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发射极δ掺杂的InGaAs/InP DHBT的特性分析
1
作者
陈雷东
曹俊诚
+2 位作者
齐鸣
徐安怀
李爱珍
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2003年第4期443-447,共5页
设计了一种新结构的InGaAs/InP双异质结晶体管(DHBT),其中发射结采用δ掺杂和阻挡层结构,集电极采用N^+掺杂复合结结构。考虑隧穿作用和发射结空间电荷区复合电流的影响,计算了δ掺杂浓度和N^+、n^-层厚度等参数变化对InGaAs/InP DHBT...
设计了一种新结构的InGaAs/InP双异质结晶体管(DHBT),其中发射结采用δ掺杂和阻挡层结构,集电极采用N^+掺杂复合结结构。考虑隧穿作用和发射结空间电荷区复合电流的影响,计算了δ掺杂浓度和N^+、n^-层厚度等参数变化对InGaAs/InP DHBT电流、I-V输出特性、电流增益的影响,计算结果表明,随着这些参数值增大,InGaAs/InP DHBT输出特性逐渐改善。当δ掺杂浓度大于2×10^(12)cm^(-3)时,电流增益趋于饱和。
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关键词
InGaAs/InPDHBT
δ掺杂层
阻挡
层
复合集电极
I-V输出特性
双异质结晶体管
原文传递
题名
发射极δ掺杂的InGaAs/InP DHBT的特性分析
1
作者
陈雷东
曹俊诚
齐鸣
徐安怀
李爱珍
机构
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2003年第4期443-447,共5页
文摘
设计了一种新结构的InGaAs/InP双异质结晶体管(DHBT),其中发射结采用δ掺杂和阻挡层结构,集电极采用N^+掺杂复合结结构。考虑隧穿作用和发射结空间电荷区复合电流的影响,计算了δ掺杂浓度和N^+、n^-层厚度等参数变化对InGaAs/InP DHBT电流、I-V输出特性、电流增益的影响,计算结果表明,随着这些参数值增大,InGaAs/InP DHBT输出特性逐渐改善。当δ掺杂浓度大于2×10^(12)cm^(-3)时,电流增益趋于饱和。
关键词
InGaAs/InPDHBT
δ掺杂层
阻挡
层
复合集电极
I-V输出特性
双异质结晶体管
Keywords
δ - doping
composite collector
setback layer
I - V output characteristic
分类号
TN325.3 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
发射极δ掺杂的InGaAs/InP DHBT的特性分析
陈雷东
曹俊诚
齐鸣
徐安怀
李爱珍
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2003
0
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已选择
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参考文献
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