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三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料的三阶非线性光学特性 被引量:7
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作者 顾玉宗 干福熹 +1 位作者 尹国盛 余保龙 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期144-147,共4页
通过单光束Z扫描技术 ,在波长为 1.0 6 4μm和 5 32nm、脉宽为 38ps条件下研究了一种新的酞菁相关化合物三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料的三阶非线性光学特性。观察到在 1.0 6 4μm(离强吸收带很远 )下的双光子吸收和在 5 32nm下的反饱... 通过单光束Z扫描技术 ,在波长为 1.0 6 4μm和 5 32nm、脉宽为 38ps条件下研究了一种新的酞菁相关化合物三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料的三阶非线性光学特性。观察到在 1.0 6 4μm(离强吸收带很远 )下的双光子吸收和在 5 32nm下的反饱和吸收现象 ,并计算出了相应的非线性吸收系数。在 1.0 6 4μm下的非共振三阶非线性极化率和在 5 32nm下的共振三阶非线性极化率 χ(3 ) 分别为 6 .1× 10 - 1 2 esu和 6 .7× 10 - 1 0 esu ,显著大于相关酞菁的值。这些结果表明三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料在非线性光学方面具有潜在的应用前景。 展开更多
关键词 三阶非线性 非线性吸收 Z扫描技术 非线性光学 共振 三新戊氧基溴硼亚酞菁 薄膜材料
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三-α-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)溴硼亚酞菁合成与性质研究 被引量:1
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作者 夏春辉 左霞 +1 位作者 程义伟 吴谊群 《黑龙江大学自然科学学报》 CAS 北大核心 2005年第3期301-304,308,共5页
采用3-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)邻苯二甲腈(即分子碎片)与三溴化硼反应,合成了一种未见文献报导的三-α-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)溴硼亚酞菁,采用元素分析、激光解吸电离飞行时间质谱(MALDI-TOF-MS)、IR对配合物进行了表征,并研究配合... 采用3-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)邻苯二甲腈(即分子碎片)与三溴化硼反应,合成了一种未见文献报导的三-α-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)溴硼亚酞菁,采用元素分析、激光解吸电离飞行时间质谱(MALDI-TOF-MS)、IR对配合物进行了表征,并研究配合物电子吸收光谱和光稳定性。 展开更多
关键词 三-α-(2 2 4-三甲基-3-氧基)酞菁 合成 光谱性质 光稳定性
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