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发射极δ掺杂的InGaAs/InP DHBT的特性分析
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作者 陈雷东 曹俊诚 +2 位作者 齐鸣 徐安怀 李爱珍 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2003年第4期443-447,共5页
设计了一种新结构的InGaAs/InP双异质结晶体管(DHBT),其中发射结采用δ掺杂和阻挡层结构,集电极采用N^+掺杂复合结结构。考虑隧穿作用和发射结空间电荷区复合电流的影响,计算了δ掺杂浓度和N^+、n^-层厚度等参数变化对InGaAs/InP DHBT... 设计了一种新结构的InGaAs/InP双异质结晶体管(DHBT),其中发射结采用δ掺杂和阻挡层结构,集电极采用N^+掺杂复合结结构。考虑隧穿作用和发射结空间电荷区复合电流的影响,计算了δ掺杂浓度和N^+、n^-层厚度等参数变化对InGaAs/InP DHBT电流、I-V输出特性、电流增益的影响,计算结果表明,随着这些参数值增大,InGaAs/InP DHBT输出特性逐渐改善。当δ掺杂浓度大于2×10^(12)cm^(-3)时,电流增益趋于饱和。 展开更多
关键词 InGaAs/InPDHBT δ掺杂层 阻挡 复合集电极 I-V输出特性 双异质结晶体管
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