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“楔形”TEM样品的机械研磨制备技术 被引量:3
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作者 张启华 赵燕丽 +3 位作者 高强 李明 牛崇实 简维廷 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第3期248-251,共4页
介绍了一种用机械研磨法制备集成电路TEM楔形样品的技术,讨论了该制样技术所需注意的关键点,并给出了判断样品薄区是否满足TEM分析要求的两种方法。楔形样品减薄技术兼具制样速度快和样品质量好的优点。该技术既可用于制备非定点TEM样品... 介绍了一种用机械研磨法制备集成电路TEM楔形样品的技术,讨论了该制样技术所需注意的关键点,并给出了判断样品薄区是否满足TEM分析要求的两种方法。楔形样品减薄技术兼具制样速度快和样品质量好的优点。该技术既可用于制备非定点TEM样品,也可用于制备定点的TEM样品。给出了用该技术制备的定点失效的MOS器件TEM照片。熟练的技术人员可以用此方法在半小时内完成一个样品的制备。 展开更多
关键词 机械研磨 透射电子显微镜 样品制备 “楔形”机械研磨
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