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电磁复合场三级几何像差方程的修正与像差系数
被引量:
3
1
作者
杨立才
张玉林
陈振生
《微细加工技术》
1996年第1期7-16,共10页
本文基于作者提出的“函数逼近的数值迭代概念”,修正了电磁复合场中电子成像系统的三级几何像差方程式,给出了具有更高精度的像差计算公式和用集中参数形式描述的像差系数表达式,为像差的数值计算和电子光学系统的计算机优化设计提...
本文基于作者提出的“函数逼近的数值迭代概念”,修正了电磁复合场中电子成像系统的三级几何像差方程式,给出了具有更高精度的像差计算公式和用集中参数形式描述的像差系数表达式,为像差的数值计算和电子光学系统的计算机优化设计提供了实用的理论依据。
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关键词
电子光学
像差
电磁复合场
三级几何像差
下载PDF
职称材料
题名
电磁复合场三级几何像差方程的修正与像差系数
被引量:
3
1
作者
杨立才
张玉林
陈振生
机构
山东工业大学自动化系
出处
《微细加工技术》
1996年第1期7-16,共10页
文摘
本文基于作者提出的“函数逼近的数值迭代概念”,修正了电磁复合场中电子成像系统的三级几何像差方程式,给出了具有更高精度的像差计算公式和用集中参数形式描述的像差系数表达式,为像差的数值计算和电子光学系统的计算机优化设计提供了实用的理论依据。
关键词
电子光学
像差
电磁复合场
三级几何像差
Keywords
electron optics
aberration, electron beam lithography
electron microscope
分类号
O463.1 [机械工程—光学工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电磁复合场三级几何像差方程的修正与像差系数
杨立才
张玉林
陈振生
《微细加工技术》
1996
3
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职称材料
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