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电子束设备蒸镀铝膜工艺的研究
1
作者
付学成
瞿敏妮
+3 位作者
权雪玲
乌李瑛
王英
程秀兰
《真空》
CAS
2024年第6期1-6,共6页
利用电子束蒸镀设备沉积高质量铝膜是薄膜工艺的一个难题。为此,提出一种采用改造的三氧化二铝坩埚作为蒸镀铝膜的衬锅,通过三次添加物料预熔再蒸镀来沉积铝膜的方法,研究了不同蒸镀速度对铝膜电阻率、晶粒形貌和成分组成的影响。结果表...
利用电子束蒸镀设备沉积高质量铝膜是薄膜工艺的一个难题。为此,提出一种采用改造的三氧化二铝坩埚作为蒸镀铝膜的衬锅,通过三次添加物料预熔再蒸镀来沉积铝膜的方法,研究了不同蒸镀速度对铝膜电阻率、晶粒形貌和成分组成的影响。结果表明:凸起状的熔融铝液面能有效增大其与坩埚壁的接触角,基本消除铝膜中的三氧化二铝杂质;随着蒸镀速度的增加,铝膜晶粒尺寸逐渐增大,而平均电阻率呈下降趋势;采用本方法能够制备出纯度99.9%,电阻率最低为3.4×10^(-6)Ω·cm的铝膜。
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关键词
电子束蒸发
铝膜
水冷
坩埚
三氧化二铝坩埚
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职称材料
题名
电子束设备蒸镀铝膜工艺的研究
1
作者
付学成
瞿敏妮
权雪玲
乌李瑛
王英
程秀兰
机构
上海交通大学先进电子材料与器件平台
出处
《真空》
CAS
2024年第6期1-6,共6页
基金
上海市2022年度“科技创新行动计划”集成电路领域项目(22501100800)。
文摘
利用电子束蒸镀设备沉积高质量铝膜是薄膜工艺的一个难题。为此,提出一种采用改造的三氧化二铝坩埚作为蒸镀铝膜的衬锅,通过三次添加物料预熔再蒸镀来沉积铝膜的方法,研究了不同蒸镀速度对铝膜电阻率、晶粒形貌和成分组成的影响。结果表明:凸起状的熔融铝液面能有效增大其与坩埚壁的接触角,基本消除铝膜中的三氧化二铝杂质;随着蒸镀速度的增加,铝膜晶粒尺寸逐渐增大,而平均电阻率呈下降趋势;采用本方法能够制备出纯度99.9%,电阻率最低为3.4×10^(-6)Ω·cm的铝膜。
关键词
电子束蒸发
铝膜
水冷
坩埚
三氧化二铝坩埚
Keywords
electron beam evaporation
aluminum film
water-cooled crucible
alumina crucible
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
电子束设备蒸镀铝膜工艺的研究
付学成
瞿敏妮
权雪玲
乌李瑛
王英
程秀兰
《真空》
CAS
2024
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