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镍表面三维微图形的复制加工
被引量:
2
1
作者
刘柱方
蒋利民
+5 位作者
汤儆
张力
田中群
田昭武
刘品宽
孙立宁
《电化学》
CAS
CSCD
2004年第3期249-253,共5页
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)...
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工.
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关键词
镍
三维微图形
复制加工
约束刻蚀剂层技术
化学刻蚀
捕捉体系
微
系统技术
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职称材料
新型智能电化学微加工系统的研究
被引量:
4
2
作者
刘品宽
孙立宁
+2 位作者
荣伟彬
蒋利民
田昭武
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第6期83-87,共5页
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻...
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻蚀加工 ,复制出微孔阵列 ,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好 。
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关键词
智能电化学
微
加工系统
约束刻蚀剂层技术
压电陶瓷驱动器
半导体
三维
超
微
图形
复制加工技术
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职称材料
题名
镍表面三维微图形的复制加工
被引量:
2
1
作者
刘柱方
蒋利民
汤儆
张力
田中群
田昭武
刘品宽
孙立宁
机构
厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室
哈尔滨工业大学机器人研究所
出处
《电化学》
CAS
CSCD
2004年第3期249-253,共5页
基金
科技部 863计划项目 (2 0 0 2AA40 41 70 )资助
文摘
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工.
关键词
镍
三维微图形
复制加工
约束刻蚀剂层技术
化学刻蚀
捕捉体系
微
系统技术
Keywords
Confined etchant layer technique (CELT), Nickel, 3D-microfabrication, Chemical etching, Electrochemistry
分类号
TG176 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
新型智能电化学微加工系统的研究
被引量:
4
2
作者
刘品宽
孙立宁
荣伟彬
蒋利民
田昭武
机构
哈尔滨工业大学机器人研究所
厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第6期83-87,共5页
基金
国家自然科学基金 ( 2 98330 70
50 1750 19)资助项目
文摘
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻蚀加工 ,复制出微孔阵列 ,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好 。
关键词
智能电化学
微
加工系统
约束刻蚀剂层技术
压电陶瓷驱动器
半导体
三维
超
微
图形
复制加工技术
Keywords
Confined Etchant Layer Technique, Nanopositioning, Piezo actuator
分类号
TH705 [机械工程—精密仪器及机械]
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职称材料
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作者
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1
镍表面三维微图形的复制加工
刘柱方
蒋利民
汤儆
张力
田中群
田昭武
刘品宽
孙立宁
《电化学》
CAS
CSCD
2004
2
下载PDF
职称材料
2
新型智能电化学微加工系统的研究
刘品宽
孙立宁
荣伟彬
蒋利民
田昭武
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002
4
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职称材料
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