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用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅 被引量：3
1
作者 孙加兴 叶甜春 +2 位作者 陈大鹏 谢常青 伊福庭 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期358-360,共3页
采用三层胶工艺 X射线光刻制作 T型栅 ,一次曝光 ,分步显影 ,基本解决了不同胶层间互融的问题 .该方法制作效率高 ,所制作的 T型栅形貌好 ,头脚比例可控 ,基本满足器件制作要求 .
关键词 X射线光刻 PHEMT T型栅 三层胶工艺
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三层胶工艺研究及其在IC's中的应用 被引量：1
2
作者 余山 章定康 黄敞 《微细加工技术》 1992年第1期59-64,共6页
在现有国产光刻设备的基础上,研制成功了能够复印出亚微米图形的三层胶工艺,并用于制作亚微米电路。
关键词 三层胶工艺 集成电路 应用
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