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0.5μm SOI CMOS器件和电路 被引量:1
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作者 刘新宇 孙海峰 +1 位作者 海朝和 吴德馨 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期660-663,共4页
研究了 0 .5μm SOI CMOS器件和电路 ,开发出成套的 0 .5μm SOI CMOS工艺 .经过工艺投片 ,获得了性能良好的器件和电路 ,其中当工作电压为 3V时 ,0 .5μm 10 1级环振单级延迟为 42 ps.同时 ,对部分耗尽 SOI器件特性 ,如“浮体”效应、... 研究了 0 .5μm SOI CMOS器件和电路 ,开发出成套的 0 .5μm SOI CMOS工艺 .经过工艺投片 ,获得了性能良好的器件和电路 ,其中当工作电压为 3V时 ,0 .5μm 10 1级环振单级延迟为 42 ps.同时 ,对部分耗尽 SOI器件特性 ,如“浮体”效应、“kink” 展开更多
关键词 “浮体”效应 反常亚阈值特性 SOI CMOS器件
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