-373,共5页
在Al2O3(0001)衬底上用MOCVD(金属有机物气相沉积)方法进行了GaN的外延生长,通过X射线衍射(同步辐射源)研究了GaN和Al2O3(0001)的匹配关系。结果表明,经充分氮化的衬底上,GaN以单一的匹配... 在Al2O3(0001)衬底上用MOCVD(金属有机物气相沉积)方法进行了GaN的外延生长,通过X射线衍射(同步辐射源)研究了GaN和Al2O3(0001)的匹配关系。结果表明,经充分氮化的衬底上,GaN以单一的匹配方式沿[0001]方向生长;在Al2O3(0001)衬底未经氮化或氮化不充分时,不同程度地出现了其它三种绕〈1120〉晶带轴倾斜一定角度的匹配位向。指出了GaN/Al2O3(0001)的几种匹配方式的晶体学规律。GaN绕〈1120〉晶带轴倾斜的匹配方式是其外延生长过程中降低和Al2O3(0001)的晶格失配、释放界面应变的重要机制之一。 展开更多
关键词 衬底 MOCVD 晶格匹配 氮化镓 三氧化二铝
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动力学研究AlN/α-Al2O3(0001)薄膜生长初期的吸附与扩散 被引量:6
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作者 杨春 冯玉芳 余毅 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期3553-3559,共7页
采用基于第一性原理的从头计算分子动力学方法,计算了300—800℃下AlN吸附过程与系统能量、动力学轨迹以及扩散系数.研究表明,吸附过程由物理吸附、化学吸附和表面稳定态三个阶段组成,在吸附成键过程中,温度越高,粒子平均表面扩散能力增... 采用基于第一性原理的从头计算分子动力学方法,计算了300—800℃下AlN吸附过程与系统能量、动力学轨迹以及扩散系数.研究表明,吸附过程由物理吸附、化学吸附和表面稳定态三个阶段组成,在吸附成键过程中,温度越高,粒子平均表面扩散能力增强.N原子的扩散系数大于Al原子的扩散系数,尤其是在物理吸附阶段.在较高温度条件下(大于700℃),N的解吸附作用明显增强,不利于AlN的稳定吸附生长,500—700℃之间的温度有利于AlN在α-Al2O3(0001)表面的稳定吸附生长. 展开更多
关键词 α-Al2O3(0001)表面 扩散 吸附生长 从头计算分子动力学
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温度对ZnO/Al_2O_3(0001)界面的吸附、扩散及生长初期模式的影响 被引量:6
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作者 杨春 余毅 +1 位作者 李言荣 刘永华 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期5907-5913,共7页
构建了一个ZnO沉积在α-Al2O3(0001)表面生长初期的模型,采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势法进行了动力学模拟.发现在400,600和800℃的条件下界面原子有不同的扩散能力,因此温度对ZnO/α-Al2O3(0001)表面界面结构以及ZnO薄膜生长... 构建了一个ZnO沉积在α-Al2O3(0001)表面生长初期的模型,采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势法进行了动力学模拟.发现在400,600和800℃的条件下界面原子有不同的扩散能力,因此温度对ZnO/α-Al2O3(0001)表面界面结构以及ZnO薄膜生长初期模式有决定性的影响.在整个ZnO吸附生长过程中,O原子的扩散系数大于Zn原子的扩散系数,O原子的层间扩散对薄膜的均匀生长起着重要作用.进一步从理论计算上证实了ZnO在蓝宝石(0001)上两种生长模式的存在,400℃左右生长模式主要是Zn螺旋扭曲生长,具有Zn六角平面对称特征,且有利于Zn原子位于最外表面.600℃左右呈现为比较规则的层状生长,且有利于O原子位于最外表面.模拟观察到在ZnO薄膜临近Al2O3基片表面处,Zn的空位缺陷明显多于O的空位缺陷. 展开更多
关键词 扩散 薄膜生长 α-Al2O3(0001) ZNO
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Theoretical study of ZnO adsorption and bonding on Al_2O_3(0001) surface 被引量:1
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作者 LI Yanrong1,YANG Chun1,2,XUE Weidong1,LI Jinshan3 & LIU Yonghua3 1.Institute of Microelectronics and Solid State Electronics,University of Electronic Science and Technol- ogy of China,Chengdu 610054,China 2.Institute of Mathematics and Software Science,Sichuan Normal University,Chengdu 610068,China 3.Institute of Chemical Materials,China Academy of Engineering Physics,Mianyang 621000,China 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2004年第6期664-675,共12页
ZnO adsorption on sapphire (0001) surface is theoretically calculated by using a plane wave ultrasoft pseudo-potential method based on ab initio molecular dynamics. The results reveal that the surface relaxation in th... ZnO adsorption on sapphire (0001) surface is theoretically calculated by using a plane wave ultrasoft pseudo-potential method based on ab initio molecular dynamics. The results reveal that the surface relaxation in the first layer Al-O is reduced, even eliminated after the surface adsorption of ZnO, and the chemical bonding energy is 434.3(±38.6) kJ·mol?1. The chemical bond of ZnO (0.185 ± 0.01 nm) has a 30° angle away from the adjacent Al-O bond, and the stable chemical adsorption position of the Zn is deflected from the surface O-hexagonal symmetry with an angle of about 30°. The analysis of the atomic populations, density of state and bonding electronic density before and after the adsorption indicates that the chemical bond formed by the O2 of the ZnO ? and the surface Al3+ has a strong ionic bonding characteristic, while the chemical bond formed by the Zn2+ and the surface O2 has an obvious covalent characteristic, which ? comes mainly from the hybridization of the Zn 4s and the O 2p and partially from that of the Zn 3d and the O 2p. 展开更多
关键词 α-Al2O3 (0001) ZNO ab initio molecular dynamics chemical adsorption density of states
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Distance dependence of atomic-resolution near-field imaging on α-Al2O3 (0001) surface with respect to surface photovoltage of silicon probe tip
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作者 Junsuke Yamanishi Takashi Tokuyama +2 位作者 Yoshitaka Naitoh Yan Jun Li Yasuhiro Sugawara 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第2期530-536,共7页
Recently, we achieved atomic-resolution optical imaging with near-field scanning optical microscopy using photon-induced force detection. In this technique, the surface photovoltage of the silicon-tip apex induced by ... Recently, we achieved atomic-resolution optical imaging with near-field scanning optical microscopy using photon-induced force detection. In this technique, the surface photovoltage of the silicon-tip apex induced by the optical near field on the surface is measured as the electrostatic force. We demonstrated atomicresolution imaging of the near field on the α-Al2O3 (0001) surface of a prism. We investigated the spatial distribution of the near field by scanning at different tip-sample distances and found that the atomic corrugation of the near-field signal was observed at greater distances than that of the atomic force microscopy signal. As the tip-sample distance increased, the normalized signal-to-noise ratio of the near field is in a gradual decline almost twice that of the frequency shift (Δf). 展开更多
关键词 near-field scanning optical microscopy near field surface photovoltage ci-Al2O3 0001 force detection
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A DFT Study on the Structure and Properties of Cu/Cr2O3 Catalyst 被引量:2
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作者 张敏华 李如珍 余英哲 《Chinese Journal of Chemistry》 SCIE CAS CSCD 2012年第4期771-778,共8页
Using DFT method, the stable adsorption configurations of Cu4 cluster on Cr2O3 (0001) surface were investi- gated. The regular tetrahedron structure and the planar structures were considered as the initial adsorptio... Using DFT method, the stable adsorption configurations of Cu4 cluster on Cr2O3 (0001) surface were investi- gated. The regular tetrahedron structure and the planar structures were considered as the initial adsorption configu- ration of Cu4 cluster, respectively. The adsorption energies of the two structures were also calculated. The simulation result indicated that the adsorption energy of the regular tetrahedron structure was higher than that of the planar structure, and thus the regular tetrahedron structure was confirmed to be the stable adsorption configuration for Cu4 cluster on Cr2O3 (0001) surface. Moreover, it was observed that the Cu4 cluster showed the definite stable adsorption sites on Cr2O3 (0001) surface, namely 3-fold O sites. During the adsorption process of Cu4 cluster onto Cr2O3 (0001) surface, the Cu4 cluster could bond with more Cr or O atoms on the surface, and the apparent charge transfer also occurred correspondingly. Meanwhile, the Cu4 cluster and Cr2O3 (0001) surface would bond in the form of local polarization to enhance the stability of adsorption configuration. 展开更多
关键词 Cr2O30001 surface CH4 cluster Cu/Cr2O3 density functional theory
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