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日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术
1
作者
周永香
崔永恒
《蔬菜》
2014年第3期38-39,共2页
应用一绳双蔓栽培技术,可有效提高种植密度,提高日光温室光热资源利用率。在行距70 cm情况下,一绳双蔓栽培较双绳双蔓栽培株距由50 cm降至30 cm,667 m2种植密度由2 380株提高到3 170株。每667 m2可多定植790株,单瓜质量在1.6 kg左右,667...
应用一绳双蔓栽培技术,可有效提高种植密度,提高日光温室光热资源利用率。在行距70 cm情况下,一绳双蔓栽培较双绳双蔓栽培株距由50 cm降至30 cm,667 m2种植密度由2 380株提高到3 170株。每667 m2可多定植790株,单瓜质量在1.6 kg左右,667 m2可增加西瓜产量1 200 kg以上,增收6 000元左右。
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关键词
日光温室
小型西瓜
一绳双蔓
高产
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职称材料
题名
日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术
1
作者
周永香
崔永恒
机构
北京市通州区农业技术推广站
出处
《蔬菜》
2014年第3期38-39,共2页
文摘
应用一绳双蔓栽培技术,可有效提高种植密度,提高日光温室光热资源利用率。在行距70 cm情况下,一绳双蔓栽培较双绳双蔓栽培株距由50 cm降至30 cm,667 m2种植密度由2 380株提高到3 170株。每667 m2可多定植790株,单瓜质量在1.6 kg左右,667 m2可增加西瓜产量1 200 kg以上,增收6 000元左右。
关键词
日光温室
小型西瓜
一绳双蔓
高产
分类号
S651 [农业科学—果树学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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操作
1
日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术
周永香
崔永恒
《蔬菜》
2014
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