陶瓷真空灭弧室一次封排工艺

介绍了陶瓷真空灭弧室“一次封排”工艺采用的阶梯焊料、排气间隙,提出了封接模具设计原则和灭弧室设计要点,研究了灭弧室用材料的放气特性,提出了制定“一次封排”工艺的升温、保温、降温曲线原则.

真空灭弧室的一次封排工艺

以真空灭弧室的一次封排工艺的真空度质量为主 ,对真空灭弧室有关的设计、工艺流程等方面进行讨论 ;

真空断路器技术的进步

近20年来,真空断路器有了很大的发展,这得益于真空断路器技术的进步。真空断路器技术的进步表现在大容量化、低过电压化、智能化和小型化。而这一进步又是由于真空技术、灭弧室技术的发展及采用新工艺、新材料及新操动技术的结果。