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μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜的周期性结构和量子尺寸效应 被引量:1
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作者 徐明 王洪涛 +5 位作者 冯良桓 周心明 蔡亚平 冯技文 徐宁 麦振洪 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期435-439,共5页
利用射频辉光放电法 ,通过周期性交替切换两种耦合电极的方式 ,制备了 μc- Si∶ H/a- Si∶ H多层膜 .低角度X射线衍射 (L AXRD)测试表明 ,这种多层膜具有良好的周期性结构 .观察了上述多层膜的光学性质及电导率与温度的关系 ,发现其吸... 利用射频辉光放电法 ,通过周期性交替切换两种耦合电极的方式 ,制备了 μc- Si∶ H/a- Si∶ H多层膜 .低角度X射线衍射 (L AXRD)测试表明 ,这种多层膜具有良好的周期性结构 .观察了上述多层膜的光学性质及电导率与温度的关系 ,发现其吸收边随着 a- Si∶ H层的减薄而蓝移 ,低温下的电导激活能 Ea 随着 a- Si∶ H层的减薄而减小 . 展开更多
关键词 射频辉光放电法 周期性结构 μc-si:h/a-si:h多 量子尺寸效应 半导体
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μc-Si:H/a-Si:H多层膜的制备及性质 被引量:1
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作者 郑家贵 冯良桓 +4 位作者 蔡伟 黄天荃 蔡亚平 罗昭和 周心明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第1期54-61,共8页
我们通过切换耦合电极的方法制备了μc-si:H/a-Si:H多层膜.这种多层膜的电导率呈各向异性,暗电导温度关系曲线可近似地看成由两条直线组成.随着 μc-Si:H亚层厚度的减小,喇曼谱中晶态峰降低,暗电导温度曲线的弯折点移向高温段.我们用纯... 我们通过切换耦合电极的方法制备了μc-si:H/a-Si:H多层膜.这种多层膜的电导率呈各向异性,暗电导温度关系曲线可近似地看成由两条直线组成.随着 μc-Si:H亚层厚度的减小,喇曼谱中晶态峰降低,暗电导温度曲线的弯折点移向高温段.我们用纯电阻模型和单量子阱模型进行了讨论. 展开更多
关键词 非晶硅 半导体 多层 制造 a-si:h
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a-Si∶H/Al/a-Si∶H三层复合膜的低温晶化研究 被引量:2
3
作者 王瑞春 杜丕一 +4 位作者 沈鸽 翁文剑 韩高荣 赵高凌 张溪文 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第3期234-238,共5页
采用真空热蒸发与PECVD方法 ,在特殊设计的“单反应室双沉积法”薄膜沉积设备中沉积a Si∶H/Al/a Si∶H三层复合薄膜 ,并利用XRD ,XPS及SEM等方法对薄膜在不同温度退火后的晶化行为进行了研究。结果表明 ,随着热处理过程的进行 ,金属Al... 采用真空热蒸发与PECVD方法 ,在特殊设计的“单反应室双沉积法”薄膜沉积设备中沉积a Si∶H/Al/a Si∶H三层复合薄膜 ,并利用XRD ,XPS及SEM等方法对薄膜在不同温度退火后的晶化行为进行了研究。结果表明 ,随着热处理过程的进行 ,金属Al逐步向表面扩散 ,在金属Al锈导下a Si∶H层出现晶化的温度不高于 2 5 0℃。在Al层厚度低于 2 2nm时 ,a Si∶H向晶态硅转变的量随着Al层厚度的增加而增加 ,而当Al层厚度大于 2 2nm后 ,a 展开更多
关键词 a-si:h/Al/a-si:h复合 低温晶化 多晶硅 铝诱导 真空热蒸发 半导体薄 PECVD
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a-Si:H薄膜太阳电池最佳i层厚度的分析与计算 被引量:1
4
作者 周炳卿 《内蒙古师范大学学报(自然科学汉文版)》 CAS 2003年第1期21-24,共4页
用自洽法计算了p i n型a-Si:H薄膜太阳电池中p i和i n两个分立势垒区中的电荷密度分布ρ(x)、电场分布ε(x)和耗尽层厚度XD.减少i层厚度使两个分立势垒区部分重叠,用电场叠加原理计算耗尽层中的电场分布,在此基础上,根据光生载流子的全... 用自洽法计算了p i n型a-Si:H薄膜太阳电池中p i和i n两个分立势垒区中的电荷密度分布ρ(x)、电场分布ε(x)和耗尽层厚度XD.减少i层厚度使两个分立势垒区部分重叠,用电场叠加原理计算耗尽层中的电场分布,在此基础上,根据光生载流子的全收集条件Lpmin=μpτpεmin,计算出a-Si:H薄膜太阳电池的最佳i层厚度Xb. 展开更多
关键词 a-si:h太阳电池 最佳i厚度 p-i-n型太阳电池 自洽法 电荷密度分布 电场分布 耗尽厚度
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a-Si:H/SiO2多层膜晶化过程中的发光机理
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作者 马忠元 韩培高 +7 位作者 李伟 陈三 钱波 徐骏 徐岭 黄信凡 陈坤基 冯端 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期76-79,共4页
采用在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中淀积a-Si:H薄膜结合原位等离子体氧化的技术,制备了一系列不同a-Si:H子层厚度的a-Si:H/SiO2多层膜.通过对其进行三步热处理:脱氢、快速热退火及准静态退火,使a-Si:H/SiO2多层膜中a-Si:H层... 采用在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中淀积a-Si:H薄膜结合原位等离子体氧化的技术,制备了一系列不同a-Si:H子层厚度的a-Si:H/SiO2多层膜.通过对其进行三步热处理:脱氢、快速热退火及准静态退火,使a-Si:H/SiO2多层膜中a-Si:H层发生非晶态到晶态的相变,获得尺寸可控的纳米硅nc-Si/SiO2多层膜.结合Raman谱,FTIR谱和TEM测试,对退火过程中多层膜的光致发光性质进行跟踪研究,分析了a-Si:H/SiO2多层膜在各个热处理阶段发光机理的演变,讨论了a-Si:H/SiO2多层膜晶化为nc-Si/SiO2多层膜过程中,发光机制与微结构之间的相互联系. 展开更多
关键词 a-si:h/SiO2多层 Nc-si 光致发光
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a-Si:H/a-SiN_x:H多层膜界面的研究
6
作者 王树林 程如光 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1989年第4期398-400,共3页
尽管过去几年对非晶半导体多层膜及其界面对多层膜传输性能影响的研究甚多,然而对于界面缺陷态的特性及其密度了解甚少。不同的测量方法得到的a-Si:H/a-SiNx:H界面缺陷态密度可从1010变到1012cm-2。这一实验结果反映了每一测试方法仅能... 尽管过去几年对非晶半导体多层膜及其界面对多层膜传输性能影响的研究甚多,然而对于界面缺陷态的特性及其密度了解甚少。不同的测量方法得到的a-Si:H/a-SiNx:H界面缺陷态密度可从1010变到1012cm-2。这一实验结果反映了每一测试方法仅能探测某些能级的缺陷,在某些情况下可能是不同类的缺陷。非晶硅系材料都包含有氢。已发现,在多层膜的沉积过程中。 展开更多
关键词 si:h SiN:h 半导体 多层 界面
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PECVD工艺参数对nc-Si∶H膜质量的影响 被引量:4
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作者 彭英才 刘明 何宇亮 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期277-280,共4页
研究了PECVD生长ncSi∶H膜过程中SiH4气体稀释比、平衡反应气压、衬底温度、等离子体射频功率和直流负偏压等各种工艺参数对生成膜层质量的影响。
关键词 nc-si:h 质量 工艺参数 PECVD
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共价键合铁卟啉有序多层膜电极的组装及其对H_2O_2的电催化还原 被引量:9
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作者 付亚琴 李晓芳 孙长青 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期2055-2059,共5页
以玻碳电极为基础电极 ,先用静电自组装方法将带负电荷的四磺酸基苯基铁卟啉和带正电荷的含重氮盐基团的重氮树脂在电极表面进行层 -层组装 ,然后在紫外光的照射下 ,使铁卟啉的磺酸基与重氮树脂的重氮基引发交联反应 ,使层与层之间的离... 以玻碳电极为基础电极 ,先用静电自组装方法将带负电荷的四磺酸基苯基铁卟啉和带正电荷的含重氮盐基团的重氮树脂在电极表面进行层 -层组装 ,然后在紫外光的照射下 ,使铁卟啉的磺酸基与重氮树脂的重氮基引发交联反应 ,使层与层之间的离子键变成共价键 ,从而使铁卟啉在电极表面形成稳定、有序、分子水平的层 -层构筑 .用 UV-Vis和 IR光谱表征了组装过程 ,用 CV方法研究了该电极的电化学性能 .结果表明 ,该电极不但具有非常优异的稳定性 ,而且对 H2 O2 的电还原反应也表现出很好的催化活性 . 展开更多
关键词 有序多层电极 组装 h2O2 电催化还原 有序分子 共价键合作用 铁卟啉 过氧化氢
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快速热退火对a_Si:H/SiO_2多层膜光致发光的影响 被引量:2
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作者 马忠元 韩培高 +6 位作者 黄信凡 隋妍萍 陈三钱波 李伟 徐岭 徐骏 陈坤基 《南京大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 2005年第1期55-60,共6页
采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影... 采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影响 .研究发现对a_Si:H/SiO2 多层膜作快速热退火处理 ,可获得位于绿光和红光两个波段的发光峰 .研究了不同退火条件下发光峰的变化 .通过对样品的TEM、Raman散射谱和红外吸收谱的分析 ,探讨了a_Si:H/SiO2 多层膜在不同退火温度下的光致发光机理 . 展开更多
关键词 a-si:h/SiO2多层 光致发光 快速热退火
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[SiMn(H2O)W11O39]6^-在玻碳电极上的多层组装膜修饰电极及电化学行为 被引量:3
10
作者 杜金艳 黄玉成 +1 位作者 吕桂琴 吴华强 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期293-295,299,共4页
采用电化学生长法制备包含杂多酸[SiMn(H2O)W11O39]6-(SiMnW11)和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极,利用循环伏安法研究其电化学行为、扫描速率的影响及其对BrO3-和NO2-体系还原的电催化性能。结果表明:SiMnW11多层膜增长均匀,峰电流... 采用电化学生长法制备包含杂多酸[SiMn(H2O)W11O39]6-(SiMnW11)和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极,利用循环伏安法研究其电化学行为、扫描速率的影响及其对BrO3-和NO2-体系还原的电催化性能。结果表明:SiMnW11多层膜增长均匀,峰电流随层数的增加而增加;多层膜的峰电流随扫速的增加而增加;SiMnW11修饰电极对BrO3-和NO2-的还原具有良好的电催化作用。在最佳的实验条件下,BrO3-的还原峰电流与其浓度在0.345~5.28 mmol.L-1范围内呈良好的线性关系,相关系数r=0.998,检出限8.8×10-5mol.L-1。 展开更多
关键词 [SiMn(h2O)W11O39]6^- 循环伏安 多层组装 电催化
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渐变组分a-Si∶H/a-SiC∶H膜内部电场的研究
11
作者 马瑾 韩圣浩 陆大荣 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1991年第2期219-223,共5页
本文报导了渐变组分 a-Si∶H/a-SiC∶H 膜的制备,研究了渐变膜的电学、光学特性,用 EHT 方法对 a-Si∶H 和 a-SiC∶H 的能态密度进行了计算。提出该渐变膜是一种连续变带隙材料,其内部存在自建电场,并从实验上确定了自建电场的方向。
关键词 a-si:h a-siC:h 渐变
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沉积条件和内应力对a-Si:H膜光致发光谱的影响
12
作者 王万录 高锦英 廖克俊 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1991年第5期31-33,共3页
实验研究表明,a-Si:H薄膜的光致发光谱随沉积条件,内应力的变化十分敏感。当射频功率、偏压及内应力增大时,发光峰值能量向低能方向移动,半宽带展宽,并且发光强度略有下降。文中对这些实验结果进行了解释。
关键词 a-si:h 沉积 内应力 发光谱
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等离子体沉积非晶SiO_x:H纳米膜层改性医用NiTi合金研究
13
作者 沈阳 王贵学 +3 位作者 张勤 葛淑萍 唐朝君 俞青松 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1372-1375,1378,共5页
采用等离子体沉积技术在医用NiTi合金表面制备非晶SiOx:H纳米膜层,并对改性后材料表面化学及膜层晶体结构等进行表征。结果表明,通过控制TMS和Ox两种单体流速比和沉积时间,可控制材料表面亲疏水性和SiOx:H纳米膜层厚度。反应沉积的... 采用等离子体沉积技术在医用NiTi合金表面制备非晶SiOx:H纳米膜层,并对改性后材料表面化学及膜层晶体结构等进行表征。结果表明,通过控制TMS和Ox两种单体流速比和沉积时间,可控制材料表面亲疏水性和SiOx:H纳米膜层厚度。反应沉积的SiOx:H具有非晶的结构。其最优化条件为:卢(TMS):μ(O2)-1:4,系统压力3.33Pa,D.C5W,沉积时间4min。所制备的膜层厚度约为45nm,表面去离子水接触角为30~40°。SiOx:H纳米膜层改性NiTi合金表面可提高材料的抗腐蚀性能。 展开更多
关键词 等离子体沉积SiOx: h纳米 医用Ni—Ti合金 表面改性
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SiN_x∶H/Al复合膜层在背点接触太阳电池中的应用
14
作者 陈达明 梁宗存 +3 位作者 沈辉 杨灼坚 梁学勤 邹禧武 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期472-475,共4页
尝试将SiNx∶H/Al复合膜层应用到晶体硅太阳电池的背部结构上。首先利用PECVD在硅片背面沉积一层SiNx∶H薄膜,然后在SiNx∶H薄膜上丝网印刷Al层,构成SiNx∶H/Al复合膜层。研究了具有SiNx∶H/Al复合膜层结构的硅片的光学内背反射性能,测... 尝试将SiNx∶H/Al复合膜层应用到晶体硅太阳电池的背部结构上。首先利用PECVD在硅片背面沉积一层SiNx∶H薄膜,然后在SiNx∶H薄膜上丝网印刷Al层,构成SiNx∶H/Al复合膜层。研究了具有SiNx∶H/Al复合膜层结构的硅片的光学内背反射性能,测得其内背反射率达88.9%。并从理论上设计出基于SiNx∶H/Al复合膜层的背点接触太阳电池最优结构,并从实验上制备出这种背点接触太阳电池,初期效率达12.36%。最后,提出了背点接触太阳电池工艺的改进方案。 展开更多
关键词 SiNx:h/Al复合 丝网印刷 内背反射率 背点接触太阳电池
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[SiNi(H_2O)W_(11)O_(39)]^(6-)多层组装膜修饰电极及其电化学行为
15
作者 杜金艳 吕桂琴 +1 位作者 郑传明 吴华强 《分析试验室》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期58-61,共4页
采用电化学生长法制备包含杂多酸[SiNi(H2O)W11O39]6-(SiNiW11)和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极,利用循环伏安法研究其电化学行为、pH的影响及其对BrO3-和NO2-体系还原的电催化性能;并对多层膜电化学过程机理进行了初步探讨。结果表... 采用电化学生长法制备包含杂多酸[SiNi(H2O)W11O39]6-(SiNiW11)和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极,利用循环伏安法研究其电化学行为、pH的影响及其对BrO3-和NO2-体系还原的电催化性能;并对多层膜电化学过程机理进行了初步探讨。结果表明:多层膜的增长均匀,峰电流随层数的增加而增加;多层膜的峰电流随扫速的增加而增加;还原峰的峰电位随pH的增加而负移。 展开更多
关键词 [SiNi(h2O)W11O39]^6- 循环伏安 多层组装 电催化
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双偶极半菁衍生物/H_4SiW_(12)O_(40)自组装多层膜的研究 被引量:7
16
作者 王丽颖 高丽华 王科志 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1877-1880,共4页
通过交替吸附H4SiW1 2 O40 和双偶极半菁衍生物制备了一个新颖的无机 -有机杂化自组装多层膜 .紫外可见光谱和X射线衍射研究证实了半菁衍生物 /H4SiW1 2 O40 多层膜可被均匀沉积厚达至少 12层 ,具有平均膜厚 5 3nm (半菁阳离子层加SiW1... 通过交替吸附H4SiW1 2 O40 和双偶极半菁衍生物制备了一个新颖的无机 -有机杂化自组装多层膜 .紫外可见光谱和X射线衍射研究证实了半菁衍生物 /H4SiW1 2 O40 多层膜可被均匀沉积厚达至少 12层 ,具有平均膜厚 5 3nm (半菁阳离子层加SiW1 2 O4-40 层 )的二维有序结构 ,膜中半菁衍生物与H4SiW1 2 O40 间发生了较强的电荷转移作用 .循环伏安研究表明 。 展开更多
关键词 双偶极半菁衍生物 h4SiW12O40 自组装 多层 杂多酸配合物 分子结构
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温度对a-Si:H/c-Si异质结太阳能电池光伏特性的影响 被引量:1
17
作者 曾喆方竹 钟春良 +2 位作者 隆雪燕 佘宏伟 杨迪武 《湖南工业大学学报》 2018年第2期43-48,共6页
运用开路电压解析模型和AMPS模拟分析温度对a-Si:H/c-Si异质结太阳能电池性能的影响及其机理。随着温度T的升高,热电压增大,开路电压V_(OC)减小。当T<270 K时,填充因子FF迅速增加;当T≥270 K时,FF保持不变,a-Si:H/c-Si异质结太阳能... 运用开路电压解析模型和AMPS模拟分析温度对a-Si:H/c-Si异质结太阳能电池性能的影响及其机理。随着温度T的升高,热电压增大,开路电压V_(OC)减小。当T<270 K时,填充因子FF迅速增加;当T≥270 K时,FF保持不变,a-Si:H/c-Si异质结太阳能电池的转化效率在T=270 K取得最佳值。低温工作时,空穴输运受到价带补偿界面势垒的限制,J-V曲线出现S-Shape现象,填充因子FF显著降低。 展开更多
关键词 太阳能电池 a-si:h/c-si异质结 温度 转换效率
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The study of a new n/p tunnel recombination junction and its application in a-Si:H/μc-Si:H tandem solar cells 被引量:6
18
作者 李贵君 侯国付 +5 位作者 韩晓艳 袁育洁 魏长春 孙建 赵颖 耿新华 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第4期1674-1678,共5页
This paper reports that a double N layer (a-Si:H/μc-Si:H) is used to substitute the single microcrystalline silicon n layer (n-μc-Si:H) in n/p tunnel recombination junction between subcells in a-Si:H/μc-Si... This paper reports that a double N layer (a-Si:H/μc-Si:H) is used to substitute the single microcrystalline silicon n layer (n-μc-Si:H) in n/p tunnel recombination junction between subcells in a-Si:H/μc-Si:H tandem solar cells. The electrical transport and optical properties of these tunnel recombination junctions are investigated by current voltage measurement and transmission measurement. The new n/p tunnel recombination junction shows a better ohmic contact. In addition, the n/p interface is exposed to the air to examine the effect of oxidation on the tunnel recombination junction performance. The open circuit voltage and FF of a-Si:H/μc-Si:H tandem solar cell are all improved and the current leakage of the subcells can be effectively prevented efficiently when the new n/p junction is implemented as tunnel recombination junction. 展开更多
关键词 double N layer tunnel recombination junction oxidation interface a-sih/μc-sih tan-dem solar cell
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α-Si:H多层膜切面电镜观察分析
19
作者 惠恒荣 徐玉辉 唐方奎 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第1期77-80,共4页
本文制备了六种不同结构的 α-Si:H 多层膜结构,对其切面进行了扫描电镜观察分析.结果表明:辉光法生长 α-Si:H 膜过程中存在沉积和刻蚀一对对抗性矛盾,在常规工艺下各层界面不明显存在,在特殊条件下,可能生长出尺度不同的微晶镶嵌在非... 本文制备了六种不同结构的 α-Si:H 多层膜结构,对其切面进行了扫描电镜观察分析.结果表明:辉光法生长 α-Si:H 膜过程中存在沉积和刻蚀一对对抗性矛盾,在常规工艺下各层界面不明显存在,在特殊条件下,可能生长出尺度不同的微晶镶嵌在非晶网络中。 展开更多
关键词 α-Si:h 多层 扫描电镜
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a-Si:O:H钝化膜 被引量:1
20
作者 孙金坛 邹永庆 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第1期13-15,共3页
本文报道了用等离子放电SiH_4+H_2+H_2O混合气体淀积的氢化非晶硅氧合金膜,均匀、致密、耐腐蚀、半绝缘、电中性、富含氢,是较理想的半导体器件表面钝化膜.兼有SiO_2和a-Si_2H的优点,而又克服了它们各自的缺点.用氢化非晶硅氧合金膜钝... 本文报道了用等离子放电SiH_4+H_2+H_2O混合气体淀积的氢化非晶硅氧合金膜,均匀、致密、耐腐蚀、半绝缘、电中性、富含氢,是较理想的半导体器件表面钝化膜.兼有SiO_2和a-Si_2H的优点,而又克服了它们各自的缺点.用氢化非晶硅氧合金膜钝化平面晶体管,不仅明显地改善了小电流放大系数,而且放在盐水里浸几个小时后,特性不变. 展开更多
关键词 半导体 钝化 a-si:O:h
全文增补中
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